JP2023523532A - 光硬化性ポリマー組成物 - Google Patents
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Abstract
本発明は、ステレオリソグラフィーによって物品を3次元(3D)印刷するためのポリマー配合物であって、本配合物が官能化ポリマーを含むポリマー配合物に関する。本発明は更に、前述のポリマー配合物を組み込んでいる3D物体を形成するためのリソグラフィー方法に関する。【選択図】なし
Description
関連出願
本出願は、2020年4月9日出願の米国仮特許出願第63/007,454号及び2020年7月14日出願の欧州特許出願公開第20185769.5号の優先権を主張するものであり、これらの出願のそれぞれの全内容は、あらゆる目的のために参照により本明細書に援用される。
本出願は、2020年4月9日出願の米国仮特許出願第63/007,454号及び2020年7月14日出願の欧州特許出願公開第20185769.5号の優先権を主張するものであり、これらの出願のそれぞれの全内容は、あらゆる目的のために参照により本明細書に援用される。
本発明は、物品をステレオリソグラフィーによって3次元(3D)印刷するためのポリマー配合物であって、官能化ポリマーと架橋剤とを含む配合物に関する。本発明は更に、前述のポリマー配合物を組み込んでいる3D物体を形成するためのリソグラフィー方法に関する。
ポリマー組成物は、例えば、エンジンパーツとしての、自動車及び航空宇宙産業のための物品並びに例えば埋込式デバイス及び歯科用人工装具としての、ヘルスケア産業における物品を製造するために一般に使用されている。これらの物品は、製造後に良好な機械的特性を示さなければならないが、それらは、とりわけその使用温度(ときに150℃超)で経時的にこれらの特性の十分な百分率も保持しなければならない。
ポリマー材料からの3D物品のフォトファブリケーションのためのリソグラフィープロセスは、それらの相対速度及び簡単さのために最近人気を得ている。一般に、リソグラフィープロセスは、重合性配合物を特定の場所で局部的に硬化させるために、光、例えばUV照射の使用を含む。局部的な硬化は、3次元物品の製造を可能にする。
リソグラフィープロセスは、パーツを良好な解像度で得るために液体である重合性配合物を一般に使用する。室温で液体である重合性配合物は、印刷プロセスで使用するのがより容易であるが、それらは、一般に、並みの機械的特性及び熱安定性を有する物品をもたらす。
リソグラフィープロセスで使用されるポリマー系材料は、印刷条件下で液体状態である必要がある。高性能ポリマーなどの特定のポリマー系材料については、これは、ガラス転移温度(Tg)又は溶融温度(Tm)を超えて加熱する必要があることを意味する。これらは、光重合性又は架橋性である官能基、すなわち、重合性配合物の層を照射する際の印刷プロセス中に反応する官能基を有する必要もある。リソグラフィー法を高性能ポリマーに適用する際の課題の1つは、光重合性官能基の熱重合を回避しながらも、材料が高温で熱安定性を維持する必要があることである。
別の課題は、有効な光重合性基の特定、及び印刷される材料にそれらを付加してポリマー系材料を光重合性にするための合成方法である。
リソグラフィープロセスにおいて使用される価値のある重合性配合物の特定における別の課題は、フォトファブリケーション後に良好な機械的特性を示す、且つ、高温、例えば150℃よりも上への暴露後にこれらの機械的特性を実質的に保持する3D物品を製造することができなければならないことである。
本発明の重合性配合物は、例えば室温又はより高温で行うことができる3D印刷プロセスによく適した解決手段を提供する。
国際公開第2020/074332A1号パンフレット(Solvay)は、光重合性末端基を含む低分子量のポリマーを含有するポリマー配合物(F)に関する。低分子量であるため、すなわち鎖長が短いため、光重合性基の濃度が高く、これらのポリマーは良好な印刷適性を示す。
Mehmood Mian Farrukhらの論文「Solvent-stable UV-cured acrylic polysulfone membranes」(2016)は、ポリマードープのUV硬化とそれに続く非溶媒誘起相分離プロセスによって調製されるポリスルホンベースの膜に対するアクリル樹脂の存在の影響に関する。
M.Sangermanoらの論文「Synthesis,preparation and characterization of UV-cured methacrylated polysulfone-based membranes」(2015)は、ネットワーク化されたポリスルホン膜の作製のための、非溶媒誘起相分離(NIPS)とUV硬化プロセスとを含む2段階の方法に関する。
これらの2つの論文には、本発明のポリ(アリールエーテルスルホン)(PAES)ポリマー(P)も、ポリマー(P)上の光硬化性基の存在のため印刷及び硬化後にポリマー(P)と高分子量ネットワークを形成する多官能性光架橋剤の使用も記載されていない。
本発明の重合性配合物は、高温3D印刷プロセスに適した解決手段を提供し、また良好な印刷性を達成するために、及び優れた機械的特性を有する3D印刷されたパーツを得るために、低濃度の光重合性基を有する高分子量ポリマー配合物から3D印刷された物品を製造することを可能にする。
本発明は、多官能性光架橋剤と組み合わされた、少なくとも1つの光重合性末端基、好ましくは2つの光重合性末端基を含むポリ(アリールエーテルスルホン)(PAES)ポリマーであるポリマー(P)を含むポリマー配合物(F)に関する。
このポリマー配合物(F)は、例えば、フォトファブリケーションプロセスにおいて使用することができる。特に、本発明の配合物(F)は、光が官能化ポリマーを硬化させるために使用されるリソグラフィープロセスに組み込むことができる。本発明の配合物(F)は、目に見える変化なしにポリマー(P)のTgの下又は上の温度で液体状態に変え、次いでUV光の照射によって硬化させて、高いTg、高い機械的特性及び高い熱安定性を有する高い熱特性材料を製造することができる。本発明の配合物(F)は、3D印刷リソグラフィープロセスにおいて有効に使用することができる。
本発明はまた、3次元(3D)物品を付加製造システムで製造する方法であって、
- 本発明によるポリマー配合物(F)を提供する工程と、
- 3D物品の層をポリマー配合物(F)から印刷する工程と
を含む方法に関する。
- 本発明によるポリマー配合物(F)を提供する工程と、
- 3D物品の層をポリマー配合物(F)から印刷する工程と
を含む方法に関する。
本発明の別の実施形態によれば、印刷工程は、ポリマー配合物(F)にUV光又は可視光を照射することを含む。UV光は例えばレーザー光であり得る。
本発明はまた、上に記載された方法によって、少なくとも部分的に、得られる3D物品、及びステレオリソグラフィー(SLA)による3D物体の製造のための、ポリマー配合物(F)の使用に関する。
本発明は、3次元(3D)物品のフォトファブリケーションのためのリソグラフィープロセスに例えば使用することができるPAESポリマー(P)を含む配合物(F)に関する。
ステレオリソグラフィーは、光、例えば紫外(UV)光又は可視光の焦点を架橋性フォトポリマー樹脂の液槽に合わせることによって機能する付加製造(AM)プロセスである。次いで、複雑な3D構造物を層ごとの方式で構築することができる。
本明細書に記載のポリマー(P)は、架橋剤と組み合わされて、例えば、ステレオリソグラフィー技術(SLA)、インクジェット技術、直接インク書込み(DIW)、又はデジタルライトプロセッシング(DLP)を用いて、物品を製造するために3D印刷され得る。
本発明は、1種のポリ(アリールエーテルスルホン)(PAES)ポリマー(P)を含むポリマー配合物(F)であって、ポリマー(P)が官能化されているポリマー配合物(F)に関する。より正確には、ポリマー(P)は、式(M1)又は(M2)の少なくとも1つの末端基を含む:
(式中、
- R2はH又はCH3であり、
- Xは、結合又は(CH2)nであり、nは、1~20、例えば1~10又は1~8の範囲であり、好ましくは1又は2である)。
- R2はH又はCH3であり、
- Xは、結合又は(CH2)nであり、nは、1~20、例えば1~10又は1~8の範囲であり、好ましくは1又は2である)。
ポリマー(P)は、好ましくは式(M1)又は(M2)の2つの末端基、より好ましくは式(M1)の2つの末端基、更に好ましくはR2がHである式(M1)の2つの末端基を含む。
本発明によれば、ポリマー(P)の数平均分子量(Mn)は、移動相としての塩化メチレンとポリスチレン標準とを使用するゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によって測定したときに、少なくとも12,000g/mol、少なくとも13,000g/mol、少なくとも14,000g/mol、少なくとも15,000g/mol、少なくとも17,000g/mol、又は少なくとも20,000g/molである。好ましくは、ポリマー(P)の数平均分子量(Mn)は、50,000g/mol未満、又は40,000g/mol未満である。
本発明の官能化ポリマー(P)を含む配合物(F)は、フォトファブリケーションプロセスにおいて使用することができる。特に、本発明のポリマー(P)及びポリマー配合物(F)は、光が官能化ポリマーを硬化させるために使用されるリソグラフィープロセスに組み込むことができる。
本発明の配合物の架橋能力は、フォトレオロジーによって評価することができる。本発明の配合物(F)は、印刷すると、例えばUV光や可視光などの光を配合物に照射すると、液体から固体に変化する。変化は回転レオメーターで測定することができる。液体樹脂から固体への移行は、貯蔵弾性率G’と損失弾性率G’’の増加として現れる。G’とG’’のクロスオーバーはゲル化点に近似しており、これはネットワーク形成時の液体からゲルへの変換を意味する。ゲル化点は、高品質な印刷された構造を実現するための重要な工学的パラメータである。配合物のG’を測定することで、印刷されたパーツの剛性を評価することができ、したがって印刷された樹脂の次の層を支持する能力を評価することができる。G’とG’’のクロスオーバーは、架橋速度と液体-固体の移行時間の指標を与える。
光重合性(又は架橋性)ポリマー(P)に加えて、本発明の配合物(F)は、
- 少なくとも1種の多官能性アクリレートと、
- 少なくとも1種の溶媒と、
- 任意選択的な少なくとも1種の光開始剤と、
- 任意選択的な少なくとも1種のブロッカーと
も含む。
- 少なくとも1種の多官能性アクリレートと、
- 少なくとも1種の溶媒と、
- 任意選択的な少なくとも1種の光開始剤と、
- 任意選択的な少なくとも1種のブロッカーと
も含む。
本発明の配合物(F)は、好ましくは液体である。例えば、配合物(F)は室温以上で液体である。
多官能性アクリレートは、架橋剤として配合物(F)に添加される。すなわち、ポリマー(P)上の光硬化性の存在のため、印刷及び硬化後にポリマー(P)と高分子量ネットワークを形成する。
本発明によれば、光開始剤は、とりわけ、吸収された光エネルギー、UV又は可視光を、開始化学種、例えばフリーラジカル又はカチオンの形態の化学エネルギーに変換するために配合物に添加される化合物である。
本発明によれば、ブロッカーは、光開始剤によって生み出された未使用のラジカルを捕捉するか或いは入射UVエネルギーの一部を吸収するために添加される化合物である。この化合物は、製造されるパーツの寸法正確性の向上を可能にする。
本発明に記載されるポリマー(P)は、(メタ)アクリレート部分(M1)及び/又はスチレン(M2)である、官能基で官能化されている。官能基は、例えば、ポリマー鎖の両端などのポリマー鎖の少なくとも一端での「末端官能基化」として重合後修飾として導入される。
本発明の配合物(F)は、2種以上のポリマー(P)、例えば2種又は3種の異なるポリマー(P)を含むことができる。
ポリ(アリールエーテルスルホン)(PAES)
Pは、好ましくは下記式(L):
(式中、
- 各R1は、芳香環ごとに独立して、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、エーテル、チオエーテル、カルボン酸、エステル、アミド、イミド、アルカリ又はアルカリ土類金属スルホネート、アルキルスルホネート、アルカリ又はアルカリ土類金属ホスホネート、アルキルホスホネート、アミン、及び第四級アンモニウムからなる群から選択され;
- 各iは、芳香環ごとに独立して、ゼロ又は1~4の整数であり;
- Tは、結合、-CH2-;-O-;-SO2-;-S-;-C(O)-;-C(CH3)2-;-C(CF3)2-;-C(=CCl2)-;-C(CH3)(CH2CH2COOH)-;-N=N-からなる群から選択され;
- RaC=CRb-(各Ra及びRbは、互いに独立して、水素、C1~C12アルキル基、C1~C12アルコキシ基、C6~C18アリール基である);mが1~6の整数の-(CH2)m-及び-(CF2)m-;6個以下の炭素原子の直鎖若しくは分岐の脂肪族二価基;並びにそれらの組み合わせである)の繰り返し単位(RPAES)を有するPAESである。
Pは、好ましくは下記式(L):
- 各R1は、芳香環ごとに独立して、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、エーテル、チオエーテル、カルボン酸、エステル、アミド、イミド、アルカリ又はアルカリ土類金属スルホネート、アルキルスルホネート、アルカリ又はアルカリ土類金属ホスホネート、アルキルホスホネート、アミン、及び第四級アンモニウムからなる群から選択され;
- 各iは、芳香環ごとに独立して、ゼロ又は1~4の整数であり;
- Tは、結合、-CH2-;-O-;-SO2-;-S-;-C(O)-;-C(CH3)2-;-C(CF3)2-;-C(=CCl2)-;-C(CH3)(CH2CH2COOH)-;-N=N-からなる群から選択され;
- RaC=CRb-(各Ra及びRbは、互いに独立して、水素、C1~C12アルキル基、C1~C12アルコキシ基、C6~C18アリール基である);mが1~6の整数の-(CH2)m-及び-(CF2)m-;6個以下の炭素原子の直鎖若しくは分岐の脂肪族二価基;並びにそれらの組み合わせである)の繰り返し単位(RPAES)を有するPAESである。
いくつかの実施形態では、本発明のポリマー(P)は、
- 少なくとも式(L)の繰り返し単位(RPAES):
及び
- 式(M)の少なくとも1つの末端基:
を含み、式中、
- 各R1は、芳香環ごとに独立して、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、エーテル、チオエーテル、カルボン酸、エステル、アミド、イミド、アルカリ又はアルカリ土類金属スルホネート、アルキルスルホネート、アルカリ又はアルカリ土類金属ホスホネート、アルキルホスホネート、アミン、及び第四級アンモニウムからなる群から選択され;
- 各iは、芳香環ごとに独立して、ゼロ又は1~4の整数であり;
- Tは、結合、-CH2-;-O-;-SO2-;-S-;-C(O)-;-C(CH3)2-;-C(CF3)2-;-C(=CCl2)-;-C(CH3)(CH2CH2COOH)-;-N=N-からなる群から選択され;
- RaC=CRb-(各Ra及びRbは、互いに独立して、水素、C1~C12アルキル基、C1~C12アルコキシ基、C6~C18アリール基である);mが1~6の整数の-(CH2)m-及び-(CF2)m-;6個以下の炭素原子の直鎖若しくは分岐の脂肪族二価基;並びにそれらの組み合わせであり;
- R2は、H又はCH3である。
- 少なくとも式(L)の繰り返し単位(RPAES):
- 式(M)の少なくとも1つの末端基:
- 各R1は、芳香環ごとに独立して、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、エーテル、チオエーテル、カルボン酸、エステル、アミド、イミド、アルカリ又はアルカリ土類金属スルホネート、アルキルスルホネート、アルカリ又はアルカリ土類金属ホスホネート、アルキルホスホネート、アミン、及び第四級アンモニウムからなる群から選択され;
- 各iは、芳香環ごとに独立して、ゼロ又は1~4の整数であり;
- Tは、結合、-CH2-;-O-;-SO2-;-S-;-C(O)-;-C(CH3)2-;-C(CF3)2-;-C(=CCl2)-;-C(CH3)(CH2CH2COOH)-;-N=N-からなる群から選択され;
- RaC=CRb-(各Ra及びRbは、互いに独立して、水素、C1~C12アルキル基、C1~C12アルコキシ基、C6~C18アリール基である);mが1~6の整数の-(CH2)m-及び-(CF2)m-;6個以下の炭素原子の直鎖若しくは分岐の脂肪族二価基;並びにそれらの組み合わせであり;
- R2は、H又はCH3である。
ある実施形態によれば、iは、各R1についてゼロである。言い換えれば、この実施形態によれば、
- 繰り返し単位(RPAES)は、下記式(L’’):
の単位であり、
- ポリマー(P)の末端基は、下記式(M’’):
に従い、
式中のT及びR2は上述した通りである。
- 繰り返し単位(RPAES)は、下記式(L’’):
- ポリマー(P)の末端基は、下記式(M’’):
式中のT及びR2は上述した通りである。
いくつかの実施形態では、Pは、(ポリマー中の総モル数を基準として)少なくとも50モル%の、式(L)、(L’)又は(L’’)の繰り返し単位を有するPAESであり、式(M)、(M’)又は(M’’)のうちの少なくとも1つの末端基を含む。
いくつかの実施形態では、(ポリマー中の総モル数を基準として)ポリマー(P)中の繰り返し単位の少なくとも60モル%、少なくとも70モル%、少なくとも80モル%、少なくとも90モル%、少なくとも95モル%、少なくとも99モル%又は全てが、式(L)、(L’)又は(L’’)の繰り返し単位(RPAES)であり、Pは、式(M)、(M’)又は(M’’)のうちの少なくとも1種の少なくとも1つの末端基、例えば式(M)、(M’)又は(M’’)のうちの2つの末端基を含む。
本発明の一実施形態によれば、Pは、Tが、結合、-SO2-、及び-C(CH3)2-からなる群から選択されるPAESである。
本発明の別の実施形態によれば、Pは、(ポリマー中の総モル数を基準として)少なくとも50モル%の式:
(式中、R1及びiは、上述の通りである)
からなる群から選択される繰り返し単位を有するPAESである。
からなる群から選択される繰り返し単位を有するPAESである。
この実施形態によれば、(ポリマー中の総モル数を基準として)ポリマー(P)中の繰り返し単位の少なくとも60モル%、少なくとも70モル%、少なくとも80モル%、少なくとも90モル%、少なくとも95モル%、少なくとも99モル%又は全てが、式(L-A)、(L-B)、及び/又は(L-C)の繰り返し単位(RPAES)であり、Pは、式(M)、(M’)又は(M’’)のうちの少なくとも1種の少なくとも1つの末端基、例えば式(M)、(M’)又は(M’’)のうちの2つの末端基を含む。
一実施形態によれば、Pは、Tが結合であるPAESである。言い換えれば、Pは、官能化ポリ(ビフェニルエーテルスルホン)(PPSU)である。
一実施形態によれば、Pは、
- 繰り返し単位の少なくとも50モル%(モル%はポリマー中の総モル数基準である)が式(L-A)の繰り返し単位(RPPSU)であり:
(式中、R1及びiは上述の通りである)と、
- 式(M1)又は(M2):
(式中、
- R2は、H又はCH3であり、
- Xは、結合であるか、nが1~20、例えば1~10又は1~8で変わる、好ましくは1又は2に等しい(CH2)nである)
の少なくとも1つの末端基と、
を含むPPSUである。
- 繰り返し単位の少なくとも50モル%(モル%はポリマー中の総モル数基準である)が式(L-A)の繰り返し単位(RPPSU)であり:
- 式(M1)又は(M2):
- R2は、H又はCH3であり、
- Xは、結合であるか、nが1~20、例えば1~10又は1~8で変わる、好ましくは1又は2に等しい(CH2)nである)
の少なくとも1つの末端基と、
を含むPPSUである。
本発明のポリマー(P)は、ホモポリマーであってもコポリマーであってもよい。コポリマーである場合、これは、ランダム、交互又はブロックコポリマーであり得る。
本発明のいくつかの実施形態では、ポリマー(P)中の繰り返し単位の少なくとも60モル%、少なくとも70モル%、少なくとも80モル%、少なくとも90モル%、少なくとも95モル%、少なくとも99モル%又は全てが、式(L-A)の繰り返し単位(RPPSU)であり、Pは、式(M)、(M’)又は(M’’)のうちの少なくとも1種の少なくとも1つの末端基、例えば式(M)、(M’)又は(M’’)のうちの2つの末端基を含む。
ポリマー(P)がポリ(ビフェニルエーテルスルホン)(PPSU)コポリマーである場合、それは、繰り返し単位(RPPSU)とは異なる繰り返し単位(R*PPSU)、例えば両方とも上に記載された、式(L-B)及び/若しくは式(L-C)の繰り返し単位、並びに/又は式(L-D)の繰り返し単位:
(式中、R1及びiは、上述の通りである)
から構成することができる。
から構成することができる。
ポリ(ビフェニルエーテルスルホン)(PPSU)ポリマーは、当該技術分野において公知の任意の方法によって調製することができる。これは、例えば塩基の存在下での4,4’-ジヒドロキシビフェニル(ビフェノール)と4,4’-ジクロロジフェニルスルホンとの縮合により得ることができる。モノマー単位の反応は、脱離基としてのハロゲン化水素の1単位の脱離を伴う求核芳香族置換によって起こる。しかしながら、結果として生じるポリ(ビフェニルエーテルスルホン)の構造が脱離基の性質に依存しないことに留意されるべきである。PPSUは、次いで、ポリマー鎖の少なくとも1つの末端で官能基を導入するために重合後に修飾される。官能基は、アクリレート、アルキルアクリレート、又はスチレンである。
一実施形態によれば、Pは、Tが-C(CH3)2-であるPAESである。言い換えれば、Pは、官能化ポリスルホン(PSU)である。
一実施形態によれば、Pは、
- 繰り返し単位の少なくとも50モル%が式(L-B)の繰り返し単位(RPSU)であり(モル%はポリマー中の総モル数基準である):
(式中、R1及びiは上述の通りである)と;
- 式(M1)又は(M2):
(式中、
- R2は、H又はCH3であり、
- Xは、結合であるか、nが1~20、例えば1~10又は1~8で変わる、好ましくは1又は2に等しい(CH2)nである)
の少なくとも1つの末端基と、
を含むPSUである。
- 繰り返し単位の少なくとも50モル%が式(L-B)の繰り返し単位(RPSU)であり(モル%はポリマー中の総モル数基準である):
- 式(M1)又は(M2):
- R2は、H又はCH3であり、
- Xは、結合であるか、nが1~20、例えば1~10又は1~8で変わる、好ましくは1又は2に等しい(CH2)nである)
の少なくとも1つの末端基と、
を含むPSUである。
本発明のいくつかの実施形態では、ポリマー(P)中の繰り返し単位の少なくとも60モル%、少なくとも70モル%、少なくとも80モル%、少なくとも90モル%、少なくとも95モル%、少なくとも99モル%又は全てが、式(L-B)の繰り返し単位(RPSU)であり、Pは、式(M)、(M’)又は(M’’)のうちの少なくとも1種の少なくとも1つの末端基、例えば式(M)、(M’)又は(M’’)のうちの2つの末端基を含む。
ポリマー(P)がポリスルホン(PSU)コポリマーである場合、それは、繰り返し単位(RPSU)とは異なる繰り返し単位(R*PSU)、例えば全て上に記載されている式(L-A)、(L-C)及び/又は(L-D)の繰り返し単位などで構成されていてもよい。
一実施形態によれば、Pは、Tが-SO2-であるPAESである。言い換えれば、Pは、官能化ポリエーテルスルホン(PES)である。
一実施形態によれば、Pは、
- 繰り返し単位の少なくとも50モル%が式(L-C)の繰り返し単位(RPES)であり(モル%はポリマー中の総モル数基準である):
(式中、R1及びiは、上述の通りである)と、
- 式(M1)又は(M2):
(式中、
- R2は、H又はCH3であり、
- Xは、結合であるか、nが1~20、例えば1~10又は1~8で変わる、好ましくは1又は2に等しい(CH2)nである)
の少なくとも1つの末端基と、
を含むPESである。
- 繰り返し単位の少なくとも50モル%が式(L-C)の繰り返し単位(RPES)であり(モル%はポリマー中の総モル数基準である):
- 式(M1)又は(M2):
- R2は、H又はCH3であり、
- Xは、結合であるか、nが1~20、例えば1~10又は1~8で変わる、好ましくは1又は2に等しい(CH2)nである)
の少なくとも1つの末端基と、
を含むPESである。
本発明の一実施形態によれば、ポリマー(P)中の繰り返し単位の少なくとも60モル少なくとも70モル少なくとも80モル少なくとも90モル%、少なくとも95モル少なくとも99モル%又は全てが、式(L-C)の繰り返し単位(RPES)であり、Pは、式(M)、(M’)又は(M’’)のうちの少なくとも1種の少なくとも1つの末端基、例えば式(M)、(M’)又は(M’’)のうちの2つの末端基を含む。
ポリマー(P)がポリエーテルスルホン(PES)コポリマーである場合、それは、繰り返し単位(RPESU)とは異なる繰り返し単位(R*PESU)、例えば全て上に記載されている式(L-A)、(L-B)及び/又は(L-D)の繰り返し単位などで構成されていてもよい。
多官能性アクリレート
本発明によれば、多官能性アクリレートは、架橋剤として、すなわち、ポリマー(P)上の光硬化性基の存在に起因して印刷及び硬化の後にポリマー(P)と高分子量ネットワークを形成するために、配合物(F)に特に添加される化合物である。
本発明によれば、多官能性アクリレートは、架橋剤として、すなわち、ポリマー(P)上の光硬化性基の存在に起因して印刷及び硬化の後にポリマー(P)と高分子量ネットワークを形成するために、配合物(F)に特に添加される化合物である。
いくつかの実施形態では、本発明の配合物(F)中で使用される多官能性アクリレートは、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、トリメチロールプロパンプロポキシトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)、グリセリルプロポキシトリアクリレート(GPTA)、ジ(トリメチロールプロパン)テトラアクリレート、グリセロールプロポキシレートトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、1,3,5-トリアクリロイルヘキサヒドロ-1,3,5-トリアジン、トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリス[2-(アクリロイルオキシ)エチル]イソシアヌレート、及びこれらの混合物からなる群から選択される。
いくつかの実施形態では、本発明の配合物(F)で使用される多官能性アクリレートは、生物由来であり、例えばヒマシ油由来である。
本発明の配合物(F)で使用される多官能性アクリレートは、好ましくは式(I)による:
(式中、
- R3はHであるか、1~5個の炭素原子を有するアルキルであり、好ましくはH又はCH3であり、
- R4は式(II):
に従い、式中のnは、0~10、好ましくは0~3の間で変動する)。
- R3はHであるか、1~5個の炭素原子を有するアルキルであり、好ましくはH又はCH3であり、
- R4は式(II):
配合物(F)中の多官能性アクリレートの濃度は、配合物(F)の総重量を基準として、少なくとも0.05重量%、例えば0.05~30重量%、例えば0.1重量%~25重量%、0.2~20重量%、又は0.5~15重量%であってよい。
溶媒
溶媒の濃度は、配合物(F)の総重量を基準として1~80重量%、例えば2~75重量%、5~70重量%又は10~65重量%であってよい。
溶媒の濃度は、配合物(F)の総重量を基準として1~80重量%、例えば2~75重量%、5~70重量%又は10~65重量%であってよい。
本発明のある実施形態によれば、溶媒は、N-メチルピロリドン(NMP)、N,Nジメチルホルムアミド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMAC)、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、テトラヒドロフラン(THF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、及びスルホランからなる群から選択される。
好ましくは、溶媒は、双極性の非プロトン性溶媒である。好ましくは、溶媒は、N-メチルピロリドン(NMP)、ジメチルアセトアミド(DMAc又はDMA)、N-シクロヘキシル-2-ピロリドン(CHP)及びジメチルスルホキシド(DMSO)からなる群から選択される。
光開始剤
いくつかの実施形態では、配合物(F)は光開始剤を更に含む。光開始剤は、とりわけ、吸収された光エネルギー、UV又は可視光を、開始化学種、例えばフリーラジカル又はカチオンの形態の化学エネルギーに変換するために配合物に添加される化合物である。開始ラジカルが形成されるメカニズムに基づいて、光開始剤は、一般に、2つのクラスに分けられる:
- タイプI光開始剤は、照射時に単分子結合開裂を受けてフリーラジカルを生成し、
- タイプII光開始剤は、励起状態の光開始剤が第2分子(共開始剤)と相互作用する二分子反応を受けてフリーラジカルを発生させる。
いくつかの実施形態では、配合物(F)は光開始剤を更に含む。光開始剤は、とりわけ、吸収された光エネルギー、UV又は可視光を、開始化学種、例えばフリーラジカル又はカチオンの形態の化学エネルギーに変換するために配合物に添加される化合物である。開始ラジカルが形成されるメカニズムに基づいて、光開始剤は、一般に、2つのクラスに分けられる:
- タイプI光開始剤は、照射時に単分子結合開裂を受けてフリーラジカルを生成し、
- タイプII光開始剤は、励起状態の光開始剤が第2分子(共開始剤)と相互作用する二分子反応を受けてフリーラジカルを発生させる。
配合物(F)中の光開始剤の濃度は、配合物(F)の総重量を基準として0.05~10重量%、例えば0.1~5重量%、0.2~4重量%又は0.5~3重量%であり得る。
本発明のある実施形態によれば、光開始剤は、
- アセトフェノン
- アニソイン
- アントラキノン
- アントラキノン-2-スルホン酸、ナトリウム塩一水和物
- (ベンゼン)トリカルボニルクロム
- ベンジル
- ベンゾイン
- ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル及びベンゾフェノン
- 3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
- 4-ベンゾイルビフェニル
- 2-ベンジル-2-(ジメチルアミノ)-4’-モルホリノブチロフェノン
- 4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
- 4,4’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン
- カンファーキノン
- 2-クロロチオキサンテン-9-オン
- (クメン)シクロペンタジエニル鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート
- ジベンゾスベレノン
- 2,2-ジエトキシアセトフェノン
- 4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノン
- 2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン
- 4-(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン
- 4,4’-ジメチルベンジル
- 2,5-ジメチルベンゾフェノン
- 3,4-ジメチルベンゾフェノン
- ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン及びブレンド(例えば、50/50ブレンド)
- 4’-エトキシアセトフェノン
- 2-エチルアントラキノン
- フェロセン
- 3’-ヒドロキシアセトフェノン、4’-ヒドロキシアセトフェノン、3-ヒドロキシベンゾフェノン及び4-ヒドロキシベンゾフェノン
- 1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
- 2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン
- 2-メチルベンゾフェノン又は3-メチルベンゾフェノン
- メチルベンゾイルホルメート
- 2-メチル-4’-(メチルチオ)-2-モルホリノプロピオフェノン
- フェナントレンキノン
- 4’-フェノキシアセトフェノン
- フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド
- チオキサンテン-9-オン
- トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート塩、混合された、プロピレンカーボネート中50%
- トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート塩、混合された、プロピレンカーボネート中50%、及び
- それらの混合物
からなる群から選択される。
- アセトフェノン
- アニソイン
- アントラキノン
- アントラキノン-2-スルホン酸、ナトリウム塩一水和物
- (ベンゼン)トリカルボニルクロム
- ベンジル
- ベンゾイン
- ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル及びベンゾフェノン
- 3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
- 4-ベンゾイルビフェニル
- 2-ベンジル-2-(ジメチルアミノ)-4’-モルホリノブチロフェノン
- 4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
- 4,4’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン
- カンファーキノン
- 2-クロロチオキサンテン-9-オン
- (クメン)シクロペンタジエニル鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート
- ジベンゾスベレノン
- 2,2-ジエトキシアセトフェノン
- 4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノン
- 2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン
- 4-(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン
- 4,4’-ジメチルベンジル
- 2,5-ジメチルベンゾフェノン
- 3,4-ジメチルベンゾフェノン
- ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン及びブレンド(例えば、50/50ブレンド)
- 4’-エトキシアセトフェノン
- 2-エチルアントラキノン
- フェロセン
- 3’-ヒドロキシアセトフェノン、4’-ヒドロキシアセトフェノン、3-ヒドロキシベンゾフェノン及び4-ヒドロキシベンゾフェノン
- 1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
- 2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン
- 2-メチルベンゾフェノン又は3-メチルベンゾフェノン
- メチルベンゾイルホルメート
- 2-メチル-4’-(メチルチオ)-2-モルホリノプロピオフェノン
- フェナントレンキノン
- 4’-フェノキシアセトフェノン
- フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド
- チオキサンテン-9-オン
- トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート塩、混合された、プロピレンカーボネート中50%
- トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート塩、混合された、プロピレンカーボネート中50%、及び
- それらの混合物
からなる群から選択される。
好ましくは、光開始剤は、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン(DMPA)、ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド及びフェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシドからなる群から選択される。
ブロッカー
いくつかの実施形態では、配合物(F)は、ブロッカーを更に含有する。ブロッカーは、(i)UV光によって照射される間に光開始剤によって形成された所定量のラジカルを捕捉し、(ii)UV照射源がスイッチを切られた後に存在し得る未使用ラジカルを捕捉し、且つ/又は(iii)UV照射中に系に運ばれるエネルギーの一部を吸収するために配合物に添加される化合物である。
いくつかの実施形態では、配合物(F)は、ブロッカーを更に含有する。ブロッカーは、(i)UV光によって照射される間に光開始剤によって形成された所定量のラジカルを捕捉し、(ii)UV照射源がスイッチを切られた後に存在し得る未使用ラジカルを捕捉し、且つ/又は(iii)UV照射中に系に運ばれるエネルギーの一部を吸収するために配合物に添加される化合物である。
配合物(F)中のブロッカーの濃度は、配合物(F)の総重量を基準として0.05~10重量%、例えば0.1~5重量%、0.2~4重量%又は0.5~3重量%であり得る。
本発明のある実施形態によれば、ブロッカーは、
- 2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(オキシベンゼン)
- 1-(4-メトキシフェニル)-3-(4-tert-ブチルフェニル)プロパン-1,3-ジオン(アボベンゾン)
- 二ナトリウム2,2’-(1,4-フェニレン)ビス(6-スルホ-1H-ベンズイミダゾール-4-スルホネート)(ビスジスリゾール二ナトリウム)
- ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)
- メンチル-o-アミノベンゾエート(メンチルアントラニレート)
- 2,2’-[6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル]ビス{5-[(2-エチルヘキシル)オキシ]フェノール}(ベモトリジノール)
- 2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン
- 2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン
- 4-ヒドロキシ-2-メトキシ-5-(オキソ-フェニルメチル)ベンゼンスルホン酸(スリソベンゾン)
- 2,2’-ジヒドロキシ-4,4’-ジメトキシベンゾフェノン
- 5-クロロ-2-ヒドロキシベンゾフェノン
- (2-ヒドロキシ-4-メトキシフェニル)-(2-ヒドロキシフェニル)メタノン(ジオキシベンゾン)
- 2,5-ビス(5-tert-ブチル-ベンゾオキサゾール-2-イル)チオフェン
- ナトリウム2,2’-ジヒドロキシ-4,4’-ジメトキシベンゾフェノン-5,5’-ジスルホネート
- (2-ヒドロキシ-4-メトキシフェニル)(4-メチルフェニル)メタノン(メキセノン)
- (2-ヒドロキシ-4-オクトキシ-フェニル)-フェニル-メタノン(オクタベンゾン)
- 2-(1,2,3-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-(2,2,4,6,6-ペンタメチル-3,5-ジオキサ-2,4,6-トリシラヘプタン-4-イル)プロピル]フェノール(ドロメトリゾールトリシロキサン)
- テレフタリリデンジカンファースルホン酸(エカムスル)
- 2-エチルヘキシル2-シアノ-3,3-ジフェニル-2-プロペノエート(オクトクリレン)
- ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン(イスコトリジノール)
- 2-エトキシエチル3-(4-メトキシフェニル)プロペノエート(シノキサート)
- イソペンチル4-メトキシシンナメート(アミロキサート)
- 2,2’-メタンジイルビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(2,4,4-トリメチルペンタン-2-イル)フェノール](ビスオクトリゾール)
- 2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール
- 2,2’-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール]
- 2-ヒドロキシ-4-(オクチルオキシ)ベンゾフェノン
- 2-エチル-,2-[4-(4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル)-3-ヒドロキシフェノキシ]エチルエステル
- 2-tert-ブチル-6-(5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチルフェノール
- 2-(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
- 2,4-ジニトロフェニルヒドラジン
- N-(4-エトキシカルボニルフェニル)-N’-メチル-N’-フェニルホルムアミジン
- ヘキサデシル3,5-ビス-tert-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエート
- 2-エチル-2’-エトキシ-オキサラニリド、及び
- それらの混合物
からなる群から選択される。
- 2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(オキシベンゼン)
- 1-(4-メトキシフェニル)-3-(4-tert-ブチルフェニル)プロパン-1,3-ジオン(アボベンゾン)
- 二ナトリウム2,2’-(1,4-フェニレン)ビス(6-スルホ-1H-ベンズイミダゾール-4-スルホネート)(ビスジスリゾール二ナトリウム)
- ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)
- メンチル-o-アミノベンゾエート(メンチルアントラニレート)
- 2,2’-[6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル]ビス{5-[(2-エチルヘキシル)オキシ]フェノール}(ベモトリジノール)
- 2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン
- 2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン
- 4-ヒドロキシ-2-メトキシ-5-(オキソ-フェニルメチル)ベンゼンスルホン酸(スリソベンゾン)
- 2,2’-ジヒドロキシ-4,4’-ジメトキシベンゾフェノン
- 5-クロロ-2-ヒドロキシベンゾフェノン
- (2-ヒドロキシ-4-メトキシフェニル)-(2-ヒドロキシフェニル)メタノン(ジオキシベンゾン)
- 2,5-ビス(5-tert-ブチル-ベンゾオキサゾール-2-イル)チオフェン
- ナトリウム2,2’-ジヒドロキシ-4,4’-ジメトキシベンゾフェノン-5,5’-ジスルホネート
- (2-ヒドロキシ-4-メトキシフェニル)(4-メチルフェニル)メタノン(メキセノン)
- (2-ヒドロキシ-4-オクトキシ-フェニル)-フェニル-メタノン(オクタベンゾン)
- 2-(1,2,3-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-(2,2,4,6,6-ペンタメチル-3,5-ジオキサ-2,4,6-トリシラヘプタン-4-イル)プロピル]フェノール(ドロメトリゾールトリシロキサン)
- テレフタリリデンジカンファースルホン酸(エカムスル)
- 2-エチルヘキシル2-シアノ-3,3-ジフェニル-2-プロペノエート(オクトクリレン)
- ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン(イスコトリジノール)
- 2-エトキシエチル3-(4-メトキシフェニル)プロペノエート(シノキサート)
- イソペンチル4-メトキシシンナメート(アミロキサート)
- 2,2’-メタンジイルビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(2,4,4-トリメチルペンタン-2-イル)フェノール](ビスオクトリゾール)
- 2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール
- 2,2’-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール]
- 2-ヒドロキシ-4-(オクチルオキシ)ベンゾフェノン
- 2-エチル-,2-[4-(4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル)-3-ヒドロキシフェノキシ]エチルエステル
- 2-tert-ブチル-6-(5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチルフェノール
- 2-(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
- 2,4-ジニトロフェニルヒドラジン
- N-(4-エトキシカルボニルフェニル)-N’-メチル-N’-フェニルホルムアミジン
- ヘキサデシル3,5-ビス-tert-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエート
- 2-エチル-2’-エトキシ-オキサラニリド、及び
- それらの混合物
からなる群から選択される。
好ましくは、ブロッカーは、アボベンゾン及び2,5-ビス(5-tert-ブチル-ベンゾオキサゾール-2-イル)チオフェンからなる群から選択される。
任意選択的な成分
本発明の配合物(F)は、例えば、シリカなどの充填材、酸化防止剤、抗菌性化合物、及び帯電防止化合物からなる群から選択される少なくとも1種の添加剤を含み得る。添加剤は、例えば、カーボンブラック、シリカ(例えば、マイクロシリカ粒子)及びカーボンナノチューブなどの化学的に不活性の化学種であり得る。
本発明の配合物(F)は、例えば、シリカなどの充填材、酸化防止剤、抗菌性化合物、及び帯電防止化合物からなる群から選択される少なくとも1種の添加剤を含み得る。添加剤は、例えば、カーボンブラック、シリカ(例えば、マイクロシリカ粒子)及びカーボンナノチューブなどの化学的に不活性の化学種であり得る。
3D物品の製造プロセス
本発明はまた、3D物品を付加製造システムで製造する方法であって、
- 上に記載されたようなポリマー配合物(F)を提供する工程、
- 3D物品の層をポリマー配合物(F)から印刷する工程、
- 任意選択的に、3D物品を、50~450℃、好ましくは100~300℃、更にいっそう好ましくは120~180℃の範囲の温度で硬化させる工程
を含む方法に関する。
本発明はまた、3D物品を付加製造システムで製造する方法であって、
- 上に記載されたようなポリマー配合物(F)を提供する工程、
- 3D物品の層をポリマー配合物(F)から印刷する工程、
- 任意選択的に、3D物品を、50~450℃、好ましくは100~300℃、更にいっそう好ましくは120~180℃の範囲の温度で硬化させる工程
を含む方法に関する。
一実施形態によれば、印刷する工程は、ポリマー配合物(F)、例えば印刷表面上へ堆積させられたそのような配合物(F)の層にUV光を照射することを含む。層は、好ましくは、5μm~300μm、例えば20μm~150μmの範囲のサイズを示す。
UV光は例えばレーザー光であり得る。照射は、好ましくは、ポリマー配合物(F)、例えばそのような配合物(F)の層の実質的な硬化を引き起こすのに十分な強度のものである。また、照射は、好ましくは、ポリマー配合物(F)の層の接着を引き起こすのに十分な強度のものである。
本発明の別の実施形態によれば、3D物品を付加製造システムで製造する方法は、
- 上に記載されたようなポリマー配合物(F)を提供する工程、
- 3D物品の層を、ポリマー配合物(F)から、
a)配合物(F)の層を表面上にコートすること、
b)層にUV光を照射すること、c)配合物(F)の層を前の照射された層上へコートすること、
d)層にUV光を照射すること、及び
e)工程c)及びd)を、3D物品を製造するのに十分な回数にわたって繰り返すこと
によって印刷する工程
を含む。
- 上に記載されたようなポリマー配合物(F)を提供する工程、
- 3D物品の層を、ポリマー配合物(F)から、
a)配合物(F)の層を表面上にコートすること、
b)層にUV光を照射すること、c)配合物(F)の層を前の照射された層上へコートすること、
d)層にUV光を照射すること、及び
e)工程c)及びd)を、3D物品を製造するのに十分な回数にわたって繰り返すこと
によって印刷する工程
を含む。
ある実施形態によれば、ポリマー配合物(F)は、プロセス中に室温である。代わりに、配合物は、とりわけ配合物中のポリマー濃度が高い場合、印刷前及び/又は印刷中に加熱することもできる。この場合、温度は、印刷前及び/又は印刷中に最大で130℃、最大で120℃又は最大で110℃に加熱することができる。
用途
本発明はまた、3D物体/物品の製造のための、本発明のポリマー(P)の又は本発明のポリマー配合物(F)の使用に関する。
本発明はまた、3D物体/物品の製造のための、本発明のポリマー(P)の又は本発明のポリマー配合物(F)の使用に関する。
ポリマー(P)及びポリマー配合物(F)に関して上に記載された実施形態の全てが、3D物体/物品の製造のための使用に等しく当てはまる。
本発明はまた、本明細書で記載されるポリマー(P)又はポリマー配合物(F)を使用して、少なくとも部分的に、本発明の製造方法から得られる3D物体又は3D物品に関する。
いくつかの実施形態では、本発明の3D物品は、光音響FTIR測定によって検出される、少なくとも1ppm、例えば少なくとも2ppm、少なくとも5ppm、又は少なくとも10ppmの残留アクリレート又は残留スチレンを含む。
そのような製造方法によって得ることができる3D物体又は物品は、様々な最終用途において使用することができる。特に、埋込式デバイス、歯科用人工装具、ブラケット並びに航空宇宙産業における複雑な造形パーツ及び自動車産業におけるアンダーフードパーツを挙げることができる。
参照により本明細書に援用される任意の特許、特許出願及び刊行物の開示が、それが用語を不明確にし得る程度まで本出願の記載と矛盾する場合、本記載が優先するものとする。
ここで、本発明は、以下の実施例に関連してより詳細に説明されるが、その目的は、例示的であるにすぎず、本発明の範囲を限定するものではない。
原材料
N,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)(無水、99.8%)、炭酸カリウム(K2CO3)(無水、>99.0%)、Celite(登録商標)545フィルター剤、及び炭酸水素ナトリウム(NaHCO3)は、Sigma-Aldrichから購入し、受け取ったままの状態で使用した。ビスフェノールA(BPA、>99%)、トリメチロールプロパントリアクリレート(TPM、阻害剤として600ppmのモノメチルエーテルヒドロキノンを含有)、塩化アクリロイル(>97%、安定剤として400ppmのフェノチアジンを含有)、及び4,4’-ジクロロフェニルスルホン(DCPS)は、Aldrichから購入し、受け取ったままの状態で使用した。塩酸、クロロホルム(HPLCグレード)、トルエン、塩化ナトリウム、メタノール、及びテトラヒドロフランは、Fisher Chemicalから購入し、受け取ったままの状態で使用した。ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド(>98%)は、TCIから購入し、受け取ったままの状態で使用した。クロロホルム-d(CDCl3)(99.8%の原子D)は、Cambridge Isotope Labsから購入し、受け取ったままの状態で使用した。N-メチルピロリドン(NMP、BioSolv)及びN,N-ジメチルホルムアミド(分光測定グレード)はSpectrumから購入し、受け取ったままの状態で使用した。トリエチルアミンはAcros Organicsから購入し、水素化カルシウム(Sigma-Aldrich、95%)上で一晩攪拌し、その後使用前に90℃で蒸留した。
N,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)(無水、99.8%)、炭酸カリウム(K2CO3)(無水、>99.0%)、Celite(登録商標)545フィルター剤、及び炭酸水素ナトリウム(NaHCO3)は、Sigma-Aldrichから購入し、受け取ったままの状態で使用した。ビスフェノールA(BPA、>99%)、トリメチロールプロパントリアクリレート(TPM、阻害剤として600ppmのモノメチルエーテルヒドロキノンを含有)、塩化アクリロイル(>97%、安定剤として400ppmのフェノチアジンを含有)、及び4,4’-ジクロロフェニルスルホン(DCPS)は、Aldrichから購入し、受け取ったままの状態で使用した。塩酸、クロロホルム(HPLCグレード)、トルエン、塩化ナトリウム、メタノール、及びテトラヒドロフランは、Fisher Chemicalから購入し、受け取ったままの状態で使用した。ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド(>98%)は、TCIから購入し、受け取ったままの状態で使用した。クロロホルム-d(CDCl3)(99.8%の原子D)は、Cambridge Isotope Labsから購入し、受け取ったままの状態で使用した。N-メチルピロリドン(NMP、BioSolv)及びN,N-ジメチルホルムアミド(分光測定グレード)はSpectrumから購入し、受け取ったままの状態で使用した。トリエチルアミンはAcros Organicsから購入し、水素化カルシウム(Sigma-Aldrich、95%)上で一晩攪拌し、その後使用前に90℃で蒸留した。
実施例1-ポリスルホンポリマーの合成
3種のアクリレート末端PSUポリマー(比較及び本発明)を、表1による2段階手順によって調製した。工程1では、以下のスキーム1に示すように、フェノール末端PSUポリマーを調製し、キャラクタリゼーションした。工程2では、以下のスキーム2に示すように、フェノール末端PSUポリマーを対応するアクリレート末端PSUポリマーに変換した。その後、以下に詳述するように、DSC及びTGAによりポリマーをキャラクタリゼーションした。結果を以下の表2に示す。
3種のアクリレート末端PSUポリマー(比較及び本発明)を、表1による2段階手順によって調製した。工程1では、以下のスキーム1に示すように、フェノール末端PSUポリマーを調製し、キャラクタリゼーションした。工程2では、以下のスキーム2に示すように、フェノール末端PSUポリマーを対応するアクリレート末端PSUポリマーに変換した。その後、以下に詳述するように、DSC及びTGAによりポリマーをキャラクタリゼーションした。結果を以下の表2に示す。
工程1:Mn=20,000g/molのフェノール末端PSUポリマーの調製
窒素アダプターと、コンデンサー付きのディーンスタークトラップと、TeflonTMパドル付きのガラス製機械撹拌棒とを取り付けた三口付き丸底フラスコの中で、BPA(52.74g、0.2310mol)、DCPS(64.89g、0.2260mol)、及び炭酸カリウム(38.32、0.2772mol)を、無水N,N-ジメチルアセトアミド(400mL)及びトルエン(200mL)の中に分散した。不均一な溶液をN2で20分間パージし、続いて160℃に加熱し、その時点で反応を5時間還流させた。次いで、生成したトルエン/水共沸混合物を抜き出し、重合を更に180℃で12時間加熱し、室温まで冷却し、得られた溶液をCelite(登録商標)を通して濾過して、重合の過程で生成した塩を除去した。フェノール鎖末端をプロトン化するために、その後THF中1MのHCl溶液を使用して溶液を中和し、最終的な20,000のMnのPSUポリマーを4LのMeOHの中へ析出させることによって単離した。得られた白色粉末を200℃で18時間真空乾燥した。GPCを使用して分子量を決定した。
窒素アダプターと、コンデンサー付きのディーンスタークトラップと、TeflonTMパドル付きのガラス製機械撹拌棒とを取り付けた三口付き丸底フラスコの中で、BPA(52.74g、0.2310mol)、DCPS(64.89g、0.2260mol)、及び炭酸カリウム(38.32、0.2772mol)を、無水N,N-ジメチルアセトアミド(400mL)及びトルエン(200mL)の中に分散した。不均一な溶液をN2で20分間パージし、続いて160℃に加熱し、その時点で反応を5時間還流させた。次いで、生成したトルエン/水共沸混合物を抜き出し、重合を更に180℃で12時間加熱し、室温まで冷却し、得られた溶液をCelite(登録商標)を通して濾過して、重合の過程で生成した塩を除去した。フェノール鎖末端をプロトン化するために、その後THF中1MのHCl溶液を使用して溶液を中和し、最終的な20,000のMnのPSUポリマーを4LのMeOHの中へ析出させることによって単離した。得られた白色粉末を200℃で18時間真空乾燥した。GPCを使用して分子量を決定した。
工程2:Mn=20,000g/molのアクリレート末端PSUポリマーの調製
工程1で得られたフェノール末端PSUポリマー(60.00g、0.003mol)を、クロロホルム(200mL)と電磁撹拌子とが入っている一口丸底フラスコの中に秤量した。次いで、得られた溶液にN2を20分間吹き込み、トリエチルアミン(5.735mL、0.041mol)を滴下し、その時点で氷浴を使用して溶液を0℃まで冷却した。撹拌されている溶液に塩化アクリロイル(2.078mL、0.026mol)を滴下した。添加が完了した後、反応を0℃で20分間撹拌し、次いで23℃に加熱し、これを更に12時間撹拌した。最終生成物は、2MのHCl水溶液で洗浄し、層を分離し、有機層を塩基性アルミナ上で1時間撹拌し、続いて1MのNaOH、重炭酸ナトリウム溶液、及び再度食塩水でそれぞれ3回洗浄し、MgSO4で2時間乾燥した後、MeOHの中に析出させることで白色粉末を得てから、その後50℃で終夜真空乾燥することによって単離した。フェノール鎖末端の末端基変換は、1H NMRによるピークシフトを観察することによって確認した。これは、アクリレートに特徴的な3つのピークを6.00、6.31、及び6.59ppmに配置することによって行った。この場合、前の末端基を追跡するために使用した4つのベンジルプロトンがシフトして2つのプロトンのみがみえることになるため、前に使用した4つではなく、それらの2つが使用される。これらの2つのプロトンは、主鎖の芳香族ピークの下にも部分的に位置しているため、積分が高くなり、アクリレートピークの積分値が疑似的に低くなる。
工程1で得られたフェノール末端PSUポリマー(60.00g、0.003mol)を、クロロホルム(200mL)と電磁撹拌子とが入っている一口丸底フラスコの中に秤量した。次いで、得られた溶液にN2を20分間吹き込み、トリエチルアミン(5.735mL、0.041mol)を滴下し、その時点で氷浴を使用して溶液を0℃まで冷却した。撹拌されている溶液に塩化アクリロイル(2.078mL、0.026mol)を滴下した。添加が完了した後、反応を0℃で20分間撹拌し、次いで23℃に加熱し、これを更に12時間撹拌した。最終生成物は、2MのHCl水溶液で洗浄し、層を分離し、有機層を塩基性アルミナ上で1時間撹拌し、続いて1MのNaOH、重炭酸ナトリウム溶液、及び再度食塩水でそれぞれ3回洗浄し、MgSO4で2時間乾燥した後、MeOHの中に析出させることで白色粉末を得てから、その後50℃で終夜真空乾燥することによって単離した。フェノール鎖末端の末端基変換は、1H NMRによるピークシフトを観察することによって確認した。これは、アクリレートに特徴的な3つのピークを6.00、6.31、及び6.59ppmに配置することによって行った。この場合、前の末端基を追跡するために使用した4つのベンジルプロトンがシフトして2つのプロトンのみがみえることになるため、前に使用した4つではなく、それらの2つが使用される。これらの2つのプロトンは、主鎖の芳香族ピークの下にも部分的に位置しているため、積分が高くなり、アクリレートピークの積分値が疑似的に低くなる。
PSUポリマーのキャラクタリゼーション
GPC
20mgのPSUを20mLのクロロホルムに溶解し、1mg/mLのサンプルを生成した。溶液を450nmのPTFEフィルターを通して濾過し、1cmの光路長の石英キュベットの中に入れた。Malvern Zetasizer Nano ZSを使用した動的光散乱(DLS)により、クロロホルムへの単鎖の溶解が凝集なしで確認された。その後、サンプルを、1mL/分の流量で、Waters Acquity Advanced PolymerクロマトグラフィーシステムのAcquity APC XTカラムで溶出させた。屈折率からのMnは、35℃でのポリスチレン標準との比較によって決定した。
GPC
20mgのPSUを20mLのクロロホルムに溶解し、1mg/mLのサンプルを生成した。溶液を450nmのPTFEフィルターを通して濾過し、1cmの光路長の石英キュベットの中に入れた。Malvern Zetasizer Nano ZSを使用した動的光散乱(DLS)により、クロロホルムへの単鎖の溶解が凝集なしで確認された。その後、サンプルを、1mL/分の流量で、Waters Acquity Advanced PolymerクロマトグラフィーシステムのAcquity APC XTカラムで溶出させた。屈折率からのMnは、35℃でのポリスチレン標準との比較によって決定した。
DSC
TA instruments Q1000を用いた示差走査熱量測定により、それぞれ20/5/20℃/分の加熱/冷却/加熱サイクルでガラス転移温度(Tg)を明らかにした。Tgは、二回目の加熱サイクルの変曲点から得た。
TA instruments Q1000を用いた示差走査熱量測定により、それぞれ20/5/20℃/分の加熱/冷却/加熱サイクルでガラス転移温度(Tg)を明らかにした。Tgは、二回目の加熱サイクルの変曲点から得た。
TGA
熱重量分析は、N2充填ガスを用いたTA Instruments Q50で、25℃から800℃まで10℃/分の温度勾配で行った。
熱重量分析は、N2充填ガスを用いたTA Instruments Q50で、25℃から800℃まで10℃/分の温度勾配で行った。
実施例2-フォトレオロジー用に調製した配合物
以下の表3に従って、複数の配合物を調製した。0.36gのPSUポリマーを、0.84gのNMPと共に2ドラムのバイアルの中に秤量した。均一な溶液が得られるまで、溶液をVWR miniボルテクサーで混合した。9mgのジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド(光開始剤)とTMP(多官能性アクリレート)を溶液に添加し、バイアルをアルミニウム箔で覆い、VWRスタンダードアナログシェーカーテーブル上で終夜混合した。サンプルは24時間以内に使用した。
以下の表3に従って、複数の配合物を調製した。0.36gのPSUポリマーを、0.84gのNMPと共に2ドラムのバイアルの中に秤量した。均一な溶液が得られるまで、溶液をVWR miniボルテクサーで混合した。9mgのジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド(光開始剤)とTMP(多官能性アクリレート)を溶液に添加し、バイアルをアルミニウム箔で覆い、VWRスタンダードアナログシェーカーテーブル上で終夜混合した。サンプルは24時間以内に使用した。
フォトレオロジー実験:印刷適性に対する特定の配合物の適合性を決定するために、一連のフォトレオロジー実験を行った。溶液を液槽光重合で処理できるようにするためには、弾性率が30,000Paを超え、G’/G”クロスオーバー時間が2秒未満であることが望ましい。フォトレオロジー実験は、TA Instruments DHR-2で25℃で行った。これらの測定は、320~500nmのフィルターを備えたOmnicure S2000高圧水銀光源と、20mmの使い捨てアルミニウム平行板と、1000μmのギャップを有する20mmの石英平行板下部ジオメトリとを備えたSmart SwapTMジオメトリで行った。UV強度は、20mmのアタッチメントを備えたSilverline放射計を使用して測定した。測定パラメータは、サンプリング周波数1Hz、ひずみ0.1%、UV光強度250mW/cm2に設定した。サンプルは、実験を開始して30秒後に15秒間、UV光に暴露した。TA Instruments TRIOSソフトウェアを使用してデータを分析し、貯蔵弾性率(G’)、損失弾性率(G”)、及びクロスオーバー時間を特定した。
表4は、配合物がポリマーと光開始剤のみを含む場合に、フォトレオロジーに基づいてポリマーの分子量(Mn)が印刷適性にどのように影響を与えるかを示している。12,000g/mol未満の分子量のポリマーは印刷可能にする貯蔵弾性率を示す一方で、20,000g/molの分子量を有する比較例3のポリマーは、印刷不可能な程に低すぎる弾性率を有する。
表5は、三官能性アクリレートを添加することにより、Mn=20,000g/molのアクリレート官能化ポリスルホンポリマーのフォトレオロジーに基づいてパーツを印刷するのに十分高い弾性率を得ることを可能にすることを示している。これは、クロスオーバー時間の有意義な改善も示している。
実施例3-液槽光重合で使用される配合物
ポリマーP3(27.552g、23.85重量%)と、TMP(6.888g、5.96重量%)と、ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド光開始剤(0.706g、0.612重量%)を、NMP(80.36g、69.57%)に溶解することによって本発明の配合物を調製した。
ポリマーP3(27.552g、23.85重量%)と、TMP(6.888g、5.96重量%)と、ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド光開始剤(0.706g、0.612重量%)を、NMP(80.36g、69.57%)に溶解することによって本発明の配合物を調製した。
パーツをレーザーに基づくVP装置で製造した。
レーザーに基づくVP装置:
405nmのUVレーザー及び光学トレインをFormlabs1+から抜き出し、UV照射を樹脂表面に届けるために使用した。印刷プロセス中に樹脂を入れるためにアルミニウム製の槽を使用した。パーツ製造用のステージとして、ガラス製のビルドプラットフォームを備えたステンレス鋼製のビルドステージを使用した。ステンレス鋼製の回転式上塗りシステムを使用して、ビルドプラットフォーム上の樹脂を上塗りした。
405nmのUVレーザー及び光学トレインをFormlabs1+から抜き出し、UV照射を樹脂表面に届けるために使用した。印刷プロセス中に樹脂を入れるためにアルミニウム製の槽を使用した。パーツ製造用のステージとして、ガラス製のビルドプラットフォームを備えたステンレス鋼製のビルドステージを使用した。ステンレス鋼製の回転式上塗りシステムを使用して、ビルドプラットフォーム上の樹脂を上塗りした。
印刷方法
65mlの配合物をアルミニウム製の槽に移し、ビルドプラットフォームをプロジェクターの焦点面に配置した。短時間の浸漬工程の後、ビルドプラットフォームを樹脂表面から1層分の厚さの深さに配置した。次いで、樹脂表面を滑らかにするために、メニスカスのない後の状態から、回転式上塗りブレードを使用した。製造される層に対応するパターンが、所定のパス数、レーザー出力、及びスキャン速度で樹脂表面上にラスター化された。パーツが完成するまでこれらの工程を繰り返した。
65mlの配合物をアルミニウム製の槽に移し、ビルドプラットフォームをプロジェクターの焦点面に配置した。短時間の浸漬工程の後、ビルドプラットフォームを樹脂表面から1層分の厚さの深さに配置した。次いで、樹脂表面を滑らかにするために、メニスカスのない後の状態から、回転式上塗りブレードを使用した。製造される層に対応するパターンが、所定のパス数、レーザー出力、及びスキャン速度で樹脂表面上にラスター化された。パーツが完成するまでこれらの工程を繰り返した。
PreForm2.3.3を使用して、STLファイルを120ミクロンの層にスライスした。装置及び印刷プロセスを制御するために、カスタマイズされたPythonプログラムを使用した。
柱の壁厚750ミクロン、側壁サイズ2mm、高さ24mm、幅17mm、長さ28mmの六角形の開放格子をNetfabbで構築し、高さ24mmに押し出して参照ジオメトリを形成した。
印刷結果
印刷パラメータ:
・層の厚さ=120ミクロン
・強度=20mW
・スキャン速度=1550mm/s
・1レイヤーあたりのパス数=1
印刷パラメータ:
・層の厚さ=120ミクロン
・強度=20mW
・スキャン速度=1550mm/s
・1レイヤーあたりのパス数=1
フィーチャの解像度:パーツの高さに六角形の壁が見えた。平均的な壁の厚さは約2mmであった。
TMPの添加により、硬化したゲルの弾性率が増加し、その結果、TMPを含まない配合物よりも速く自己支持構造が形成された。
Claims (14)
- ポリマー配合物(F)であって、前記配合物(F)の総重量を基準として:
- 前記Fの総重量を基準として1~50重量%の、少なくとも1種のポリ(アリールエーテルスルホン)(PAES)ポリマー(P)であって、式(M1)又は(M2):
- R2はH又はCH3であり、
- Xは、結合であるか、nが1~20の範囲である(CH2)nである)
の少なくとも1つの末端基を含み、
ポリマー(P)の数平均分子量(Mn)が、移動相としての塩化メチレンとポリスチレン標準とを使用するゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によって測定される12,000g/モル超であり、
- 少なくとも1種の多官能性アクリレートと、
- 少なくとも1種の溶媒と、
- 任意選択的に少なくとも1種の光開始剤と、
- 任意選択的に少なくとも1種のブロッカーと
を含む、ポリマー配合物(F)。 - Pが、式(L):
- 各R1は、芳香環ごとに独立して、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、エーテル、チオエーテル、カルボン酸、エステル、アミド、イミド、アルカリ又はアルカリ土類金属スルホネート、アルキルスルホネート、アルカリ又はアルカリ土類金属ホスホネート、アルキルホスホネート、アミン、及び第四級アンモニウムからなる群から選択され;
- 各iは、芳香環ごとに独立して、ゼロ又は1~4の整数であり;
- Tは、結合、-CH2-;-O-;-SO2-;-S-;-C(O)-;-C(CH3)2-;-C(CF3)2-;-C(=CCl2)-;-C(CH3)(CH2CH2COOH)-;-N=N-;からなる群から選択され;
- RaC=CRb-(各Ra及びRbは、互いに独立して、水素、C1~C12アルキル基、C1~C12アルコキシ基、C6~C18アリール基である);
-(CH2)m-及び-(CF2)m-はmが1~6の整数であり;6個以下の炭素原子の直鎖若しくは分岐の脂肪族二価基;並びにそれらの組み合わせである)の繰り返し単位(RPAES)を含むPAESである、請求項1に記載の配合物(F)。 - Tが、結合、-SO2-、及び-C(CH3)2-からなる群から選択される、請求項2に記載の配合物(F)。
- 前記PAESポリマーが、少なくとも50モル%(前記ポリマー中の総モル数を基準として)の式(L)の繰り返し単位を含む、請求項2~3のいずれか一項に記載の配合物(F)。
- 前記配合物(F)の総重量を基準として少なくとも0.05重量%の多官能性アクリレートを含む、請求項1~5のいずれか一項に記載の配合物(F)。
- - 前記溶媒が、N-メチルピロリドン(NMP)、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMAC)、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン(DMI)、テトラヒドロフラン(THF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)及びスルホランからなる群から選択され、
- 前記光開始剤が、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン(DMPA)、ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド及びフェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシドからなる群から選択され、並びに/又は
- 前記ブロッカーが、アボベンゾン及び2,5-ビス(5-tert-ブチル-ベンゾオキサゾール-2-イル)チオフェンからなる群から選択される、
請求項1~8のいずれか一項に記載の配合物(F)。 - 3D物品を付加製造システムで製造する方法であって、
- 請求項1~9のいずれか一項に記載のポリマー配合物(F)を提供する工程、
- 3D物品の層を前記ポリマー配合物(F)から印刷する工程、
- 任意選択的に、前記3D物品を50~450℃の範囲の温度で硬化させる工程、
を含む方法。 - 前記印刷工程が、前記ポリマー配合物(F)に光、好ましくはUV光又は可視光を照射することを含む、請求項10に記載の方法。
- 請求項10~11のいずれか一項に記載の方法によって少なくとも部分的に得ることが可能な3D物品。
- ステレオリソグラフィー(SLA)、直接インク書込み(DIW)、デジタルライトプロセッシング(DLP)、又はインクジェットプロセスによる3D物体の製造のための、単独での又は他の成分と組み合わせての、請求項1~9のいずれか一項に記載のポリマー配合物(F)の使用。
- 物品をコートするための、単独での又は他の成分と組み合わせての、請求項1~9のいずれか一項に記載のポリマー配合物(F)の使用。
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