JP2022140572A - 結合リング内に電極を使用することによってエッジ領域におけるイオンの方向性を制御するためのシステム及び方法 - Google Patents
結合リング内に電極を使用することによってエッジ領域におけるイオンの方向性を制御するためのシステム及び方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
[形態1]
プラズマチャンバ内でエッジ領域におけるイオン束の方向性を制御するためのシステムであって、
第1のRF信号を生成するように構成された第1の高周波数(RF)発生器と、
前記第1のRF発生器に結合され、前記第1のRF信号を受信して第1の修正RF信号を生成するための第1のインピーダンス整合回路と、
プラズマチャンバであって、
エッジリングと、
前記エッジリングの下方に位置付けられ、前記第1の修正RF信号を受信するために前記第1のインピーダンス整合回路に結合された結合リングであって、前記第1の修正RF信号を受信すると電極と前記エッジリングとの間にキャパシタンスを生成してイオン束の方向性を制御するように構成された前記電極を含む、結合リングと、
を含むプラズマチャンバと、
を備えるシステム。
[形態2]
形態1に記載のシステムであって、更に、
第2のRF信号を生成するように構成された第2のRF発生器と、
前記第2のRF発生器に結合され、前記第2のRF信号を受信して第2の修正RF信号を生成するように構成された第2のインピーダンス整合回路と、
前記第2のインピーダンス整合回路に結合され、前記第2の修正RF信号を受信して前記プラズマチャンバ内におけるプラズマのインピーダンスを変化させるように構成されたチャックであって、前記エッジリング及び前記結合リングの側方に位置付けられたチャックと、
を備えるシステム。
[形態3]
形態1に記載のシステムであって、
前記電極は、前記結合リングに埋め込まれ、ワイヤメッシュ又はリングである、システム。
[形態4]
形態1に記載のシステムであって、更に、
前記結合リングの下方に位置付けられた第1の絶縁体リングと、
前記第1の絶縁体リングの下方に位置付けられた第2の絶縁体リングと、
前記電極に結合するために前記第2の絶縁体リング、前記第1の絶縁体リング、及び前記結合リングの一部分を通って延設されているケーブルであって、前記結合リングにおける前記電極と前記エッジリングとの間の部分は、前記電極と前記エッジリングとの間の誘電体として機能する、ケーブルと、
を備えるシステム。
[形態5]
形態4に記載のシステムであって、更に、
前記第1の絶縁体リングの側方に位置付けられた接地リングを備えるシステム。
[形態6]
形態1に記載のシステムであって、更に、
前記電極に結合された電力ピンの同軸ケーブルと、
一点において前記同軸ケーブルに結合されたフィードリングと、
前記フィードリング及び前記第1のインピーダンス整合回路に結合されたRFロッドと、
を備えるシステム。
[形態7]
形態1に記載のシステムであって、更に、
前記プラズマチャンバ内に位置付けられたプローブと、
前記プローブに結合され、前記イオン束に関係付けられた変数を測定するように構成されたセンサと、
前記変数に基づいて、前記第1のRF発生器によって前記電極に供給される電力の量が修正されるべきであるかどうかを決定するために、前記センサに結合されたホストコンピュータシステムと、
を備え、
前記ホストコンピュータシステムは、前記第1のインピーダンス整合回路を通じて前記第1のRF発生器によって前記電極に供給される前記電力の量を変更するために、前記第1のRF発生器に結合される、システム。
[形態8]
プラズマチャンバ内でエッジ領域におけるイオン束の方向性を制御するためのシステムであって、
第1のフィルタリングされたRF信号を出力するように構成された第1の高周波数(RF)フィルタと、
前記第1のRFフィルタに結合され、前記第1のフィルタリングされたRF信号を受信して第2のフィルタリングされたRF信号を出力するための第2のRFフィルタと、
プラズマチャンバであって、
エッジリングと、
前記エッジリングの下方に位置付けられ、前記第2のRFフィルタに結合された結合リングであって、前記第2のフィルタリングされたRF信号を受信し、前記第2のフィルタリングされたRF信号を受信すると更に電極と前記エッジリングとの間にキャパシタンスを生成してイオン束の方向性を制御するように構成された前記電極を含む、結合リングと、
を含むプラズマチャンバと、
を備えるシステム。
[形態9]
形態8に記載のシステムであって、更に、
RF信号を生成するように構成されたRF発生器と、
前記RF発生器に結合され、前記RF信号を受信して修正RF信号を生成するように構成されたインピーダンス整合回路と、
前記インピーダンス整合回路に結合され、前記修正RF信号を受信して前記プラズマチャンバ内におけるプラズマのインピーダンスを変化させるように構成されたチャックであって、前記エッジリング及び前記結合リングの側方に位置付けられたチャックと、
を備えるシステム。
[形態10]
形態8に記載のシステムであって、
前記電極は、前記結合リングに埋め込まれ、ワイヤメッシュ又はリングである、システム。
[形態11]
形態8に記載のシステムであって、更に、
前記結合リングの下方に位置付けられた第1の絶縁体リングと、
前記第1の絶縁体リングの下方に位置付けられた一部分を有する第2の絶縁体リングと、
前記電極に結合するために前記第2の絶縁体リング、前記第1の絶縁体リング、及び前記結合リングの一部分を通って延設されている電力ピンであって、前記結合リングにおける前記電極と前記エッジリングとの間の部分は、前記電極と前記エッジリングとの間の誘電体として機能する、電力ピンと、
を備えるシステム。
[形態12]
形態11に記載のシステムであって、更に、
前記第1の絶縁体リングの側方に位置付けられた接地リングを備えるシステム。
[形態13]
形態8に記載のシステムであって、更に、
前記電極に結合された電力ピンの同軸ケーブルと、
一点において前記同軸ケーブルに結合されたフィードリングと、
前記フィードリングに結合された前記第2のRFフィルタに結合されたRFロッドと、
を備えるシステム。
[形態14]
形態8に記載のシステムであって、更に、
前記プラズマチャンバ内に位置付けられたプローブと、
前記プローブに結合され、イオン束に関係付けられた変数を測定するように構成されたセンサと、
前記変数に基づいて、前記第1のRFフィルタのキャパシタンスが修正されるべきであるかどうかを決定するために、前記センサに結合されたホストコンピュータシステムと、
前記ホストコンピュータシステムに結合されたモータと、
を備え、
前記ホストコンピュータシステムは、前記モータを通じて前記第1のRFフィルタの前記キャパシタンスを修正するように構成される、システム。
[形態15]
プラズマチャンバ内でエッジ領域におけるイオン束の方向性を制御するためのシステムであって、
フィルタリングされたRF信号を出力するように構成された高周波数(RF)フィルタと、
プラズマチャンバであって、
エッジリングと、
前記エッジリングの下方に位置付けられ、前記フィルタリングされたRF信号を受信するために前記RFフィルタに結合された結合リングであって、前記フィルタリングされたRF信号を受信すると電極と前記エッジリングとの間にキャパシタンスを生成してイオン束の方向性を制御するように構成された前記電極を含む、結合リングと、
を含むプラズマチャンバと、
を備えるシステム。
[形態16]
形態15に記載のシステムであって、更に、
RF信号を生成するように構成されたRF発生器と、
前記RF発生器に結合され、前記RF信号を受信して修正RF信号を生成するように構成されたインピーダンス整合回路と、
前記インピーダンス整合回路に結合され、前記修正RF信号を受信して前記プラズマチャンバ内におけるプラズマのインピーダンスを変化させるように構成されたチャックであって、前記エッジリング及び前記結合リングの側方に位置付けられたチャックと、
を備えるシステム。
[形態17]
形態15に記載のシステムであって、
前記電極は、前記結合リングに埋め込まれ、ワイヤメッシュ又はリングである、システム。
[形態18]
形態15に記載のシステムであって、更に、
前記結合リングの下方に位置付けられた第1の絶縁体リングと、
前記第1の絶縁体リングの下方に位置付けられた一部分を有する第2の絶縁体リングと、
前記電極に結合するために前記第2の絶縁体リング、前記第1の絶縁体リング、及び前記結合リングの一部分を通って延設されている電力ピンであって、前記結合リングにおける前記電極と前記エッジリングとの間の部分は、前記電極と前記エッジリングとの間の誘電体として機能する、電力ピンと、
を備えるシステム。
[形態19]
形態18に記載のシステムであって、更に、
前記第1の絶縁体リングの側方に位置付けられた接地リングを備えるシステム。
[形態20]
形態15に記載のシステムであって、更に、
前記電極に結合された電力ピンの同軸ケーブルと、
一点において前記同軸ケーブルに結合されたフィードリングと、
を備えるシステム。
[形態21]
形態15に記載のシステムであって、更に、
前記プラズマチャンバ内に位置付けられたプローブと、
前記プローブに結合され、イオン束に関係付けられた変数を測定するように構成されたセンサと、
前記変数に基づいて、前記RFフィルタのキャパシタンスが修正されるべきであるかどうかを決定するために、前記センサに結合されたホストコンピュータシステムと、
前記ホストコンピュータシステムに結合されたモータと、
を備え、
前記ホストコンピュータシステムは、前記モータを通じて前記RFフィルタの前記キャパシタンスを修正するように構成される、システム。
Claims (21)
- プラズマチャンバ内でエッジ領域におけるイオン束の方向性を制御するためのシステムであって、
第1のRF信号を生成するように構成された第1の高周波数(RF)発生器と、
前記第1のRF発生器に結合され、前記第1のRF信号を受信して第1の修正RF信号を生成するための第1のインピーダンス整合回路と、
プラズマチャンバであって、
エッジリングと、
前記エッジリングの下方に位置付けられ、前記第1の修正RF信号を受信するために前記第1のインピーダンス整合回路に結合された結合リングであって、前記第1の修正RF信号を受信すると電極と前記エッジリングとの間にキャパシタンスを生成してイオン束の方向性を制御するように構成された前記電極を含む、結合リングと、
を含むプラズマチャンバと、
を備えるシステム。 - 請求項1に記載のシステムであって、更に、
第2のRF信号を生成するように構成された第2のRF発生器と、
前記第2のRF発生器に結合され、前記第2のRF信号を受信して第2の修正RF信号を生成するように構成された第2のインピーダンス整合回路と、
前記第2のインピーダンス整合回路に結合され、前記第2の修正RF信号を受信して前記プラズマチャンバ内におけるプラズマのインピーダンスを変化させるように構成されたチャックであって、前記エッジリング及び前記結合リングの側方に位置付けられたチャックと、
を備えるシステム。 - 請求項1に記載のシステムであって、
前記電極は、前記結合リングに埋め込まれ、ワイヤメッシュ又はリングである、システム。 - 請求項1に記載のシステムであって、更に、
前記結合リングの下方に位置付けられた第1の絶縁体リングと、
前記第1の絶縁体リングの下方に位置付けられた第2の絶縁体リングと、
前記電極に結合するために前記第2の絶縁体リング、前記第1の絶縁体リング、及び前記結合リングの一部分を通って延設されているケーブルであって、前記結合リングにおける前記電極と前記エッジリングとの間の部分は、前記電極と前記エッジリングとの間の誘電体として機能する、ケーブルと、
を備えるシステム。 - 請求項4に記載のシステムであって、更に、
前記第1の絶縁体リングの側方に位置付けられた接地リングを備えるシステム。 - 請求項1に記載のシステムであって、更に、
前記電極に結合された電力ピンの同軸ケーブルと、
一点において前記同軸ケーブルに結合されたフィードリングと、
前記フィードリング及び前記第1のインピーダンス整合回路に結合されたRFロッドと、
を備えるシステム。 - 請求項1に記載のシステムであって、更に、
前記プラズマチャンバ内に位置付けられたプローブと、
前記プローブに結合され、前記イオン束に関係付けられた変数を測定するように構成されたセンサと、
前記変数に基づいて、前記第1のRF発生器によって前記電極に供給される電力の量が修正されるべきであるかどうかを決定するために、前記センサに結合されたホストコンピュータシステムと、
を備え、
前記ホストコンピュータシステムは、前記第1のインピーダンス整合回路を通じて前記第1のRF発生器によって前記電極に供給される前記電力の量を変更するために、前記第1のRF発生器に結合される、システム。 - プラズマチャンバ内でエッジ領域におけるイオン束の方向性を制御するためのシステムであって、
第1のフィルタリングされたRF信号を出力するように構成された第1の高周波数(RF)フィルタと、
前記第1のRFフィルタに結合され、前記第1のフィルタリングされたRF信号を受信して第2のフィルタリングされたRF信号を出力するための第2のRFフィルタと、
プラズマチャンバであって、
エッジリングと、
前記エッジリングの下方に位置付けられ、前記第2のRFフィルタに結合された結合リングであって、前記第2のフィルタリングされたRF信号を受信し、前記第2のフィルタリングされたRF信号を受信すると更に電極と前記エッジリングとの間にキャパシタンスを生成してイオン束の方向性を制御するように構成された前記電極を含む、結合リングと、
を含むプラズマチャンバと、
を備えるシステム。 - 請求項8に記載のシステムであって、更に、
RF信号を生成するように構成されたRF発生器と、
前記RF発生器に結合され、前記RF信号を受信して修正RF信号を生成するように構成されたインピーダンス整合回路と、
前記インピーダンス整合回路に結合され、前記修正RF信号を受信して前記プラズマチャンバ内におけるプラズマのインピーダンスを変化させるように構成されたチャックであって、前記エッジリング及び前記結合リングの側方に位置付けられたチャックと、
を備えるシステム。 - 請求項8に記載のシステムであって、
前記電極は、前記結合リングに埋め込まれ、ワイヤメッシュ又はリングである、システム。 - 請求項8に記載のシステムであって、更に、
前記結合リングの下方に位置付けられた第1の絶縁体リングと、
前記第1の絶縁体リングの下方に位置付けられた一部分を有する第2の絶縁体リングと、
前記電極に結合するために前記第2の絶縁体リング、前記第1の絶縁体リング、及び前記結合リングの一部分を通って延設されている電力ピンであって、前記結合リングにおける前記電極と前記エッジリングとの間の部分は、前記電極と前記エッジリングとの間の誘電体として機能する、電力ピンと、
を備えるシステム。 - 請求項11に記載のシステムであって、更に、
前記第1の絶縁体リングの側方に位置付けられた接地リングを備えるシステム。 - 請求項8に記載のシステムであって、更に、
前記電極に結合された電力ピンの同軸ケーブルと、
一点において前記同軸ケーブルに結合されたフィードリングと、
前記フィードリングに結合された前記第2のRFフィルタに結合されたRFロッドと、
を備えるシステム。 - 請求項8に記載のシステムであって、更に、
前記プラズマチャンバ内に位置付けられたプローブと、
前記プローブに結合され、イオン束に関係付けられた変数を測定するように構成されたセンサと、
前記変数に基づいて、前記第1のRFフィルタのキャパシタンスが修正されるべきであるかどうかを決定するために、前記センサに結合されたホストコンピュータシステムと、
前記ホストコンピュータシステムに結合されたモータと、
を備え、
前記ホストコンピュータシステムは、前記モータを通じて前記第1のRFフィルタの前記キャパシタンスを修正するように構成される、システム。 - プラズマチャンバ内でエッジ領域におけるイオン束の方向性を制御するためのシステムであって、
フィルタリングされたRF信号を出力するように構成された高周波数(RF)フィルタと、
プラズマチャンバであって、
エッジリングと、
前記エッジリングの下方に位置付けられ、前記フィルタリングされたRF信号を受信するために前記RFフィルタに結合された結合リングであって、前記フィルタリングされたRF信号を受信すると電極と前記エッジリングとの間にキャパシタンスを生成してイオン束の方向性を制御するように構成された前記電極を含む、結合リングと、
を含むプラズマチャンバと、
を備えるシステム。 - 請求項15に記載のシステムであって、更に、
RF信号を生成するように構成されたRF発生器と、
前記RF発生器に結合され、前記RF信号を受信して修正RF信号を生成するように構成されたインピーダンス整合回路と、
前記インピーダンス整合回路に結合され、前記修正RF信号を受信して前記プラズマチャンバ内におけるプラズマのインピーダンスを変化させるように構成されたチャックであって、前記エッジリング及び前記結合リングの側方に位置付けられたチャックと、
を備えるシステム。 - 請求項15に記載のシステムであって、
前記電極は、前記結合リングに埋め込まれ、ワイヤメッシュ又はリングである、システム。 - 請求項15に記載のシステムであって、更に、
前記結合リングの下方に位置付けられた第1の絶縁体リングと、
前記第1の絶縁体リングの下方に位置付けられた一部分を有する第2の絶縁体リングと、
前記電極に結合するために前記第2の絶縁体リング、前記第1の絶縁体リング、及び前記結合リングの一部分を通って延設されている電力ピンであって、前記結合リングにおける前記電極と前記エッジリングとの間の部分は、前記電極と前記エッジリングとの間の誘電体として機能する、電力ピンと、
を備えるシステム。 - 請求項18に記載のシステムであって、更に、
前記第1の絶縁体リングの側方に位置付けられた接地リングを備えるシステム。 - 請求項15に記載のシステムであって、更に、
前記電極に結合された電力ピンの同軸ケーブルと、
一点において前記同軸ケーブルに結合されたフィードリングと、
を備えるシステム。 - 請求項15に記載のシステムであって、更に、
前記プラズマチャンバ内に位置付けられたプローブと、
前記プローブに結合され、イオン束に関係付けられた変数を測定するように構成されたセンサと、
前記変数に基づいて、前記RFフィルタのキャパシタンスが修正されるべきであるかどうかを決定するために、前記センサに結合されたホストコンピュータシステムと、
前記ホストコンピュータシステムに結合されたモータと、
を備え、
前記ホストコンピュータシステムは、前記モータを通じて前記RFフィルタの前記キャパシタンスを修正するように構成される、システム。
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