JP5313375B2 - プラズマ処理装置およびフォーカスリングとフォーカスリング部品 - Google Patents
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Description
Ce×Ve=Cg×Vg (2)
Ve=Cg×Vtotal/(Cg+Ce) (3)
10 処理チャンバー
11 載置台
12 絶縁板
15 熱媒体流路
16 ガス流路
20 整合器
21 高周波電源
22 グランド(アース)
25 フォーカスリング
26 リング状の絶縁部材
27 導電性部材
30 外側リング部
31 内側リング部
30a 傾斜面部
30b 水平面部
35 排気リング
40 シャワーヘッド
41 整合器
42 高周波電源
45 ガス吐出孔
47 ガス拡散用空隙
46 ガス導入部
50 ガス供給配管
51 ガス供給系
52 マスフローコントローラ
53 処理ガス供給源
Claims (13)
- 処理チャンバー内に配置された載置台上に被処理基板を載置させ、高周波電圧を与えることにより処理チャンバー内にプラズマを発生させて、被処理基板を処理するプラズマ処理装置であって、
前記載置台上に載置された被処理基板の周囲を囲むように配置されるフォーカスリングを備え、
前記フォーカスリングは、前記載置台上に載置された被処理基板の周囲外側に配置された導電性材料からなる外側リング部と、前記載置台上に載置された被処理基板の周縁部下方に所定の間隔を開けて配置された導電性材料からなる内側リング部を備え、
前記外側リング部と前記内側リング部は、電気的に導通しており、前記外側リング部および前記内側リング部と前記載置台の間は電気的に絶縁され、
前記外側リング部および前記内側リング部は、グランドに対して電気的に絶縁され、
前記外側リング部および前記内側リング部に可変直流電源を電気的に接続したことを特徴とする、プラズマ処理装置。 - 前記外側リング部および前記内側リング部と前記載置台の間に絶縁部材が配置されていることを特徴とする、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記外側リング部と前記内側リング部は、一体的に形成されていることを特徴とする、請求項1または2に記載のプラズマ処理装置。
- 前記外側リング部の上面は、前記載置台上に載置された被処理基板の周囲に配置された、外側に向かって次第に高くなる傾斜面部と、前記傾斜面部の外側に連続して形成された水平面部を有することを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記載置台上に載置された被処理基板の外周面とそれに対向する前記フォーカスリングの内周面との間隔が、前記内側リング部の上面と前記載置台上に載置された被処理基板の周縁部の下面との間隔よりも広いことを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記載置台上に載置された被処理基板の外周面とそれに対向する前記フォーカスリングの内周面との間隔が2〜2.5mm、前記内側リング部の上面と前記載置台上に載置された被処理基板の周縁部の下面との間隔が0.2〜1mmであることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記外側リング部と前記内側リング部を構成する導電性材料が、Si、C、SiCのいずれかであることを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 高周波電圧を与えることにより処理チャンバー内にプラズマを発生させて、被処理基板を処理するプラズマ処理装置において、前記処理チャンバー内に配置された載置台上の被処理基板の周囲を囲むように配置されるフォーカスリングであって、
前記載置台上に載置された被処理基板の周囲外側に配置される導電性材料からなる外側リング部と、前記載置台上に載置された被処理基板の周縁部下方に所定の間隔を開けて配置される導電性材料からなる内側リング部を備え、
前記外側リング部と前記内側リング部は、電気的に導通しており、前記外側リング部および前記内側リング部と前記載置台の間を絶縁するための絶縁部材を備え、
前記外側リング部および前記内側リング部に電気的に接続された可変直流電源を備えることを特徴とする、フォーカスリング。 - 前記外側リング部と前記内側リング部は、一体的に形成されていることを特徴とする、請求項8に記載のフォーカスリング。
- 前記載置台上に載置された被処理基板の外周面に対向する内周面に凹部が形成されていることを特徴とする、請求項9に記載のフォーカスリング。
- 前記外側リング部の上面は、前記載置台上に載置された被処理基板の周囲に配置された、外側に向かって次第に高くなる傾斜面部と、前記傾斜面部の外側に連続して形成された水平面部を有することを特徴とする、請求項8〜10のいずれかに記載のフォーカスリング。
- 前記外側リング部と前記内側リング部を構成する導電性材料が、Si、C、SiCのいずれかであることを特徴とする、請求項8〜11のいずれかに記載のフォーカスリング。
- 請求項8〜12のいずれかに記載のフォーカスリングと、前記処理チャンバー内において前記載置台上の被処理基板の周囲を囲むように前記フォーカスリングを配置させる支持部材とからなることを特徴とする、フォーカスリング部品。
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