JP6570971B2 - プラズマ処理装置およびフォーカスリング - Google Patents
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Description
図1は、プラズマ処理装置100全体の概略構成の一例を模式的に示す断面図である。図1に示すように、プラズマ処理装置100は、内部を気密に閉塞可能に構成された処理室を構成する円筒状のチャンバ1を有する。チャンバ1は、例えばアルミニウム等で形成される。チャンバ1の内部には、被処理体である半導体ウエハWが載置され、下部電極としても機能する載置台2が設けられている。載置台2は、例えばアルミニウム等の導電性材料によりブロック状に形成される。
次に、図2を用いて、図1に示したフォーカスリング8について更に説明する。図2は、フォーカスリング8、半導体ウエハW、静電チャック9、および載置台2の位置関係の一例を模式的に示す拡大断面図である。
次に、第2の平坦部8bの厚さおよび第3の平坦部8cの厚さ等と、イオンの入射方向の傾きの改善率との関係について行ったシミュレーション結果について説明する。図5は、実施形態におけるフォーカスリングの一例を示す断面図である。シミュレーションでは、例えば図5に示すように、第1の平坦部8aの部分におけるフォーカスリング8の厚さをT1、第2の平坦部8bの部分におけるフォーカスリング8の厚さをT2、第3の平坦部8cの部分におけるフォーカスリング8の厚さをT3と定義する。また、例えば図5に示すように、フォーカスリング8の内周面によって描かれる円の中心から、第2の平坦部8bと第3の平坦部8cとの間の壁面8dまでの距離をφと定義する。
100 プラズマ処理装置
1 チャンバ
2 載置台
8 フォーカスリング
8a 第1の平坦部
8b 第2の平坦部
8c 第3の平坦部
9 静電チャック
9a 保持面
Claims (22)
- プラズマを用いて被処理体にホールを形成するためのチャンバと、
前記チャンバの内部に設けられ、前記被処理体が載置される載置面を有する載置台と、
前記載置面に載置された前記被処理体を囲むように前記載置台の周囲に設けられたフォーカスリングであって、前記載置面よりも低い第1の平坦部と、前記第1の平坦部よりも低い第2の平坦部と、前記第1の平坦部よりも高い第3の平坦部とが内周側から外周側へ向けて順に配置されたフォーカスリングと
を備え、
前記第1の平坦部の一部は、
前記載置台に載置された前記被処理体の面に垂直な方向から見た場合に、前記被処理体が配置される領域の外側に配置されることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記第1の平坦部と前記第2の平坦部との間には、前記フォーカスリングの内周側から外周側へ進むに従って低くなる傾斜面が設けられることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第2の平坦部と前記第3の平坦部との間には、前記フォーカスリングの内周側から外周側へ進むに従って高くなる傾斜面が設けられることを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマ処理装置。
- プラズマを用いて被処理体にホールを形成するためのチャンバと、
前記チャンバの内部に設けられ、前記被処理体が載置される載置面を有する載置台と、
前記載置面に載置された前記被処理体を囲むように前記載置台の周囲に設けられたフォーカスリングであって、前記載置面よりも低い第1の平坦部と、前記第1の平坦部よりも低い第2の平坦部と、前記第1の平坦部よりも高い第3の平坦部とが内周側から外周側へ向けて順に配置されたフォーカスリングと
を備え、
前記第1の平坦部と前記第2の平坦部との間には、前記フォーカスリングの内周側から外周側へ進むに従って低くなる傾斜面が設けられることを特徴とするプラズマ処理装置。 - プラズマを用いて被処理体にホールを形成するためのチャンバと、
前記チャンバの内部に設けられ、前記被処理体が載置される載置面を有する載置台と、
前記載置面に載置された前記被処理体を囲むように前記載置台の周囲に設けられたフォーカスリングであって、前記載置面よりも低い第1の平坦部と、前記第1の平坦部よりも低い第2の平坦部と、前記第1の平坦部よりも高い第3の平坦部とが内周側から外周側へ向けて順に配置されたフォーカスリングと
を備え、
前記第2の平坦部と前記第3の平坦部との間には、前記フォーカスリングの内周側から外周側へ進むに従って高くなる傾斜面が設けられることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記第2の平坦部と前記第3の平坦部との間には、前記フォーカスリングの厚さ方向に前記第2の平坦部から第1の高さまで延伸する壁面部が設けられ、
前記傾斜面は、前記第1の高さから前記第3の平坦部までの間に設けられることを特徴とする請求項3または5に記載のプラズマ処理装置。 - 前記第1の高さは、前記第2の平坦部から前記第1の平坦部までの高さと同じかそれよりも高いことを特徴とする請求項6に記載のプラズマ処理装置。
- 前記フォーカスリングの径方向において、前記第1の平坦部の幅は、前記第2の平坦部の幅よりも狭いことを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記フォーカスリングの径方向において、前記第2の平坦部の幅は、前記第3の平坦部の幅よりも狭いことを特徴とする請求項1から8のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第3の平坦部は、前記載置台の載置面に載置された前記被処理体の被処理面よりも高い位置に設けられることを特徴とする請求項1から9のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1の平坦部は、前記載置台の載置面よりも低い位置に設けられることを特徴とする請求項1から10のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- プラズマを用いて被処理体にホールを形成するためのチャンバの内部に設けられ、載置台の載置面に載置された前記被処理体を囲むように前記載置台の周囲に設けられたフォーカスリングであって、
前記載置面よりも低い第1の平坦部と、
前記第1の平坦部よりも低い第2の平坦部と、
前記第1の平坦部よりも高い第3の平坦部と
を備え、
前記第1の平坦部、前記第2の平坦部、および前記第3の平坦部が、前記フォーカスリングの内周側から外周側へ向けて順に配置され、
前記第1の平坦部の一部は、
前記載置台に載置された前記被処理体の面に垂直な方向から見た場合に、前記被処理体が配置される領域の外側に配置されることを特徴とするフォーカスリング。 - 前記第1の平坦部と前記第2の平坦部との間には、前記フォーカスリングの内周側から外周側へ進むに従って低くなる傾斜面が設けられることを特徴とする請求項12に記載のフォーカスリング。
- 前記第2の平坦部と前記第3の平坦部との間には、前記フォーカスリングの内周側から外周側へ進むに従って高くなる傾斜面が設けられることを特徴とする請求項12または13に記載のフォーカスリング。
- プラズマを用いて被処理体にホールを形成するためのチャンバの内部に設けられ、載置台の載置面に載置された前記被処理体を囲むように前記載置台の周囲に設けられたフォーカスリングであって、
前記載置面よりも低い第1の平坦部と、
前記第1の平坦部よりも低い第2の平坦部と、
前記第1の平坦部よりも高い第3の平坦部と
を備え、
前記第1の平坦部、前記第2の平坦部、および前記第3の平坦部が、前記フォーカスリングの内周側から外周側へ向けて順に配置され、
前記第1の平坦部と前記第2の平坦部との間には、前記フォーカスリングの内周側から外周側へ進むに従って低くなる傾斜面が設けられることを特徴とするフォーカスリング。 - プラズマを用いて被処理体にホールを形成するためのチャンバの内部に設けられ、載置台の載置面に載置された前記被処理体を囲むように前記載置台の周囲に設けられたフォーカスリングであって、
前記載置面よりも低い第1の平坦部と、
前記第1の平坦部よりも低い第2の平坦部と、
前記第1の平坦部よりも高い第3の平坦部と
を備え、
前記第1の平坦部、前記第2の平坦部、および前記第3の平坦部が、前記フォーカスリングの内周側から外周側へ向けて順に配置され、
前記第2の平坦部と前記第3の平坦部との間には、前記フォーカスリングの内周側から外周側へ進むに従って高くなる傾斜面が設けられることを特徴とするフォーカスリング。 - 前記第2の平坦部と前記第3の平坦部との間には、前記フォーカスリングの厚さ方向に前記第2の平坦部から第1の高さまで延伸する壁面部が設けられ、
前記傾斜面は、前記第1の高さから前記第3の平坦部までの間に設けられることを特徴とする請求項14または16に記載のフォーカスリング。 - 前記第1の高さは、前記第2の平坦部から前記第1の平坦部までの高さと同じかそれよりも高いことを特徴とする請求項17に記載のフォーカスリング。
- 前記フォーカスリングの径方向において、前記第1の平坦部の幅は、前記第2の平坦部の幅よりも狭いことを特徴とする請求項12から18のいずれか一項に記載のフォーカスリング。
- 前記フォーカスリングの径方向において、前記第2の平坦部の幅は、前記第3の平坦部の幅よりも狭いことを特徴とする請求項12から19のいずれか一項に記載のフォーカスリング。
- 前記第3の平坦部は、前記載置台の載置面に載置された前記被処理体の被処理面よりも高い位置に設けられることを特徴とする請求項12から20のいずれか一項に記載のフォーカスリング。
- 前記第1の平坦部は、前記載置台の載置面よりも低い位置に設けられることを特徴とする請求項12から21のいずれか一項に記載のフォーカスリング。
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