JP2022125694A - 積層セラミックコンデンサ - Google Patents

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Abstract

【課題】小型化が図られながら高容量と信頼性の両立を実現することができる積層セラミックコンデンサを提供する。【解決手段】第1の誘電体セラミック層の積層方向に対応する厚みは0.48μm以上0.50μm以下であり、付加誘電体セラミック層の幅方向に対応する厚みは10μm以上15μm以下であり、第1の誘電体セラミック層の積層方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子の個数は3個以上6個以下であり、付加誘電体セラミック層の幅方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子の個数は100個以上150個以下であり、第1の誘電体セラミック層の積層方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子の個数と、付加誘電体セラミック層の幅方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子の個数との比は1:23.08以上46.15以下である。【選択図】図4

Description

本発明は、積層セラミックコンデンサに関する。
従来、誘電体セラミック層と内部電極層とを多層化した積層体と、この積層体の両端部に配置された外部電極とを備えた積層セラミックコンデンサが知られている。このような積層セラミックコンデンサにおいては、積層体の側面を保護し、側面の内部電極層が外部電極層に接続することを防止するなどの機能を備えたサイドマージン部を備える積層セラミックコンデンサが知られている(例えば、特許文献1)。
特開2019-197790号公報
高容量の積層セラミックコンデンサを得るためには、誘電体セラミック層の薄層化および積層数を増やすことが必要とされる一方、積層セラミックコンデンサの小型化及び薄型化も要求されている。しかし、小型化のためにサイドマージン部の厚みを薄くすると耐湿性の低下による信頼性の低下が懸念され、高容量と信頼性の両立が困難になる。
本発明は、小型化が図られながら高容量と信頼性の両立を実現することができる積層セラミックコンデンサを提供することを目的とする。
本発明の積層セラミックコンデンサは、積層方向に積層される誘電体セラミック層及び内部電極層を含む積層体と、前記内部電極層に接続される外部電極と、を備え、前記積層体は、前記積層方向において相対する第1の主面及び第2の主面と、前記積層方向に直交する幅方向において相対する第1の側面及び第2の側面と、前記積層方向及び前記幅方向に直交する長さ方向において相対する第1の端面及び第2の端面と、を有するとともに、前記内部電極層が前記誘電体セラミック層を介して交互に積層される内層部と、前記内層部を前記積層方向に挟むように配置される外層部と、を有し、前記誘電体セラミック層は、前記内層部において前記内部電極層の間に積層される第1の誘電体セラミック層と、前記外層部を構成する第2の誘電体セラミック層と、を含み、前記第1の側面及び前記第2の側面に、前記内層部及び前記外層部を前記幅方向に挟むように付加誘電体セラミック層が配置された積層セラミックコンデンサにおいて、前記第1の誘電体セラミック層の前記積層方向に対応する厚みは、0.48μm以上0.50μm以下であり、前記付加誘電体セラミック層の前記幅方向に対応する厚みは、10μm以上15μm以下であり、前記第1の誘電体セラミック層の前記積層方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子の個数は、3個以上6個以下であり、前記付加誘電体セラミック層の前記幅方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子の個数は、100個以上150個以下であり、前記第1の誘電体セラミック層の前記積層方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子の個数と、前記付加誘電体セラミック層の前記幅方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子の個数との比は、1:23.08以上46.15以下である。
本発明によれば、小型化が図られながら高容量と信頼性の両立を実現することができる積層セラミックコンデンサを提供することができる。
本発明の実施形態に係る積層セラミックコンデンサの概略斜視図である。 図1のII-II断面図である。 図1のIII-III断面図である。 図3のIV部拡大図である。 実施形態に係る誘電体セラミック層の積層体の、内部電極層の側面におけるずれ量を示す断面図である。
以下、図面を参照しながら実施形態について説明する。
図1は、実施形態に係る積層セラミックコンデンサ10の概略斜視図である。図2は、図1に示すII-II線に沿った断面図である。図3は、図1に示すIII-III線に沿った断面図である。
図1に示すように、実施形態の積層セラミックコンデンサ10は、全体として略直方体形状を有している。この積層セラミックコンデンサ10は、素体部11と、一対の外部電極16と、を備えている。
図1ないし図3において、矢印Tは、積層セラミックコンデンサ10及び素体部11の積層方向を示している。図1及び図2において、矢印Lは、積層セラミックコンデンサ10及び素体部11の、積層(T)方向に直交する長さ方向を示している。図1及び図3において、矢印Wは、積層セラミックコンデンサ10及び素体部11の、積層(T)方向及び長さ(L)方向に直交する幅方向を示している。
なお、図4及び図5においても、積層(T)方向及び幅(W)方向を示している。
図1及び図2に示すように、一対の外部電極16は、素体部11の長さ(L)方向の両端部の外表面を覆うように互いに離間して設けられている。一対の外部電極16は、それぞれ導電膜により構成されている。
一対の外部電極16は、例えば焼結金属層とめっき層との積層膜により構成される。焼結金属層は、例えばCu、Ni、Ag、Pd、Ag-Pd合金、Au等のペーストを焼き付けることで形成される。めっき層は、例えばNiめっき層とこれを覆うSnめっき層とにより構成される。めっき層は、これに代えてCuめっき層やAuめっき層であってもよい。また、一対の外部電極16は、めっき層のみによって構成されていてもよい。さらには、一対の外部電極16として、導電性樹脂ペーストを利用することも可能である。
図2及び図3に示すように、素体部11は、積層(T)方向に沿って交互に積層された複数の誘電体セラミック層13及び内部電極層14からなる積層体12と、積層体12の幅(W)方向両側の側面を覆う一対の付加誘電体セラミック層15と、を含んでいる。付加誘電体セラミック層15は、サイドギャップ部と称されることもある。積層体12は、積層セラミックコンデンサ10及び素体部11と同一の方向である積層(T)方向、長さ(L)方向及び幅(W)方向を有する。
誘電体セラミック層13及び付加誘電体セラミック層15は、例えばチタン酸バリウムを主成分とするセラミックス材料が焼成されて形成される。誘電体セラミック層13及び付加誘電体セラミック層15は、他の高誘電率のセラミックス材料(例えば、CaTiO、SrTiO、CaZrO等を主成分とするもの)により形成されていてもよい。誘電体セラミック層13及び付加誘電体セラミック層15を形成するセラミック材料には、例えば組成を調整することを目的として、Si、Mg、Mn、Sn、Cu、希土類、Ni及びAl等の添加剤が含まれる。
内部電極層14は、例えばNi、Cu、Ag、Pd、Ag-Pd合金、Au等に代表される金属材料により形成される。内部電極層14は、これらの金属材料に限られず、他の導電材料で形成されてもよい。
図2に示すように、積層(T)方向に沿って誘電体セラミック層13を挟んで隣り合う一対の内部電極層14のうちの一方は、積層セラミックコンデンサ10の内部において一対の外部電極16のうちの一方に電気的に接続されており、積層(T)方向に沿って誘電体セラミック層13を挟んで隣り合う一対の内部電極層14のうちの他方は、積層セラミックコンデンサ10の内部において一対の外部電極16のうちの他方に電気的に接続されている。これにより、一対の外部電極16間は、複数のコンデンサ要素が電気的に並列に接続された構造となっている。
図2及び図3に示すように、誘電体セラミック層13は、内部電極層14の間に挟まれた複数の第1の誘電体セラミック層13aと、積層(T)方向の両端に配置され、第1の誘電体セラミック層13aよりも厚みの大きい一対の第2の誘電体セラミック層13bと、を有する。
図2及び図3に示すように、積層体12は、複数の内部電極層14のそれぞれが第1の誘電体セラミック層13aを介して対向している内層部12Aと、内層部12Aを積層(T)方向に挟むように配設された一対の外層部12Bと、を有する。すなわち内層部12Aにおいては、複数の内部電極層14が第1の誘電体セラミック層13aを介して交互に積層されている。
また、積層体12は、積層(T)方向において相対する第1の主面17a1及び第2の主面17a2と、幅(W)方向において相対する第1の側面17b1及び第2の側面17b2と、長さ(L)方向において相対する第1の端面17c1及び第2の端面17c2と、を有する。
積層体12の第1の端面17c1及び第2の端面17c2においては、外部電極16に接続されるべき内部電極層14の長さ(L)方向における片側の端面が露出している。一方、積層体12の第1の側面17b1及び第2の側面17b2においては、内部電極層14の幅(W)方向の両側の端面が露出している。
図3に示すように、積層体12の第1の側面17b1及び第2の側面17b2には、第1の側面17b1及び第2の側面17b2のそれぞれを覆うように付加誘電体セラミック層15が形成されている。
実施形態の積層セラミックコンデンサ10は、例えば、誘電体セラミック層13となるセラミックグリーンシート等のセラミック材料及び内部電極層14となる導電ペースト等の導電材料が積層されて積層体12が形成され、その積層体12の第1の側面17b1及び第2の側面17b2に、付加誘電体セラミック層15となるセラミックグリーンシート等のセラミック材料が貼り付けられる。そして、積層体12及び付加誘電体セラミック層15となるそれらの材料が焼成され、この後、外部電極16が焼き付けやめっき等により形成されて、積層セラミックコンデンサ10が製造される。
図4は、図3のIVで示す部分の拡大図であり、内部電極層14の幅(W)方向の一端部と、内部電極層14の間に配置された第1の誘電体セラミック層13aと、内部電極層14及び第1の誘電体セラミック層13aの第2の側面17b2に接触する状態に配置された付加誘電体セラミック層15と、を示している。
第1の誘電体セラミック層13aは、第1の誘電体セラミック層13aの材料に由来する誘電体粒子21を含んでいる。また、付加誘電体セラミック層15は、付加誘電体セラミック層15の材料に由来する誘電体粒子31を含んでいる。
本実施形態においては、第1の誘電体セラミック層13aの積層(T)方向に対応する厚みT1は、例えば0.48μm以上0.50μm以下である。一方、付加誘電体セラミック層15の幅(W)方向に対応する厚みT2は、例えば10μm以上15μm以下である。
本実施形態においては、第1の誘電体セラミック層13aの積層(T)方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子21の個数は、3個以上6個以下であることが好ましい。一方、付加誘電体セラミック層15の幅(W)方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子31の個数は、100個以上150個以下であることが好ましい。
そして、第1の誘電体セラミック層13aの積層(T)方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子21の個数と、付加誘電体セラミック層15の幅(W)方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子31の個数との比は、第1の誘電体セラミック層13aの積層(T)方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子21の個数1に対して、付加誘電体セラミック層15の幅(W)方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子31の個数が23.08以上46.15以下、すなわち1:23.08以上46.15以下であることが好ましい。
例えば、付加誘電体セラミック層15の厚みT2が18000nm、厚み方向の中央で、側面から中心に向かって直線を引き、直線上に配置される付加誘電体セラミック層15に存在する誘電体粒子31の平均粒子径が130nmであった場合、付加誘電体セラミック層15の厚み方向における誘電体粒子31の個数は計算上138.462個となり、これに対する幅方向、厚み方向、長さ方向中央部で、積層方向に直線をひき、直線上の第1の誘電体セラミック層13aの厚み方向における個数が3以上6以下であると、両者の個数の比は、1:23.08以上46.15以下となる。
したがって本実施形態においては、第1の誘電体セラミック層13aに含まれる誘電体粒子21の平均粒子径は、付加誘電体セラミック層15に含まれる誘電体粒子31の平均粒子径よりも大幅に大きい。なお、本明細書において、平均粒子径とは、所定の領域内において走査型電子顕微鏡(SEM)による画像解析を行った際の積算個数分布が50%の円相当粒子径(体積D50径)を意味する。
また、本実施形態においては、図5に示すように、積層体12の第2の側面17b2を構成する全ての内部電極層14の端縁14aの、幅(W)方向への最大ずれ量は、例えば0.5μm以下が好ましい。積層体12の第1の側面17b1側においても同様であって、内部電極層14の端縁の幅(W)方向の最大ずれ量は0.5μm以下とされる。
なお、ここでいう最大ずれ量とは、幅(W)方向外側の端縁14aが最も幅(W)方向内側にある内部電極層14(図7で14E)の端縁14aと、幅(W)方向外側の端縁14aが最も幅(W)方向外側にある内部電極層14(図7で14F)の端縁14aとの幅(W)方向の差Dである。
本実施形態においては、第1の誘電体セラミック層13a及び付加誘電体セラミック層15の双方がMgを含む場合、付加誘電体セラミック層15のMgの含有量は、第1の誘電体セラミック層13aが含有するMgの含有量よりも多いことが好ましい。また、第1の誘電体セラミック層13aがMgを含まない場合であっても、付加誘電体セラミック層15はMgを含むことが好ましい。
Mgは、誘電体セラミック層の焼成時における粒成長を阻害する作用を有する。そのため、誘電体セラミック層のMgの含有量を調整することによって、誘電体セラミック層の粒子の大きさが調整される。付加誘電体セラミック層15のMgの含有量が、第1の誘電体セラミック層13aが含有するMgの含有量よりも多くされることによって、第1の誘電体セラミック層13aの積層(T)方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子21の個数と、付加誘電体セラミック層15の幅(W)方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子31の個数との比が容易に調整される。
なお、本実施形態の積層セラミックコンデンサ10は、全体の寸法が、例えば、長さ(L)方向において0.40mm以上0.60mm以下、幅(W)方向において0.20mm以上0.30mm以下、積層(T)方向において0.20mm以上0.50mm以下といった程度の小型に構成することができる。
以上説明した本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ10によれば、以下の効果が奏される。
(1)本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ10は、積層(T)方向に積層される誘電体セラミック層13及び内部電極層14を含む積層体12と、内部電極層14に接続される外部電極16と、を備え、積層体12は、積層(T)方向において相対する第1の主面17a1及び第2の主面17a2と、積層(T)方向に直交する幅(W)方向において相対する第1の側面17b1及び第2の側面17b2と、積層(T)方向及び幅(W)方向に直交する長さ(L)方向において相対する第1の端面17c1及び第2の端面17c2と、を有するとともに、内部電極層14が誘電体セラミック層13を介して交互に積層される内層部12Aと、内層部12Aを積層(T)方向に挟むように配置される外層部12Bと、を有し、誘電体セラミック層13は、内層部12Aにおいて内部電極層14の間に積層される第1の誘電体セラミック層13aと、外層部12Bを構成する第2の誘電体セラミック層13bと、を含み、第1の側面17b1及び第2の側面17b2に、内層部12A及び外層部12Bを幅(W)方向に挟むように付加誘電体セラミック層15が配置され、第1の誘電体セラミック層13aの積層(T)方向に対応する厚みT1は、0.48μm以上0.50μm以下であり、付加誘電体セラミック層15の幅(W)方向に対応する厚みT2は、10μm以上15μm以下であり、第1の誘電体セラミック層13aの積層(T)方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子21の個数は、3個以上6個以下であり、付加誘電体セラミック層15の幅(W)方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子31の個数は、100個以上150個以下であり、第1の誘電体セラミック層13aの積層(T)方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子21の個数と、付加誘電体セラミック層15の幅(W)方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子31の個数との比は、1:23.08以上46.15以下である。
これにより、第1の誘電体セラミック層13aに含まれる誘電体粒子21が大径となることによる高容量化が図られる。一方、付加誘電体セラミック層15に含まれる誘電体粒子31は小径となることから全体の表面積が大きくなり、その表面積を形成する界面も大きくなるため耐湿性が向上する。これらの結果、小型化が図られながら高容量と信頼性の両立を実現することができる。
(2)本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ10においては、第1の誘電体セラミック層13aに含まれる誘電体粒子21の平均粒子径は、付加誘電体セラミック層15に含まれる誘電体粒子31の平均粒子径よりも大きい。
これにより、高容量化が図られる。
(3)本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ10においては、積層体12の第1の側面17b1及び第2の側面17b2を構成する内部電極層14の幅(W)方向の端縁14aの、幅(W)方向への最大ずれ量が、0.5μm以下であると好ましい。
これにより、積層体12の第1の側面17b1及び第2の側面17b2が平坦になり、第1の側面17b1及び第2の側面17b2に付加誘電体セラミック層15を貼り付けて形成する場合、付加誘電体セラミック層15を凹凸のない平坦な状態に貼り付けて形成することができる。
(4)本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ10においては、付加誘電体セラミック層15はMgを含み、付加誘電体セラミック層15のMgの含有量は、第1の誘電体セラミック層13aが含有するMgの含有量よりも多いことが好ましい。
これにより、第1の誘電体セラミック層13aの積層(T)方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子21の個数と、付加誘電体セラミック層15の幅(W)方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子31の個数との比が容易に調整される。
(5)本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ10においては、全体の寸法が、長さ(L)方向において0.40mm以上0.60mm以下、幅(W)方向において0.20mm以上0.30mm以下、積層(T)方向において0.20mm以上0.50mm以下である寸法に構成することができる。
これにより、小型化が図られながら高容量と信頼性の両立を実現することができる。
以上、実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に制限はされず、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
10 積層セラミックコンデンサ
12 積層体
12A 内層部
12B 外層部
13 誘電体セラミック層
13a 第1の誘電体セラミック層
13b 第2の誘電体セラミック層
14 内部電極層
14a 内部電極層の幅方向の端縁
15 付加誘電体セラミック層
16 外部電極
17a1 第1の主面
17a2 第2の主面
17b1 第1の側面
17b2 第2の側面
17c1 第1の端面
17c2 第2の端面
21 第1の誘電体セラミック層の誘電体粒子
31 付加誘電体セラミック層の誘電体粒子

Claims (5)

  1. 積層方向に積層される誘電体セラミック層及び内部電極層を含む積層体と、
    前記内部電極層に接続される外部電極と、を備え、
    前記積層体は、前記積層方向において相対する第1の主面及び第2の主面と、前記積層方向に直交する幅方向において相対する第1の側面及び第2の側面と、前記積層方向及び前記幅方向に直交する長さ方向において相対する第1の端面及び第2の端面と、を有するとともに、前記内部電極層が前記誘電体セラミック層を介して交互に積層される内層部と、前記内層部を前記積層方向に挟むように配置される外層部と、を有し、
    前記誘電体セラミック層は、前記内層部において前記内部電極層の間に積層される第1の誘電体セラミック層と、前記外層部を構成する第2の誘電体セラミック層と、を含み、
    前記第1の側面及び前記第2の側面に、前記内層部及び前記外層部を前記幅方向に挟むように付加誘電体セラミック層が配置された積層セラミックコンデンサにおいて、
    前記第1の誘電体セラミック層の前記積層方向に対応する厚みは、0.48μm以上0.50μm以下であり、
    前記付加誘電体セラミック層の前記幅方向に対応する厚みは、10μm以上15μm以下であり、
    前記第1の誘電体セラミック層の前記積層方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子の個数は、3個以上6個以下であり、
    前記付加誘電体セラミック層の前記幅方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子の個数は、100個以上150個以下であり、
    前記第1の誘電体セラミック層の前記積層方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子の個数と、前記付加誘電体セラミック層の前記幅方向に対応する厚み方向に存在する誘電体粒子の個数との比は、1:23.08以上46.15以下である、積層セラミックコンデンサ。
  2. 前記第1の誘電体セラミック層に含まれる誘電体粒子の平均粒子径は、前記付加誘電体セラミック層に含まれる誘電体粒子の平均粒子径よりも大きい、請求項1に記載の積層セラミックコンデンサ。
  3. 前記積層体の前記第1の側面及び前記第2の側面を構成する前記内部電極層の前記幅方向の端縁の、前記幅方向への最大ずれ量が、0.5μm以下である、請求項1または2に記載の積層セラミックコンデンサ。
  4. 前記付加誘電体セラミック層はMgを含み、前記付加誘電体セラミック層のMgの含有量は、前記第1の誘電体セラミック層が含有するMgの含有量よりも多い、請求項1~3のいずれか1項に記載の積層セラミックコンデンサ。
  5. 全体の寸法が、前記長さ方向において0.40mm以上0.60mm以下、前記幅方向において0.20mm以上0.30mm以下、前記積層方向において0.20mm以上0.50mm以下である、請求項1~4のいずれか1項に記載の積層セラミックコンデンサ。
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