JP2021027063A - ウエットエッチング方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】ウエットエッチングの際、洗浄水の飛散を抑制する。【解決手段】ウエットエッチングされるウェーハＷが、隙間を有するウェーハ支持具３に支持されている。ウェーハ支持具３に支持されたウェーハＷの上面を洗浄水によって洗浄する際、ウェーハ支持具３の隙間から流れ落ちる洗浄水が、ウェーハ支持具３の下方に配置された洗浄液用ボトル３２によって回収される。これにより、洗浄水を、ウェーハＷの周囲に飛散させることを抑制しながら、良好に回収することができる。【選択図】図７

Description

本発明は、ウエットエッチング方法に関する。
特許文献１〜３には、ウエットエッチングが開示されている。ウエットエッチングでは、シリコンのウェーハの上面にエッチング液が供給されて、ウェーハの上面がエッチングされる。
特開平０２−０８６１３０号公報 特開平０６−２６５８６９号公報 特開２０１７−０２８２５７号公報
従来、エッチング後にウェーハを洗浄するための洗浄水が、ウェーハの周囲に飛散する。したがって、飛散した洗浄水を回収するために、大型の廃液処理装置が必要になる。
本発明の目的は、ウエットエッチングの際、洗浄水の飛散を抑制することにある。
本発明のウエットエッチング方法（本ウエットエッチング方法）は、エッチング液を用いてウェーハの上面をエッチングするウエットエッチング方法であって、表面張力でウェーハの上面にエッチング液を溜め、ウェーハの上面をエッチングするエッチング工程と、ウェーハの上面を洗浄水によって洗浄し、ウェーハの上面から溢れ落ちる該洗浄水を、ウェーハの下に配置される第１のボトルに溜める洗浄工程と、ウェーハを、その中心を軸に回転させて乾燥させる乾燥工程と、を含む。
本ウエットエッチング方法は、該エッチング工程と該洗浄工程との間に実施され、ウェーハの上面から該エッチング液を吸い取り手段で吸い取るエッチング液回収工程をさらに含んでもよい。
本ウエットエッチング方法は、該洗浄工程と該乾燥工程との間に実施され、該ウェーハの上面に形成されている樹脂からなるマスク層を除去するマスク除去工程をさらに含んでもよく、該マスク除去工程は、ウェーハの上面に有機溶媒を供給して該マスク層を溶解させること、および、ウェーハから垂れ落ちる溶解した該樹脂と該有機溶媒とを、ウェーハの下に配置される第２のボトルに溜めることを含んでもよい。
本ウエットエッチング方法では、洗浄工程において、ウェーハの上面から溢れ落ちる洗浄水を、ウェーハの下に配置される第１のボトルに溜めている。
したがって、本実施形態では、洗浄水を、ウェーハの周囲に飛散させることを抑制しながら、良好に回収することができる。
また、本ウエットエッチング方法では、エッチング工程において、ウェーハの上面に、表面張力でエッチング液を溜めて、これによってエッチングを実施している。これにより、エッチングに用いるエッチング液の量を少なくすることができる。
また、本ウエットエッチング方法は、上述したエッチング液回収工程をさらに含んでもよい。これにより、ウェーハの上面からエッチング液を吸い取って回収することができる。したがって、エッチング液をウェーハの周囲に飛散させることを、抑制することができる。なお、回収されたエッチング液は、エッチング時間が長くなる可能性があるものの、再利用することが可能である。このため、エッチング液を処理するための廃液処理装置を用いる頻度を低下させることができる。
また、本ウエットエッチング方法は、上述したマスク除去工程をさらに含んでもよい。これにより、ウェーハから、マスクを容易に除去することができる。
また、マスク層除去工程において、ウェーハＷから垂れ落ちる有機溶媒および溶解した樹脂を、第２のボトルに溜めて回収することができる。このため、有機溶媒および溶解した樹脂を、ウェーハの周囲に飛散させることを抑制しながら、容易に回収することができる。
なお、従来、エッチング液、洗浄水、あるいは有機溶媒をウェーハに供給し、ウェーハからエッチング液、洗浄水、そして有機溶媒を飛散させるようにして、ウェーハのエッチングを実施している。この場合、エッチング工程、洗浄工程およびマスク層除去工程に用いる装置を収容するために、作業者が内部で作業することの可能なサイズの、大型のクリーンルームが用いられる。
一方、本ウエットエッチング方法では、ウェーハに液体を供給し、ウェーハ上の液体を吸い取って回収するか、あるいは、ウェーハから溢れ落ちる液体を、ボトルによって回収している。このため、エッチング工程、エッチング液回収工程、洗浄工程およびマスク層除去工程に用いられる装置の構造を、著しく小型化することができる。したがって、これらの装置を、小型の収容室に収容することができる。これにより、大型のクリーンルームを不要とすることができるとともに、ウエットエッチングのための装置のサイズおよびコストを、著しく抑えることが可能である。
本実施形態の形態にかかるエッチング方法の準備工程を示す説明図である。 ウェーハ支持具を示す斜視図である。 ウェーハが載置されたウェーハ支持具を示す斜視図である。図である。 エッチング工程を示す説明図である。 エッチング液用ボトルの構成を示す説明図である。 エッチング液回収工程を示す説明図である。 洗浄工程を示す説明図である。 マスク層除去工程における第１工程を示す説明図である。 マスク層除去工程における第２工程を示す説明図である。 乾燥工程に用いられる乾燥ユニットを示す説明図である。 乾燥ユニットの構成を示す斜視図である。
本実施形態の形態にかかるエッチング方法（本エッチング方法）は、エッチング液を用いて、ウェーハの上面をエッチングするウエットエッチング方法である。
本実施形態においてウエットエッチングされるウェーハは、たとえば、小口径（たとえば１インチ程度）のものである。
（１）準備工程
本エッチング方法では、まず、準備工程において、図１に示すように、ウェーハＷを、矢印Ｒに示すようにウェーハ支持具３に載置する。これにより、ウェーハＷが、ウェーハ支持具３によって支持される。
ここで、ウェーハ支持具３の構成について説明する。図２および図３に示すように、ウェーハ支持具３は、ウェーハＷを支持する本体部４を備えている。本体部４は、ウェーハＷが載置されるベース部５、ベース部５に立設されている複数の柱部６、および、柱部６の上端を結ぶように設けられたリング部７を含む。
ベース部５は、ウェーハＷよりわずかに大きい径を有している。ベース部５は、枠部（骨部）５ａ、および、枠部５ａの隙間である孔部５ｂを有する網目形状を有しており、ウェーハＷの下面に部分接触した状態で、ウェーハＷを保持する。柱部６は、ベース部５に載置されたウェーハＷを囲むように、ベース部５の外周部に立設されている。
また、ウェーハ支持具３は、本体部４から外側に張り出す複数の足８を備えている。本実施形態では、６本の足８が、本体部４の柱部６から外側に張り出している。各足８は、その先端に、下方に延びる留め具９を有している。
（２）エッチング工程
準備工程の後、エッチング工程が実施される。なお、エッチング工程、および、後に実施される回収工程、洗浄工程、マスク除去工程および乾燥工程は、たとえば、図示しない小型の収容室内において実施される。収容室は、たとえば、いわゆるグローブボックス（小型のドラフトチャンバー）であり、外気と遮断された状況下で作業できるように、内部に手だけを入れられるよう設計された密閉容器である。
エッチング工程では、表面張力でウェーハＷの上面にエッチング液を溜め、ウェーハＷの上面をエッチングする。本実施形態では、ウェーハ支持具３に支持されたウェーハＷの上面に、エッチング液を溜めて、ウェーハＷの上面をエッチングする。
図４に示すように、エッチング工程では、ウェーハＷを支持しているウェーハ支持具３が、エッチング液用ボトル２２に載置される。さらに、エッチング工程では、エッチング液を供給するためのエッチング液供給部２３が用いられる。
エッチング液用ボトル２２は、図４および図５に示すように、上部に開口２２ａを有している。開口２２ａは、ウェーハＷの直径よりも大きく、足８を介してウェーハ支持具３を係合可能なように形成されている。すなわち、エッチング工程では、図５に示すように、エッチング液用ボトル２２の開口２２ａに、留め具９を有する足８を介して、ウェーハＷを支持しているウェーハ支持具３が係合される。
エッチング液供給部２３は、図４に示すように、エッチング液を供給するためのエッチング液供給ノズル２４、および、エッチング液供給ノズル２４を上下方向に移動させるためのエッチング液供給ノズル昇降手段２５を備えている。エッチング液供給ノズル２４は、エッチング液供給源ＥＳに連通されることが可能である。
エッチング工程では、エッチング液供給部２３におけるエッチング液供給ノズル昇降手段２５によって、エッチング液供給ノズル２４が、所定の高さに配置される。そして、エッチング液供給ノズル２４がエッチング液供給源ＥＳに連通され、エッチング液供給ノズル２４から、ウェーハ支持具３に支持されたウェーハＷの上面に、所定量のエッチング液が滴下される。これにより、エッチング液供給部２３は、ウェーハＷの上面に、表面張力でエッチング液層ＥＬを形成する。そして、エッチング液層ＥＬの形成から、約３分間、待機する。これにより、ウェーハＷの上面がエッチング（薬液加工）される。
（３）エッチング液回収工程
エッチング液回収工程は、エッチング工程と洗浄工程との間（エッチング工程の直後）に実施され、ウェーハＷの上面からエッチング液を吸い取って回収する。
本実施形態におけるエッチング液回収工程は、エッチング工程に引き続いて実施される。この工程では、図６に示すように、エッチング液を回収するためのエッチング液回収部２６が用いられる。エッチング液回収部２６は、吸い取り手段の一例である。
すなわち、エッチング液回収工程では、エッチング液用ボトル２２にウェーハ支持具３が載置され、ウェーハ支持具３に支持されているウェーハＷにエッチング液層ＥＬが形成されている状態で、エッチング液用ボトル２２上に、図４に示したエッチング液供給部２３に代えて、エッチング液回収部２６が配置される。
エッチング液回収部２６は、図６に示すように、エッチング液を回収するためのエッチング液回収ノズル２７、および、エッチング液回収ノズル２７を上下方向に移動させるためのエッチング液回収ノズル昇降手段２８を備えている。さらに、エッチング液回収部２６は、エッチング液回収ノズル２７に連通されたエッチング液回収ボトル２９、および、エッチング液回収ボトル２９に連通されたエッチング液吸引ポンプＥＶを備えている。
エッチング液回収工程では、エッチング液回収部２６におけるエッチング液回収ノズル昇降手段２８によって、エッチング液回収ノズル２７が、ウェーハＷの上面に形成されたエッチング液層ＥＬに接するような高さに配置される。そして、エッチング液吸引ポンプＥＶが駆動されて、エッチング液回収ボトル２９内が減圧される。これにより、エッチング液回収ボトル２９に連通されているエッチング液回収ノズル２７が、エッチング液層ＥＬを形成しているエッチング液を、ウェーハＷの上面から吸い上げる。エッチング液回収ノズル２７によって吸い上げられたエッチング液は、エッチング液回収ボトル２９内に蓄積され、回収される。
エッチング液回収部２６によって回収しきれなかったエッチング液は、ウェーハＷの上面から溢れて、ウェーハ支持具３の隙間を介して、矢印Ａによって示すように、エッチング液用ボトル２２内に流れ落ちて蓄積および回収される。ウェーハ支持具３の隙間は、たとえば、複数の柱部６の間、および、ベース部５の孔部５ｂを含む（図２参照）。
なお、エッチング液は、たとえば、酢酸、硝酸およびリン酸の混合物である。また、エッチング液層ＥＬを形成しているエッチング液の液量は、たとえば、０．３ｍＬである。回収されるエッチング液も略同量となる。
（４）洗浄工程
洗浄工程では、エッチング液が吸い取られたウェーハＷの上面を、洗浄水によって洗浄し、ウェーハＷの上面から溢れ落ちる洗浄水を、ウェーハＷの下に配置される第１のボトルに溜める。
本実施形態における洗浄工程では、図７に示すように、ウェーハ支持具３に支持されたウェーハＷを、洗浄水によって洗浄する。洗浄工程では、ウェーハ支持具３を載置するための洗浄液用ボトル３２、および、洗浄水を供給するための洗浄水供給部３３が用いられる。
洗浄液用ボトル３２は、エッチング液用ボトル２２と同様の構成を有している。すなわち、洗浄液用ボトル３２は、図５および図７に示すように、上部に開口３２ａを有している。開口３２ａは、ウェーハＷの直径よりも大きく、足８を介してウェーハ支持具３を係合可能なように形成されている。すなわち、洗浄工程では、図５に示すように、洗浄液用ボトル３２の開口３２ａに、留め具９を有する足８を介して、ウェーハＷを支持しているウェーハ支持具３が係合される。洗浄液用ボトル３２は、第１のボトルの一例に相当する。
洗浄水供給部３３は、図７に示すように、洗浄水を供給するための洗浄水供給ノズル３４、および、洗浄水供給ノズル３４を上下方向に移動させるための洗浄水供給ノズル昇降手段３５を備えている。洗浄水供給ノズル３４は、洗浄水供給源ＷＳに連通されることが可能である。
洗浄工程では、洗浄水供給部３３における洗浄水供給ノズル昇降手段３５によって、洗浄水供給ノズル３４が、所定の高さに配置される。そして、洗浄水供給ノズル３４が洗浄水供給源に連通され、洗浄水供給ノズル３４から、ウェーハ支持具３に支持されたウェーハＷの上面に洗浄水が供給（たとえばパルス給水）される。これにより、ウェーハＷの上面が、洗浄水によって洗浄される。
洗浄に使用された洗浄水は、ウェーハＷの上面から溢れて、ウェーハ支持具３の隙間を介して、矢印Ｂによって示すように、洗浄液用ボトル３２内に流れ落ちて蓄積および回収される。このようにして、ウェーハ支持具３の隙間から流れ落ちる洗浄水が回収される。
（５）マスク除去工程
マスク除去工程は、洗浄工程と乾燥工程との間に実施される。マスク除去工程では、ウェーハＷの上面に形成されている樹脂からなるマスク層（図示せず）を除去する。マスク除去工程は、ウェーハＷの上面に有機溶媒を供給してマスク層を溶解させること、および、ウェーハＷから垂れ落ちる溶解した樹脂と有機溶媒とを、ウェーハＷの下に配置される第２のボトルに溜めることを含む。
本実施形態におけるマスク除去工程では、図８に示すように、ウェーハ支持具３に支持されたウェーハＷのマスク層を除去する。
また、マスク除去工程は、有機溶媒である第１液を用いる第１工程、および、別の有機溶媒である第２液（マスク除去液）を用いる第２工程を含んでいる。
マスク層除去工程における第１工程では、図８に示すように、ウェーハ支持具３を載置するためのマスク層除去用ボトル４２、および、第１液を供給するための第１液供給部４３が用いられる。
マスク層除去用ボトル４２は、エッチング液用ボトル２２と同様の構成を有している。すなわち、マスク層除去用ボトル４２は、図５および図８に示すように、上部に開口４２ａを有している。開口４２ａは、ウェーハＷの直径よりも大きく、足８を介してウェーハ支持具３を係合可能なように形成されている。すなわち、マスク層除去工程では、図５に示すように、マスク層除去用ボトル４２の開口４２ａに、留め具９を有する足８を介して、ウェーハＷを支持しているウェーハ支持具３が係合される。マスク層除去用ボトル４２は、第２のボトルの一例に相当する。
第１液供給部４３は、図８に示すように、第１液を供給するための第１液供給ノズル４４、および、第１液供給ノズル４４を上下方向に移動させるための第１液供給ノズル昇降手段４５を備えている。第１液供給ノズル４４は、第１液供給源Ｓ１に連通されることが可能である。第１液は、アルコール系の有機溶媒であり、たとえば、エタノールあるいはイソプロピルアルコールである。
マスク層除去工程における第１工程では、第１液供給部４３における第１液供給ノズル昇降手段４５によって、第１液供給ノズル４４が、所定の高さに配置される。そして、第１液供給ノズル４４が第１液供給源Ｓ１に連通され、第１液供給ノズル４４から、ウェーハ支持具３に支持されたウェーハＷの上面に第１液が供給される。これにより、ウェーハＷの上面の水分が、アルコール系の第１液によって置換される。
ウェーハＷの上面に供給された第１液は、ウェーハＷの上面から溢れて、ウェーハ支持具３の隙間を介して、矢印Ｃによって示すように、マスク層除去用ボトル４２内に流れ落ちて、蓄積および回収される。
マスク層除去工程における第２工程は、第１工程に引き続いて、マスク層除去用ボトル４２上のウェーハ支持具３に支持されたウェーハＷに対して実施される。第２工程では、第２液を供給するための第２液供給部４６が用いられる。
第２液供給部４６は、図９に示すように、第２液を供給するための第２液供給ノズル４７、および、第２液供給ノズル４７を上下方向に移動させるための第２液供給ノズル昇降手段４８を備えている。第２液供給ノズル４７は、第２液供給源Ｓ２に連通されることが可能である。第２液は、たとえばアセトンである。
マスク層除去工程における第２工程では、第２液供給部４６における第２液供給ノズル昇降手段４８によって、第２液供給ノズル４７が、所定の高さに配置される。そして、第２液供給ノズル４７が第２液供給源Ｓ２に連通され、第２液供給ノズル４７から、ウェーハ支持具３に支持されたウェーハＷの上面に第２液が供給される。これにより、樹脂からなるマスク層が溶解され、マスク層が除去される。
ウェーハＷの上面に供給された第２液および溶解した樹脂は、ウェーハＷの上面から溢れて、ウェーハ支持具３の隙間を介して、矢印Ｄによって示すように、マスク層除去用ボトル４２内に流れ落ちて、蓄積および回収される。
このようにして、マスク層除去工程では、ウェーハ支持具３の隙間から流れ落ちる第１液、第２液および溶解した樹脂を回収する。
（６）乾燥工程
乾燥工程は、ウェーハＷを、その中心を軸として回転させて乾燥させる。本実施形態における乾燥工程は、図１０に示すように、乾燥ユニット５１を用いて、ウェーハ支持具３に支持されたウェーハＷを乾燥させる。図１０および図１１に示すように、乾燥ユニット５１は、容器５２内に、ウェーハ支持具３を保持する保持テーブル５３、および、保持テーブル５３を回転させる回転部５７を備えている。
保持テーブル５３は、ウェーハＷを支持しているウェーハ支持具３を保持するとともに、ウェーハＷの下面を吸引保持する。回転部５７は、保持テーブル５３をスピン回転させて、ウェーハＷを乾燥させる。
保持テーブル５３は、環状の底面部５４、底面部５４に立設されている複数の支持柱対５５、および、底面部５４の中央に固定された保持面５６を備えている。
底面部５４は、ウェーハ支持具３のベース部５よりも大きい径を有している。支持柱対５５は、２本の支持柱５５ａから形成されており、底面部５４の外周部に立設されている。支持柱対５５は、２本の支持柱５５ａの間でウェーハ支持具３の足８を挟めるように構成されている。したがって、本実施形態では、ウェーハ支持具３の６本の足８に対応するように、６つの支持柱対５５がベース部５に立設されている。
保持面５６は、ポーラスセラミックス材を含み、吸引源（図示せず）に連通されることにより、ウェーハ支持具３のベース部５に載置されているウェーハＷを、ベース部５を介して吸着保持する。
回転部５７は、筐体５８内に、モータ５９を有している。モータ５９のスピンドル５９ａは、保持テーブル５３における保持面５６の下面に連結されている。なお、ウェーハＷは、モータ５９の回転軸（スピンドル５９ａの中心）がウェーハＷの中心を通るように、保持面５６に保持される。
保持テーブル５３では、回転部５７のモータ５９によって、ウェーハ支持具３を保持している保持テーブル５３が、一体的に回転される（回転数は、たとえば、７５００ｒｐｍである）。これにより、ウェーハ支持具３に支持され、保持テーブル５３の保持面５６に吸引保持されているウェーハＷが、ウェーハＷの中心を軸として回転される。これにより、ウェーハＷの上面に残存している液体（たとえば、第１液および第２液）が気化し、ウェーハＷの上面が乾燥される。
以上のように、本実施形態では、洗浄工程において、ウェーハＷの上面から溢れ落ちる洗浄水を、ウェーハＷの下に配置されている洗浄液用ボトル３２に溜めている。
したがって、本実施形態では、洗浄水を、ウェーハＷの周囲に飛散させることを抑制しながら、良好に回収することができる。
また、本実施形態では、エッチング工程において、ウェーハＷの上面に、表面張力でエッチング液を溜めている。すなわち、ウェーハ支持具３に支持されたウェーハＷの上面に、所定量のエッチング液を滴下して、表面張力でエッチング液層を形成している。これにより、エッチングに用いるエッチング液の量を少なくすることができる。
また、本実施形態では、エッチング液回収工程において、エッチング液回収部２６によって、ウェーハＷの上面からエッチング液を吸い取って回収している。これにより、エッチング液をウェーハＷの周囲に飛散させることを、抑制することができる。なお、回収されたエッチング液は、エッチング時間が長くなる可能性があるものの、再利用することが可能である。このため、エッチング液を処理するための廃液処理装置を用いる頻度を低下させることができる。
また、本実施形態では、洗浄工程において、洗浄液用ボトル３２の開口３２ａに係合されたウェーハ支持具３に支持されたウェーハＷに、洗浄水を供給している。
このように、ウェーハ支持具３の足８を洗浄液用ボトル３２の開口３２ａに係合させることにより、洗浄液用ボトル３２の開口３２ａの中央に、ウェーハＷを配置することができる。すなわち、開口３２ａの中央に、ウェーハＷを、宙を浮いたように配置することができる。
したがって、洗浄工程では、ウェーハＷから溢れてウェーハ支持具３の隙間から流れ落ちる洗浄水を、洗浄液用ボトル３２によって回収することが容易である。
さらに、本実施形態では、乾燥工程では、ウェーハ支持具３を保持すると共にウェーハＷの下面を吸引保持する保持テーブル５３と、保持テーブル５３をスピン回転させてウェーハＷを乾燥させる回転部５７とを用いている。これにより、ウェーハＷを容易に乾燥させることができる。特に、本実施形態では、保持テーブル５３の支持柱対５５が、ウェーハ支持具３の足８を挟んでいる。このため、ウェーハＷが、スピン回転の際に遠心力の影響を受けて、保持テーブル５３から落下することを、容易に抑制することができる。
また、本実施形態では、マスク層除去工程において、ウェーハＷから垂れ落ちる第１液、第２液および溶解した樹脂を、ウェーハ支持具３の隙間を介して、マスク層除去用ボトル４２に溜めて回収している。このため、第１液、第２液および溶解した樹脂を、ウェーハＷの周囲に飛散させることを抑制しながら、容易に回収することができる。
なお、従来、エッチング液、洗浄水、第１液あるいは第２液をウェーハに供給し、ウェーハからエッチング液、洗浄水、第１液および第２液を飛散させるようにして、ウェーハのエッチングを実施している。この場合、エッチング工程、洗浄工程およびマスク層除去工程に用いる装置を収容するために、作業者が内部で作業することの可能なサイズの、大型のクリーンルームが用いられる。
一方、本実施形態では、ウェーハＷに液体を供給し、ウェーハＷ上の液体を吸い取って回収するか、あるいは、ウェーハＷから溢れてウェーハ支持具３の隙間から流れ落ちる液体を、ボトルによって回収している。このため、エッチング工程、エッチング液回収工程、洗浄工程およびマスク層除去工程に用いる装置の構造を、著しく小型化することができる。したがって、これらの装置を、小型ドラフトであるグローブボックス型の収容室に収容することができる。これにより、大型のクリーンルームを不要とすることができるとともに、ウエットエッチングのための装置のサイズおよびコストを、著しく抑えることが可能である。
また、グローブボックス型の収容室を用いることにより、気化したエッチング液を作業者が吸引してしまうこと、および、エッチング後に洗浄および乾燥を行った際に発生するゴミが、乾燥後のウェーハＷに付着することを、クリーンルームを用いる場合と同様に、良好に抑制することができる。
なお、本実施形態では、エッチング液回収工程において、エッチング液用ボトル２２が用いられている。これに関し、エッチング液回収部２６によって略全てのエッチング液を回収できる場合には、エッチング液用ボトル２２を用いなくてもよい。
また、本実施形態では、エッチング液回収工程において、エッチング液回収部２６がエッチング液を吸い取っている。これに代えて、使用済みのエッチング液を、エッチング液用ボトル２２によって回収してもよい。この場合、エッチング液回収部２６は不要となる。
また、本実施形態では、エッチング液用ボトル２２と洗浄液用ボトル３２とを用いている。これに代えて、これらのボトルを共通化してもよい。たとえば、ウェーハＷを支持しているウェーハ支持具３が洗浄液用ボトル３２に係合された状態で、エッチングがなされて、エッチング液回収部２６によってエッチング液が回収された後に、続けて、洗浄水供給部３３によってウェーハＷの上面が洗浄されてもよい。この場合、洗浄水は、洗浄液用ボトル３２に流れ落ちて、蓄積および回収されることになる。この構成では、エッチング液用ボトル２２を省略できるので、装置の小型化および低コスト化を図ることができる。
３：ウェーハ支持具、４：本体部、５：ベース部、６：柱部、８：足、
２２：エッチング液用ボトル、２２ａ：開口、２３：エッチング液供給部、
２４：エッチング液供給ノズル、２５：エッチング液供給ノズル昇降手段、
２６：エッチング液回収部、２７：エッチング液回収ノズル、
２８：エッチング液回収ノズル昇降手段、２９：エッチング液回収ボトル、
３２：洗浄液用ボトル、３２ａ：開口、３３：洗浄水供給部、
３４：洗浄水供給ノズル、３５：洗浄水供給ノズル昇降手段、
４２：マスク層除去用ボトル、４２ａ：開口、
４３：第１液供給部、４４：第１液供給ノズル、４５：第１液供給ノズル昇降手段
４６：第２液供給部、４７：第２液供給ノズル、４８：第２液供給ノズル昇降手段
５１：乾燥ユニット、５３：保持テーブル、５４：底面部、
５５：支持柱対、５６：保持面、５７：回転部、５９：モータ

Claims (3)

  1. エッチング液を用いてウェーハの上面をエッチングするウエットエッチング方法であって、
    表面張力でウェーハの上面にエッチング液を溜め、ウェーハの上面をエッチングするエッチング工程と、
    該ウェーハの上面を洗浄水によって洗浄し、ウェーハの上面から溢れ落ちる該洗浄水を、ウェーハの下に配置される第１のボトルに溜める洗浄工程と、
    ウェーハを、その中心を軸に回転させて乾燥させる乾燥工程と、
    を含む、ウエットエッチング方法。
  2. 該エッチング工程と該洗浄工程との間に実施され、ウェーハの上面から該エッチング液を吸い取り手段で吸い取るエッチング液回収工程をさらに含む、
    請求項１に記載のウエットエッチング方法。
  3. 該洗浄工程と該乾燥工程との間に実施され、該ウェーハの上面に形成されている樹脂からなるマスク層を除去するマスク除去工程をさらに含み、
    該マスク除去工程は、
    ウェーハの上面に有機溶媒を供給して該マスク層を溶解させること、および、ウェーハから垂れ落ちる溶解した該樹脂と該有機溶媒とを、ウェーハの下に配置される第２のボトルに溜めることを含む、
    請求項１記載のウエットエッチング方法。
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