JP2021009938A5 - - Google Patents
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Claims (9)
- 積層された配線層及び絶縁層を備えた配線構造体と、
前記配線構造体の表面の所定の領域の周縁に沿って形成される複数の第1のポストであって、前記配線層に電気的に接続されない第1のシード層と、前記第1のシード層上に形成される第1の金属層とをそれぞれ有する複数の第1のポストと、
前記複数の第1のポストによって囲まれた位置で前記配線層に接続される第2のシード層と、前記第2のシード層上に形成され前記第1の金属層と同じ金属材料からなる第2の金属層とを有する第2のポストと、を有し、
前記複数の第1のポストは、
前記所定の領域の周縁を構成する辺の中央部に配置されている第1のポストが、前記辺の両端部に配置されている第1のポストよりも、前記配線構造体の表面からの高さが低い
ことを特徴とする配線基板。 - 前記配線構造体の表面を被覆しているソルダーレジスト層をさらに有し、
前記複数の第1のポストは、
前記ソルダーレジスト層上に形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の配線基板。 - 前記複数の第1のポストは、
前記配線構造体の表面に露出する前記絶縁層上に形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の配線基板。 - 前記複数の第1のポストは、
前記所定の領域の周縁を構成する辺の両端部に配置された第1のポストが、前記第2のポストよりも前記配線構造体の表面からの高さが高く、前記辺の中央部に配置された第1のポストが、前記第2のポストよりも前記配線構造体の表面からの高さが低い
ことを特徴とする請求項1記載の配線基板。 - 前記複数の第1のポストは、
前記配線構造体の表面からの高さに応じて径の大きさが異なる
ことを特徴とする請求項1記載の配線基板。 - 前記複数の第1のポストは、
前記所定の領域の周縁を構成する辺に沿って異なる疎密で配置されている
ことを特徴とする請求項1記載の配線基板。 - 第1の配線基板と第2の配線基板とが接合され、前記第1配線基板と前記第2配線基板とに挟まれた領域がアンダーフィル材で充填されている接合型配線基板であって、
前記第1の配線基板は、
積層された配線層及び絶縁層を備えた配線構造体と、
前記配線構造体の表面の前記第2の配線基板が接合された接合領域の周縁に沿って形成される複数の第1のポストであって、前記配線層に電気的に接続されない第1のシード層と、前記第1のシード層上に形成される第1の金属層とをそれぞれ有する複数の第1のポストと、
前記複数の第1のポストによって囲まれた位置で前記配線層に接続される第2のシード層と、前記第2のシード層上に形成され前記第1の金属層と同じ金属材料からなる第2の金属層とを有する第2のポストと、を有し、
前記複数の第1のポストは、
前記接合領域の周縁を構成する辺の中央部に配置されている第1のポストが、前記辺の両端部に配置されている第1のポストよりも、前記配線構造体の表面からの高さが低く、
前記第2の配線基板は、
前記第2のポストに電気的に接続されている、
ことを特徴とする接合型配線基板。 - 前記複数の第1のポストは、
前記接合領域の周縁を構成する辺の両端部に配置された第1のポストで前記第2の配線基板を支持していること、
を特徴とする請求項7記載の接合型配線基板。 - 配線層及び絶縁層を積層して配線構造体を形成する工程と、
前記配線層に電気的に接続されない第1の部分と前記配線層に接続される第2の部分とを有するシード層を形成する工程と、
前記配線構造体の表面の所定の領域の周縁に沿った前記第1の部分上の複数の第1のポストと、前記複数の第1のポストによって囲まれる前記第2の部分上の第2のポストとを金属のめっきにより形成する工程と、を有し、
前記複数の第1のポストと前記第2のポストとを形成する工程では、
前記所定の領域の周縁を構成する辺の両端部に形成される第1のポストよりも、当該辺の中央部に形成される第1のポストの前記配線構造体の表面からの高さを低くする
ことを特徴とする配線基板の製造方法。
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