JP2020203401A - 熱転写受像シート - Google Patents

Abstract

【課題】少なくとも十分な高階調濃度が得られ、白抜けの発生を抑制することができる熱転写受像シートを提供する。【解決手段】少なくとも、基材シート１０、断熱層２０、及び受容層４０がこの順で積層されてなる熱転写受像シート１であって、上記断熱層２０が少なくともバインダ樹脂と中空粒子により形成された塗膜であり、上記断熱層の空隙率が４４．０％以上６１．３％以下であり、上記断熱層２０の上記中空粒子内部の空隙を除いた空隙率が８．１％以上２２．３％以下であることを特徴とする熱転写受像シート。【選択図】図１

Description

本発明は、熱転写受像シートに関する。

従来から、文字や画像等の印画物を被熱転写体に形成する方式として、昇華型熱転写方式や溶融型熱転写方式等が採用されている。
昇華型熱転写方式の場合、例えば、支持体上に染料やバインダ等を含む熱転写層等を設けた感熱転写記録媒体の熱転写層表面と、他の支持体上に染料を受容する染料受容層を設けた熱転写受像シートの染料受容層表面とを互いに重ね合わせる。そして、重ね合わせた感熱転写記録媒体及び熱転写受像シートに対し、熱転写記録媒体の熱転写層を設けていない面側から、サーマルヘッド等により加熱する。これにより、熱転写層中の染料を昇華させ、染料を染料受容層へ移行させることで、熱転写受像シートに所望の文字や画像等を形成する。

一方、溶融型熱転写方式の場合、例えば、支持体上に顔料やワックス等を含む熱溶融性の熱転写層を設けた熱転写記録媒体の熱転写層表面と、他の支持体上に受容層を設けた被熱転写体の受容層表面とを互いに重ね合わせる。そして、重ね合わせた熱転写記録媒体及び被熱転写体をサーマルヘッド等により加熱することで、熱転写層を融着させ、受容層へ移行させることで、被熱転写体に所望の文字や画像等を形成する。
上記の方式のうち、昇華型熱転写方式は、文字や図表などのモノクロプリントや、デジタルカメラ画像又はコンピューターグラフィックス画像などのカラープリントに広く採用されている。

昇華型熱転写方式の熱転写受像シートとしては、耐熱性及びクッション性の付与を目的として、主成分として中空粒子とバインダ樹脂とからなる断熱層を、支持体と受容層との間に設けた構成が提案されている（特許文献１参照）。
ところで、熱転写シートを用いた昇華型熱転写方式にて印画物を熱転写受像シートに形成することに関し、高階調濃度不足という課題がある。高階調濃度不足は、印画物の高階調の色濃度が低くなってしまう現象である。高階調濃度不足は、熱転写シートの断熱性が不足することにより、プリンタ印画時の熱が失われて昇華転写が不十分になることで生じると考えられる。

また、熱転写シートの印画物の課題として、白抜けの発生も挙げられる。白抜けとは、熱転写受像シートを用いて印画物を作成する際に、熱転写受像シートにおいて印画されるべき領域内に部分的に印画されてない領域が発生することをいう。白抜け発生の主要な要因として、熱転写受像シート表面に凹凸形状が形成されることが挙げられる。
詳しく説明すると、昇華型熱転写方式にて熱転写受像シートに印画する（すなわち、サーマルヘッド等の加熱手段による加熱にて熱転写シートの染料を熱転写受像シートの所定領域に転写する）際に、熱転写受像シートの表面に凹凸形状が存在すると、その凹凸形状により、熱転写シートとサーマルヘッドとの密着性（追従性）が阻害される。これにより、サーマルヘッドから十分に熱が伝えられない領域が熱転写シートや熱転写受像シートに部分的に発生する。その結果、サーマルヘッドによる熱が十分に伝わらなかった領域に白抜けが生じてしまう。

上記高階調濃度不足と白抜けの課題に対し、種々の改良技術が提案されている。例えば、特許文献２には、多孔質層に含有する中空粒子の含有率を制御して高階調濃度の印画特性を有し、かつ印画均一性を保つ熱転写受像シートの発明が開示されている。また、特許文献３には、多孔質層の中空粒子の粒子径を制御してざらつきを防止する熱転写受像シートの発明が開示されている。さらに特許文献４では、紙基材の２層のコート層に中紙の凹凸抑制とクッション性を持たせることにより、インキの転写ムラを防止する熱転写受像シートの発明が開示されている。

特許第４２２５１９１号公報 特許第４４９３５６５号公報 特開２００７−９８６９３号公報 特許第５４７０９７８号公報

しかしながら、特許文献１〜４の熱転写受像シートを用いて印画を実施しても、十分な高階調濃度が得られず、白抜けが発生する場合があった。
本発明は、上記のような点を考慮してなされたもので、より高階調濃度が良好となり、且つ白抜けの発生を抑制可能な熱転写受像シートの提供を目的とする。

課題解決のために、本発明の一態様は、基材シートの一方の面側に、断熱層と受容層とがこの順で形成され、上記断熱層は、少なくともバインダ樹脂と中空粒子とを有する塗膜からなり、上記断熱層の空隙率が４４．０％以上６１．３％以下であり、上記断熱層の上記中空粒子による空隙を除いた空隙率が、８．１％以上２２．３％以下である、ことを要旨とする。

本発明の一態様によれば、より高階調濃度が良好となり、且つ白抜けの発生を抑制可能な熱転写受像シートを提供することができる。

本発明の実施形態に係る熱転写受像シートの構成例を示す概略断面図である。

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。
ここで、図面は模式的なものであり、厚さと平面寸法との関係、各層の厚さの比率等は現実のものとは異なることがある。また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、本発明の技術的思想は、構成部品の材質、形状、構造等が下記のものに特定されるものではない。本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。
また、以下の詳細な説明では、本発明の実施形態の完全な理解を提供するように多くの特定の細部について記載される。しかしながら、かかる特定の細部がなくても１つ以上の実施態様が実施できることは明らかであろう。他にも、図面を簡潔にするために、周知の構造及び装置については、その記載を省略している。

＜熱転写受像シート＞
図１は、本発明の実施形態に係る熱転写受像シートの構成例を示す概略断面図である。図１に示すように、本発明の実施形態に係る熱転写受像シート１は、基材シート１０と、基材１シート０の一方の面（図１中、上面）側に断熱層２０と受容層４０とがこの順に少なくとも配置されている。基材シート１０の他方の面（図１中、下面）側に裏面層５０を備える。また、図１では、断熱層２０と受容層４０の間に下引き層３０を設けている場合が例示されているが、下引き層３０が無くてもよい。
以下、熱転写受像シート１の構成を具体的に説明する。

（基材シート）
基材シート１０は、断熱層２０と受容層４０とを保持するという役割を有する。また、基材シート１０は、熱転写時に熱が加えられるため、加熱された状態でも取扱い上支障のない程度の機械的強度を有する材料であることが好ましい。

このような基材シート１０の材料としては、例えば、コンデンサーペーパー、グラシン紙、硫酸紙、又はサイズ度の高い紙、合成紙（ポリオレフィン系、ポリスチレン系）、上質紙、アート紙、コート紙、レジンコート紙、キャストコート紙、壁紙、裏打用紙、合成樹脂又はエマルジョン含浸紙、合成ゴムラテックス含浸紙、合成樹脂内添紙、板紙等、セルロース繊維紙、あるいはポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴ）等のポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、セルロース誘導体、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ナイロン（商標登録）、ポリエーテルエーテルケトン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、テトラフルオロエチレン、パーフルオロアルキルビニルエーテル、ポリビニルフルオライド、テトラフルオロエチレン・エチレン、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド等のフィルムが挙げられる。また、基材シート１０の材料としては、これらの合成樹脂に白色顔料や充填剤を加えて成膜した白色不透明フィルムも使用できる。基材シート１の材料は、特に限定されない。また、基材シート１０の材料としては、上記基材の任意の組合せによる積層体も使用できる。代表的な積層体の例として、セルロース繊維紙と合成紙あるいはセルロース合成紙とプラスチックフィルムとの合成紙が挙げられる。本発明の実施形態においては、基材シート１０として、市販の基材を用いることもでき、例えば、ＲＣペーパー（三菱製紙（株）製、商品名）等が好ましい。なお、基材シート１０の厚さは、熱転写受像シートに要求される強度や耐熱性等や、素材の材質に応じて、適宜変更可能である。具体的に、基材の厚さは、５０μｍ以上１０００μｍ以下の範囲内であることが好ましく、１００μｍ以上３００μｍ以下の範囲内であることがより好ましい。

（断熱層）
基材シート１０と受容層４０の間に１層又は複数の層で構成された断熱層２０を設ける。図１は、断熱層２０が一層の場合の例である。
本実施形態の断熱層２０は、少なくともバインダ樹脂と中空粒子とを有する塗膜からなる。
断熱層２０は、断熱性とクッション性の機能を持っている。
断熱性とは、熱転写による画像形成時に加えられた熱が、基材シート１０等への伝熱によって損失されることを抑制する機能である。また、クッション性とは、印画時におけるプラテンローラとサーマルヘッド間の加圧による収縮で、熱転写受像シート１の凹凸を吸収することにより、サーマルヘッドから均一な加熱をさせるための機能である。

本実施形態の断熱層２０は、少なくとも中空粒子とバインダ樹脂を含む。断熱層２０は、必要に応じて中実の粒子や添加剤を含んでもよい。中実の粒子とは、実質的に、内部に空隙を有さない粒子を指す。以下、中実の粒子を非中空粒子とも記載する。
断熱層２０の中空粒子としては、例えば、粒子内部の液体が加熱により揮発して中空になるタイプ、あるいは加熱する前から既に中空になっているタイプ、粒子内部の液体が気化膨張して中空になるタイプなどが知られている。中空粒子として、いずれのタイプも用いることはできる。ただし、優れた平滑性を持たせる観点から、中空粒子として、気化膨張によって中空になるタイプ以外のものを用いることが好ましい。

本実施形態の中空粒子の平均粒径は、断熱機能、平滑性の観点から０．１μｍ以上５．０μｍ以下であることが好ましい。平均粒径が小さい中空粒子は外殻が厚くなりやすく、平均粒径が０．１μｍを下回ると断熱層２０のクッション性が低下してしまう。また、平均粒径が５．０μｍを超えると断熱層２０の平滑性が低下してしまう。
中空粒子は、内部の空隙により、断熱層２０の断熱性を高めて、熱転写受像シート１を印画した際の高階調濃度を高める効果がある。しかしながら、断熱層２０への中空粒子の配合比が高すぎると、印画時の熱と圧力で中空粒子が潰れてしまい、高階調濃度が低下する場合がある。

断熱層２０の非中空粒子としては、従来公知の非中空粒子を使用すればよい。非中空粒子としては、例えば、シリコーン粒子、ポリエチレン粒子、ポリプロピレン粒子、ポリスチレン粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂粒子、ポリウレタン樹脂粒子、メラミン粒子、ベンゾグアナミン系粒子などを挙げることができ、１種類又は複数の種類の非中空粒子を断熱層２０内に混合できる。また、非中空粒子の平均粒径は、５．０μｍ以下であることが望ましい。平均粒径が５．０μｍを超えると断熱層２０の平滑性が低下してしまう。
断熱層２０のバインダとしては、スチレン−ブタジエン共重合体（スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ））、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲラテックス）、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体（ＭＢＲラテックス）、スチレン−ブタジエンアクリル系共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）などの樹脂を単独又は２種類以上を混合して用いることができる。

断熱層２０の空隙は、中空粒子及び非中空粒子を合わせた配合比が低い状態ではほぼ中空粒子の内部空間で形成される空隙のみであるが、中空粒子の配合比が高い場合には中空粒子及び非中空粒子の各粒子間の隙間をバインダが充填することができず、中空粒子及び非中空粒子の間に空隙（以下、中空粒子外空隙とも記載する）ができる。この中空粒子外空隙は、中空粒子内部の空隙と同様に断熱性を持つとともに、中空粒子内部の空隙が持たない機能であるクッション性を持つ。
非中空粒子は内部の空隙を有さないために、中空粒子に比べて断熱層２０への断熱性付与の効果は劣る。しかしながら、前述のように中空粒子は配合比が高すぎると、印画時の熱圧で潰れることにより断熱性が低下し、その結果、高階調濃度が低下させてしまう場合がある。その点、非中空粒子は熱圧での破損の考慮は必要なく、中空粒子外空隙による断熱性が十分に得られていれば、安定した高階調濃度を得ることができる。

断熱層２０における中空粒子及び非中空粒子とバインダの配合比は、中空粒子の外径や中空粒子内の空隙率などにより最適値が異なるので一概に規定できないが、断熱層２０全体の空隙率をＲＡとし、断熱層２０における中空粒子外空隙による空隙率をＲＢとすると、式（１）、（２）が成り立つことが望ましい。
４４．０％ ≦ ＲＡ ≦ ６１．３％・・・（１）
８．１％ ≦ ＲＢ ≦ ２２．３％・・・（２）
ＲＡが４４．０％未満であると断熱層２０の断熱性が不足し、プリンタ印画時の熱が失われて高階調濃度が不足してしまうおそれがある。一方で、ＲＡが６１．３％を超えると、断熱性が高くなり過ぎて低階調で過剰な発色が起こることによりにじみが発生してしまうおそれがある。

また、式（１）を満たした状態でＲＢが８．１％未満であると、クッション性が低下するとともに、中空粒子及び非中空粒子の配合比が高すぎるために平滑性が低下し、白抜けが発生してしまうおそれがある。一方で、ＲＢが２２．３％を超えると、断熱層２０上に下引き層３０、受容層４０などを積層塗工する際に塗液が空隙に入り込んでしまうことで、積層塗工した層と断熱層２０の機能が損なわれるおそれがある。特に、断熱層２０の断熱性が低下することで濃度不足が起こってしまう。
なお、断熱層２０において中空粒子を有し、非中空粒子を有さない構成は、中空粒子内部の空隙と中空粒子外空隙が断熱層２０内にできるために、非中空粒子を含まない構成にすることは可能である。一方で、断熱層２０において、中空粒子を有さず、非中空粒子を有する構成にすると、空隙が不足することで十分な断熱性が得られず、高階調濃度が不足してしまう。これは、式（１）、（２）において、ＲＡとＲＢの重なる範囲が無いことからも裏付けられる。

ここで、上記のＲＡとＲＢは以下の式（３）〜（１１）を順に解くことで求めることができる。
ＶＡ＝ＴＡ×Ｓ ・・・（３）
ＶＣ＝ＷＣ／ρＣ ・・・（４）
ＶＤ＝ＷＤ／ρＤ ・・・（５）
ＶＥ＝ＷＥ／ρＥ ・・・（６）
ＶＦ＝ＷＦ／ρＦ ・・・（７）
ＶＢ＝ＶＡ−ＶＣ−ＶＤ−ＶＥ−ＶＦ ・・・（８）
ＲＢ＝ＶＢ／ＶＡ ・・・（９）
ＲＣ＝ＶＣ×ＲＸ／ＶＡ ・・・（１０）
ＲＡ＝ＲＢ＋ＲＣ ・・・（１１）
ここで、
ＲＡ：断熱層２０全体の空隙率
ＲＢ：中空粒子外空隙による空隙率
ＲＣ：中空粒子内部の空隙による空隙率
ＲＸ：個々の中空粒子の空隙率
Ｓ：単位面積
ＴＡ：断熱層２０の膜厚
ＶＡ：基材シート１０の単位面積当たりに積層されている断熱層の体積
ＶＢ：ＶＡのうちの中空粒子外空隙の体積
ＶＣ：ＶＡのうちの中空粒子の体積
ＶＤ：ＶＡのうちの非中空粒子の体積
ＶＥ：ＶＡのうちのバインダの体積
ＶＦ：ＶＡのうちの添加剤の体積
ＷＡ：基材シート１０の単位面積当たりに積層されている断熱層の重量
ＷＣ：ＷＡのうちの中空粒子の重量
ＷＤ：ＷＡのうちの非中空粒子の重量
ＷＥ：ＷＡのうちのバインダの重量
ＷＦ：ＷＡのうちの添加剤の重量
ρＣ：中空粒子の比重
ρＤ：非中空粒子の比重
ρＥ：バインダの比重
ρＦ：添加剤の比重
である。
各データの求め方は表１のようになる。
また、これらの空隙率、体積、重量、比重等の全ての値は、断熱層が完全に乾燥した状態での値を指しているものとする。

断熱層２０には、必要に応じて各種の添加剤、例えば界面活性剤、蛍光増白剤、帯電防止剤、無機顔料、有機顔料、樹脂の架橋剤、消泡剤、分散剤、有色染料、離型剤、滑剤等の１種あるいは２種以上を適宜選択して使用してもよい。特に、フッ素系界面活性剤は、塗膜表面近傍に多く存在しやすく、溶媒の蒸発速度を制御する効果がある。そのようなフッ素系界面活性剤は、中空粒子外空隙があるために表面が粗くなりやすい断熱層２０においても高い均一塗布性（レベリング性）を発揮することから、平滑化のためにこれを用いることが望ましい。
断熱層２０の厚さは、素材の材質に応じて適宜変更可能である。具体的には、１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内であることが好ましく、２０μｍ以上４０μｍ以下の範囲内であることがより好ましい。

（下引き層）
本実施形態に係る熱転写受像シート１は、図１のように、断熱層２０と受容層４０の間に配置される１層以上の下引き層３０を有してもよい。下引き層３０を設けることで、耐溶剤性、高温／高湿下での画像保存時の染料拡散バリア、層間接着、白色付与、基材のギラつき感／ムラの隠蔽、及び帯電防止等の機能を付加するこができる。下引き層３０の形成手段としては公知の手段を用いることができる。例えば、下引き層２３に、蛍光増白剤、無機微粒子、中空微粒子、及び導電性フィラーやポリアニリンスルホン酸のような有機導電材等を添加して上述の機能を付加する方法が挙げられる。

（受容層）
本実施形態に係る受容層４０は、熱転写による画像形成時に感熱転写記録媒体から転写される昇華性染料を受容するとともに、受容した昇華性染料を受容層４０に保持することで、受容層４０の面に画像を形成かつ維持することができる。受容層４０は、バインダ樹脂と、離型剤、硬化剤を含んでもよい。好ましい態様によれば、受容層４０は、界面活性剤や、造膜助剤を各種目的に応じてさらに含んでもよい。

バインダ樹脂としては、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体（塩酢ビ系樹脂）、ポリ塩化ビニリデン等のハロゲン化ポリマー、ポリ酢酸ビニル・アクリル共重合体、ポリアクリル酸エステル等のビニルポリマー、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、エチレンやプロピレン等のオレフィンと他のビニルモノマーとの共重合体系樹脂、アイオノマー、セルロースジアセテート等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート等、及びこれら樹脂の混合系が挙げられ、好ましくは塩化ビニル系樹脂である。バインダ樹脂は、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル／アクリル共重合体から選択される少なくとも１種類の塩化ビニル系樹脂であることがさらに好ましい。

受容層４０に含有される離型剤としては、例えばシリコーン系、フッ素系、リン酸エステル系といった各種オイルや、界面活性剤や、金属酸化物、シリカ等の各種フィラー、ワックス類等が使用できる。離型剤として、これらは単独、あるいは２種以上を混合しても良い。離型剤として、これらの中でも、シリコーンオイルを使用することが好ましい。

受容層４０に含有される硬化剤としては、例えばイソシアネート系硬化剤等が使用できる。イソシアネート系硬化剤としてはポリイソシアネート樹脂を好ましく使用することができる。ポリイソシアネート樹脂としては、従来種々のものが知られているが、そのうち芳香族系イソシアネートのアダクト体を使用することが望ましい。芳香族系ポリイソシアネートとしては、２，４−トルエンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、又は、２，４−トルエンジイソシアネートと２，６−トルエンジイソシアネートの混合物、１，５−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ｔｒａｎｓ−シクロヘキサン、１，４−ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェートが挙げられ、特に２，４−トルエンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、又は、２，４−トルエンジイソシアネートと２，６−トルエンジイソシアネートの混合物が好ましい。
受容層４０の厚さは、０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲のものが使用可能であるが、より好ましくは０．２μｍ以上８μｍ以下程度のものが好ましい。また、受容層４０は、必要に応じて酸化防止剤、蛍光染料や、公知の添加剤を含有しても良い。

（裏面層）
本実施形態に係る裏面層５０は、プリンタ搬送性向上や、受容層４０とのブロッキング防止、印画前後の熱転写受像シートのカール防止のために設けられる。裏面層５０に用いられる材料としては従来公知のもので対応でき、例えばポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド等のバインダ樹脂を用いることができる。また、裏面層５０は、必要に応じてフィラーや帯電防止剤等の、公知の添加剤を含有しても良い。

（実施形態の効果）
（１）本実施形態に係る熱転写受像シート１は、少なくとも、基材シート１０の一方の面側に、断熱層２０と受容層４０とがこの順で積層されてなる。断熱層２０は、少なくともバインダ樹脂と中空粒子により形成された塗膜からなる。断熱層２０全体の空隙率が５２％以上５６％以下となっている。
この構成によって、高階調濃度が十分に高く、にじみが発生しない。熱転写受像シート１を用いた印画物では、実用レベルで、高階調濃度不足、にじみが発生しない。

（２）本実施形態に係る熱転写受像シート１では、断熱層２０の中空粒子内部の空隙以外で構成される空隙による空隙率が１２％以上２６％以下となっている。
この構成によって、白抜け抑制のために十分なクッション性と平滑性が得られる。また、空隙率が高すぎないので、断熱層２０上に積層塗工される塗液が空隙に入り込むことが要因として引き起こされる断熱性低下による高階調濃度不足は起こらない。熱転写受像シート１を用いた印画物では、実用レベルで、白抜け、高階調濃度不足が発生しない。

（３）また、本実施形態に係る熱転写受像シート１では、断熱層２０がフッ素系界面活性剤を含む。
この構成によって、断熱層の平滑性が向上し、白抜けが抑制される。熱転写受像シート１を用いた印画物では、実用レベルで、白抜けが発生しない。

以下に、本発明の各実施例及び各比較例に用いた材料を示す。なお、文中で「部」又は％とあるのは、特に断りのない限り重量基準である。また、本発明は実施例に限定されるものではない。

（実施例１）
＜＜熱転写受像シート＞＞
＜基材シート＞
基材シートとして、両面にコロナ処理を施した、厚さ１７０μｍの両面レジンコート紙を使用した。

＜断熱層＞
基材シートの一方の面上に、乾燥後の膜厚が４０μｍとなるように断熱層用塗布液１を塗布、乾燥し、断熱層を形成した。
「断熱層用塗布液１」
断熱層用塗布液１の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３７．３６部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
５８．８８部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
０．７９部
・純水 ２．１９部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

＜受容層＞
基材シートの断熱層上に、乾燥後の膜厚が３μｍとなるように受容層用塗布液を塗工して受容層を形成し、熱転写受像シートを得た。
「受容層用塗布液」
受容層用塗布液の組成は次の通りである。
・塩化ビニル系エマルジョン
（ビニブラン９００、日信化学工業（株）、Ｔｇ＝７０℃、固形分＝４０％）
１００．００部
・エチレングリコールジエチルエーテル ０．２５部
・シリコーン離型剤
（ジメチルシリコン ＮＰ２４０６、旭化成ワッカーシリコン（株）、固形分＝６０％）
０．１７部
・イソシアネート系硬化剤（型番：ＤＮＷ−６０００、ＤＩＣ（株））
１．２９部

（実施例２）
断熱層の形成に断熱層用塗布液２を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液２」
断熱層用塗布液２の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３５．５１部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
４４．８３部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
５．００部
・純水 １３．８７部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（実施例３）
断熱層の形成に断熱層用塗布液３を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液３」
断熱層用塗布液３の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３１．８９部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
２９．０１部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
１０．５５部
・純水 ２８．１５部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（実施例４）
断熱層の形成に断熱層用塗布液４を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液４」
断熱層用塗布液４の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３２．３４部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
６６．８７部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（実施例５）
断熱層の形成に断熱層用塗布液５を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液５」
断熱層用塗布液５の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３２．１２部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
６５．８７部
・非中空粒子（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
０．３２部
・純水 ０．９０部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（実施例６）
断熱層の形成に断熱層用塗布液６を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液６」
断熱層用塗布液６の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３１．８９部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
６４．８８部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
０．６５部
・純水 １．７９部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（実施例７）
断熱層の形成に断熱層用塗布液７を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液７」
断熱層用塗布液７の組成は次の通りである。・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３７．３６部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
６０．０７部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
０．４７部
・純水 １．３１部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（実施例８）
断熱層の形成に断熱層用塗布液８を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液８」
断熱層用塗布液８の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３７．３６部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
６１．８５部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（実施例９）
断熱層の形成に断熱層用塗布液９を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液９」
断熱層用塗布液９の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３１．８９部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
２９．５９部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
１０．００部
・純水 ２７．７２部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（実施例１０）
断熱層の形成に断熱層用塗布液１０を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液１０」
断熱層用塗布液１０の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３１．８９部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
４６．４２部
・非中空粒子（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
５．５４部
・純水 １５．３５部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（実施例１１）
断熱層の形成に断熱層用塗布液１１を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液１１」
断熱層用塗布液１１の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３１．８９部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
６４．８８部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
０．６５部
・純水 １．７９部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（実施例１２）
断熱層の形成に断熱層用塗布液１２を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液１２」
断熱層用塗布液１２の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３２．２５部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
３０．５７部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
９．６４部
・純水 ２６．７４部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（実施例１３）
断熱層の形成に断熱層用塗布液１３を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液１３」
断熱層用塗布液１３の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３２．２５部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
４８．８２部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
４．８１部
・純水 １３．３３部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（実施例１４）
断熱層の形成に断熱層用塗布液１４を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液１４」
断熱層用塗布液１４の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３２．２５部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
６６．１４部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
０．２２部
・純水 ０．６０部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例１）
断熱層の形成に断熱層用塗布液１５を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液１５」
断熱層用塗布液１５の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３７．６４部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
６１．５７部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例２）
断熱層の形成に断熱層用塗布液１６を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液１６」
断熱層用塗布液１６の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３７．５０部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
６０．２２部
・非中空粒子（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
０．３９部
・純水 １．０９部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例３）
断熱層の形成に断熱層用塗布液１７を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液１７」
断熱層用塗布液１７の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３０．９２部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
２６．５７部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
１１．０５部
・純水 ３０．６６部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例４）
断熱層の形成に断熱層用塗布液１８を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液１８」
断熱層用塗布液１８の組成は次の通りである。・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３１．０１部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
６１．６１部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
１．７５部
・純水 ４．８４部
・界面活性剤（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例５）
断熱層の形成に断熱層用塗布液１９を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液１９」
断熱層用塗布液１９の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３０．１３部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
５９．１７部
・非中空粒子（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
２．６２部
・純水 ７．２８部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例６）
断熱層の形成に断熱層用塗布液２０を用いたこと以外、は実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液２０」
断熱層用塗布液２０の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３７．３６部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
１６．３９部
・純水 ４５．４６部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例７）
断熱層の形成に断熱層用塗布液２１を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液２１」
断熱層用塗布液２１の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３７．３６部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
４７．５８部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
３．７８部
・純水 １０．４９部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例８）
断熱層の形成に断熱層用塗布液２２を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液２２」
断熱層用塗布液２２の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３７．３６部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
５５．９０部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
１．５８部
・純水 ４．３７部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例９）
断熱層の形成に断熱層用塗布液２３を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液２３」
断熱層用塗布液２３の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３１．８９部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
１７．８４部
・純水 ４９．４７部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例１０）
断熱層の形成に断熱層用塗布液２４を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液２４」
「断熱層用塗布液２４の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３１．８９部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
２３．２１部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
１１．６９部
・純水 ３２．４１部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例１１）
断熱層の形成に断熱層用塗布液２５を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液２５」
断熱層用塗布液２５の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３１．８９部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
２６．６９部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
１０．７６部
・純水 ２９．８６部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例１２）
断熱層の形成に断熱層用塗布液２６を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液２６」
断熱層用塗布液２６の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３１．８９部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
６７．３１部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例１３）
断熱層の形成に断熱層用塗布液２７を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液２７」
断熱層用塗布液２７の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３２．２５部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
１７．７４部
・純水 ４９．２１部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例１４）
断熱層の形成に断熱層用塗布液２８を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液２８」
断熱層用塗布液２８の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３２．２５部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
１８．６０部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
１２．８１部
・純水 ３５．５４部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例１５）
断熱層の形成に断熱層用塗布液２９を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液２９」
断熱層用塗布液２９の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３２．２５部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
２９．２９部
・非中空粒子
（商品名：ＭＲ１−ＨＧ、綜研化学（株）、固形分１００％）
９．９８部
・純水 ２７．６８部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

（比較例１６）
断熱層の形成に断熱層用塗布液３０を用いたこと以外は、実施例１と同様に熱転写受像シートを作製した。
「断熱層用塗布液３０」
断熱層用塗布液３０の組成は次の通りである。
・スチレン・ブタジエンゴム溶液
（商品名Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、日本ゼオン（株））（固形分４０．５％）
３２．２５部
・中空粒子
（商品名：ＳＮ−１０５５、ダウケミカル日本（株）、固形分２６．５％）
６６．９６部
・界面活性剤
（商品名：ＦｏｌｙＦｏｘ ＰＦ−１３６Ａ、オムノバ製、固形分３０％）
０．７９部

＜＜感熱転写記録媒体＞＞
基材として、４．５μｍの片面易接着処理付きポリエチレンテレフタレートフィルムを使用した。その基材の非易接着処理面に下記組成の耐熱滑性層用塗布液を、乾燥後の塗布量が１．０ｇ／ｍ^２となるように塗布、乾燥し、耐熱滑性層付き基材を得た。次に、耐熱滑性層付き基材の易接着処理面に、下記組成の熱転写層用塗布液を、乾燥後の塗布量が１．０ｇ／ｍ^２となるように塗布、乾燥して熱転写層を形成し、感熱転写記録媒体を得た。

＜耐熱滑性層用塗布液＞
耐熱滑性層用塗布液の組成は次の通りである。・シリコーン系アクリルグラフトポリマー ５０．００部
（東亜合成（株）ＵＳ−３５０）
・メチルエチルケトン ５０．００部
＜熱転写層用塗布液＞
熱転写層用塗布液の組成は次の通りである。
・Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー３６ ２．５０部
・Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー６３ ２．５０部
・ポリビニルアセタール樹脂 ５．０部
・トルエン ４５．０部
・メチルエチルケトン ４５．０部

＜＜画質評価＞＞
実施例１〜１４、比較例１〜１６の熱転写受像シートと、感熱転写記録媒体とを使用し、サーマルシミュレーターにて印画を行い、高階調濃度、にじみ、白抜けを評価した。印画は全て下記の条件で行っている。
・印画環境：２３℃５０％ＲＨ
・印加電圧：２４Ｖ
・印画速度：１０ｉｎｃｈ／ｓｅｃ
・印画密度：主走査３００ｄｐｉ 副走査３００ｄｐｉ

（高階調濃度評価）
実施例１〜１４、比較例１〜１６の熱転写受像シートに感熱転写記録媒体を使用し、サーマルシミュレーターにて印画を行い、印画物の高階調濃度を評価した。評価画像は、高階調のベタ画像を用いた。評価結果を表２示す。
なお、評価基準は以下の通りで、△以上が実用上問題ないレベルである。
○：高階調濃度が十分に高い
△：高階調濃度がやや不足している
×：高階調濃度が不足している
また、白抜けが発生すると濃度の評価ができなくなるため、白抜け評価が×の場合は評価不能とした。

（にじみ評価）
実施例１〜１４、比較例１〜１６の熱転写受像シートに感熱転写記録媒体を使用し、サーマルシミュレーターにて印画を行い、印画物のにじみを評価した。評価画像は、自然画（人物画像）を用いた。評価結果を表２示す。
なお、評価基準は以下の通りで、△以上が実用上問題ないレベルである。
○：にじみが、認められない
△：にじみが、ごく僅かに認められる
×：にじみが、全面で認められる
また、白抜けが発生すると評価ができなくなるため、白抜け評価が×の場合は評価不能とした。

（白抜け評価）
実施例１〜１４、比較例１〜１６の熱転写受像シートに感熱転写記録媒体を使用し、サーマルシミュレーターにて印画を行い、印画物の白抜けを評価した。評価画像は、中間の階調のベタ画像を用いた。評価結果を表２示す。
なお、評価基準は以下の通りで、△以上が実用上問題ないレベルである。
○：白抜けが、認められない
△：白抜けが、ごく僅かに認められる
×：白抜けが、全面で認められる

実施例１〜１４、比較例１〜１６について、熱転写受像シートの断熱層全体の空隙率、断熱層の中空粒子外空隙率、印画物の高階調濃度、にじみ、白抜けの評価結果を表２に示す。

表２から、下記のような結果が確認された。
（ａ）断熱層の空隙率が４４．０％以上であり、かつ中空粒子外空隙率が８．１％以上である実施例１〜１４、比較例３〜５、１２、１６では白抜けが発生しないか、白抜けがごく僅かに認められるだけであった。
（ｂ）断熱層の空隙率が４４．０％以上であり、かつ中空粒子外空隙率が８．１％未満である比較例１、２では白抜けが全面で発生した。
このことから、断熱層の空隙率が４４％以上において、白抜けを抑えるためには、中空粒子外空隙率を８．１％以上にする必要があることがわかった。ここで、断熱層の空隙率が４４％以上において、中空粒子外空隙率が８．１％未満であるとクッション性が不足するとともに、中空粒子の配合比が多くなることで平滑性が悪化するために白抜けが発生すると考えられる。

また、表２から下記のような結果が確認された。
（ｃ）断熱層の空隙率が４４％以上であり、かつ中空粒子外空隙率が８．１％以上２２．３％以下である実施例１〜１４、比較例１２、１６では高階調濃度が十分高くなった。
（ｄ）断熱層の空隙率が４４％未満であり、かつ中空粒子外空隙率が８．１％以上２２．３％以下である比較例６〜１１、１３〜１５では高階調濃度が不足となった。
（ｅ）断熱層の空隙率が４４％以上であり、かつ中空粒子外空隙率が２２．３％を超える比較例３、４、５では高階調濃度が不足となった。
このことから、十分な高階調濃度を得るためには、断熱層の空隙率が４４％以上であり、かつ中空粒子外空隙率を８．１％以上２２．３％以下にする必要があることがわかった。

断熱層の空隙率が４４％未満であると空隙不足により断熱性が不足し、断熱層の空隙率が４４％以上においても中空粒子外空隙率が２２．３％を超えると断熱層上に塗布する受容層塗液が断熱層の空隙に入り込むことにより断熱性が低下することにより、高階調濃度が低下するものと考えられる。
なお、前述のように断熱層の空隙率が４４％以上において中空粒子外空隙率が８．１％未満であると白抜けが発生するために高階調濃度の評価ができなかった。

また、表２から下記のような結果が確認された。
（ｆ）断熱層の空隙率が６１．３％以下であり、かつ中空粒子外空隙率が８．１％以上である実施例１〜１４、比較例３〜１１、１３〜１５ではにじみが発生しなかった。
（ｇ）断熱層の空隙率が６１．３％を超えて、かつ中空粒子外空隙率が８．１％以上である比較例１４、１６ではにじみが発生した。
このことから、にじみが発生しないようにするには断熱層の空隙率を６１．３％以下にする必要があることがわかった。
断熱層の空隙率が６１．３％を超えると断熱性が高くなり過ぎて低階調で過剰な発色が起こることによりにじみが発生してしまうものと考えられる。
なお、前述のように断熱層の空隙率が４４％以上において中空粒子外空隙率が８．１％未満であると白抜けが発生するためににじみの評価ができなかった。

以上のことから、高階調濃度、にじみ、白抜けの性能を満足するためには、断熱層の空隙率が４４％以上６１．３％以下であり、かつ中空粒子外空隙率が８．１％以上２２．３％以下である必要があることがわかった。
ここでは、限られた数の実施形態を参照しながら説明したが、権利範囲はそれらに限定されるものではなく、上記の開示に基づく各実施形態の改変は当業者にとって自明なことである。

本発明により得られる熱転写受像シートは、昇華転写方式のプリンタに使用することができ、プリンタの高速・高機能化と併せて、各種画像を簡便にフルカラー形成できる。このため、デジタルカメラのセルフプリント、身分証明書などのカード類、アミューズメント用出力物等に広く利用できる。

１：熱転写受像シート
１０：基材シート
２０：断熱層
３０：下引き層
４０：受容層
５０：裏面層

Claims (3)

1. 基材シートの一方の面側に、断熱層と受容層とがこの順で形成され、
   上記断熱層は、少なくともバインダ樹脂と中空粒子とを有する塗膜からなり、
   上記断熱層の空隙率が４４．０％以上６１．３％以下であり、
   上記断熱層の上記中空粒子による空隙を除いた空隙率が、８．１％以上２２．３％以下であることを特徴とする熱転写受像シート。
2. 上記断熱層が、中実の粒子を含むことを特徴とする請求項１に記載の熱転写受像シート。
3. 上記断熱層が、フッ素系界面活性剤を含むことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の熱転写受像シート。

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