JP2020180664A

JP2020180664A - テンデンシーロール装置

Info

Publication number: JP2020180664A
Application number: JP2019085141A
Authority: JP
Inventors: 康介大西; Kosuke Onishi; 吉野　誠; Makoto Yoshino; 誠吉野; 康洋早瀬; Yasuhiro Hayase; 雄輔山口; Yusuke Yamaguchi; 貴裕福山; Takahiro Fukuyama; 大輔小山; Daisuke Koyama; 孝明山根; Takaaki Yamane
Original assignee: Hirano Tecseed Co Ltd; Hirano Steel Recycle Co
Current assignee: Hirano Tecseed Co Ltd; Hirano Steel Recycle Co
Priority date: 2019-04-26
Filing date: 2019-04-26
Publication date: 2020-11-05
Anticipated expiration: 2039-04-26
Also published as: JP7264570B2

Abstract

【課題】ベアリングから発生した塵がウエブに付着しないテンデンシーロール装置を提供する。【解決手段】左右一対の支持部材１４，１６と、左右一対の支持部材１４，１６にそれぞれ設けられた左右一対の第１ベアリング２８，６８と、左右一対の第１ベアリングの２８，６８間に回転自在に架設されたシャフト１８と、左右一対の第１ベアリング２８，６８の内側であって、シャフト１８に設けられた左右一対の第２ベアリング５２，５６と、左右一対の第２ベアリング５２，５６の間に回転自在に設けられた円筒状のシェル２０と、支持部材１４，１６とシェル２０との間にあるシャフト１８の外周に形成された第１防塵空間３２，７２とを有する。【選択図】図１

Description

本発明は、ウエブを案内するテンデンシーロール装置に関するものである。

従来のテンデンシーロール装置のシャフトは、左右一対の第１ベアリングを介して左右一対の支持部材に取り付けられている。このシャフトには、左右一対の第２ベアリングを介して、円筒状のシェルが設けられている。

このシェルによってウエブを案内する場合には、ウエブの走行速度Ｖに合わせて、シャフトをモータなどの駆動手段によって回転させ、それと共にシェルを回転させて、ウエブを案内する。

特開平１１−３４３０５７号公報

上記のようなテンデンシーロール装置において、シャフト、シェルをそれぞれ回転させるベアリングが設けられている。このようなベアリングは回転すると塵が発生し、ウエブに付着する可能性があるという問題点があった。

そこで本発明は上記問題点に鑑み、ベアリングから発生した塵がウエブに付着しないテンデンシーロール装置を提供することを目的とする。

本発明は、左右一対の支持部材と、左右一対の支持部材にそれぞれ設けられた左右一対の第１ベアリングと、左右一対の前記第１ベアリングの間に回転自在に架設されたシャフトと、左右一対の前記第１ベアリングの内側であって、前記シャフトに設けられた左右一対の第２ベアリングと、前記左右一対の前記第２ベアリングに回転自在に設けられた円筒状のシェルと、前記支持部材と前記シェルとの間にある前記シャフトの外周に形成された第１防塵空間と、を有するテンデンシーロール装置である。

本発明によれば、第１防塵空間によって第１ベアリングと第２ベアリングから発生した塵が外部に飛散することがなく、ウエブに付着しない。

本発明の一実施形態を示すテンデンシーロール装置の正面図である。左側の支持部材とシャフトの左端部の拡大縦断面図である。図２におけるＡ−Ａ線端面図である。図２におけるＢ−Ｂ線端面図である。図２におけるＣ−Ｃ線端面図である。図２におけるＤ−Ｄ線端面図である。図２におけるＥ−Ｅ線端面図である。図２におけるＦ−Ｆ線端面図である。

以下、本発明の一実施形態のウエブＷを案内するテンデンシーロール装置（以下、単に「本装置」という）１０について図１〜図８を参照して説明する。ウエブＷとしては、例えばフィルム、金属箔、金属網、布、紙等である。

（１）本装置１０の構成
本装置１０の構成につい説明する。図１に示すように、本装置１０の基礎となる直方体の基台１２の上面の左右両側から左右一対の支持部材１４，１６が立設されている。この左右一対の支持部材１４，１６の間には、左右方向に、かつ、水平にシャフト１８が回転自在に設けられている。また、左右一対の支持部材１４，１６の間であって、シャフト１８の外周には、円筒状のシェル２０がシャフト１８と同軸に設けられている。

図１、図２、図６に示すように、左側の支持部材１４は、垂直方向に立設された左脚部２２と、左脚部２２の上部右面に設けられた円筒状の左取り付け部２４とを有する。図１、図２、図７に示すように、左脚部２２の上部には、水平方向に貫通した軸貫通孔２６が開口し、円筒状の左取り付け部２４の内周部と軸貫通孔２６とをシャフト１８が貫通している。図２、図６に示すように、左取り付け部２４の内周側には、第１ベアリング２８が設けられ、シャフト１８を回転自在に支持している。この第１ベアリング２８は、調心機能付きベアリングである。図２、図６に示すように、円筒状の左取り付け部２４の外周部には、円筒状の第１左防塵カバー３０が取り付けられている。図２に示すように、この第１左防塵カバー３０は、左取り付け部２４よりも右側に突出し、第１左防塵カバー３０内部をシャフト１８が配され、この第１左防塵カバー３０内部が第１左防塵空間３２となる。

図１に示すように、左脚部２２の軸貫通孔２６から突出したシャフト１８の左端部はカップリング装置３４を介してモータなどの駆動装置３６の回転軸と連結されている。駆動装置３６と左脚部２２との間であって、カップリング装置３４とシャフト１８の外周部には円筒状の第２防塵カバー３８が設けられている。そしてこの第２防塵カバー３８の内部が第２防塵空間４０となる。

図１、図２に示すように、左取り付け部２４の下部において、左右方向に貫通した吸引通路４２が設けられている。この吸引通路４２の右端部は、第１左防塵空間３２に開口し第１左吸引口４３となっている。吸引通路４２の開口した左端部と対応した左脚部２２の位置には、横左吸引通路４４が左右方向に貫通している。この横左吸引通路４４の右側は吸引通路４２に面して開口し、横左吸引通路４４の左側は第２防塵空間４０に開口し第２吸引口となっている。そして、左脚部２２の内部であって横左吸引通路４４の位置から下方に向かって縦左吸引通路４６が形成されている。この縦左吸引通路４６の上端部は横左吸引通路４４と連通し、図１に示すように、下端は基台１２の内部まで延びている。

図１、図２に示すように、円筒状のシェル２０の内周部の左右両端部には円筒状の左側部４８と右側部５０がそれぞれ設けられている。図１、図２、図４に示すように、円筒状の左側部４８の内周側はシャフト１８が貫通すると共にシャフト１８と左側部４８の内周側との間には第２ベアリング５２が設けられている。また、円筒状の右側部５０の内周側にはシャフト１８が貫通し、第２ベアリング５６を介してシェル２０が回転自在に支持されている。シェル２０の左端部と第１左防塵カバー３０との間には若干の隙間５４が形成されている。

右側の支持部材１６も左側の支持部材１４と同様に、基台１２の右側から垂直に立設された右脚部６２と、右脚部６２の上部左面に設けられた円筒状の右取り付け部６４とを有する。

図１に示すように、円筒状の右取り付け部６４の内周部にはシャフト１８の右端部が配され、第１ベアリング６８を介して回転自在に支持している。この第１ベアリング６８も、調心機能付きベアリングである。これによりシェル２０は、左右一対の第１ベアリング２８，６８の間に配されていることとなる。

図１に示すように、円筒状の右取り付け部６４の外周には第１右防塵カバー７０が設けられている。この第１右防塵カバー７０は、右取り付け部６４から左側に突出し、その内部にシャフト１８が配されている。第１右防塵カバー７０の内部には第１右防塵空間７２が形成されている。第１右防塵カバー７０とシェル２０の右端部の間には若干の隙間７４が形成されている。

図１に示すように、右取り付け部６４の下部には左右方向に貫通した吸引通路８２が貫通している。この吸引通路８２の左端部は、第１右防塵空間７２に開口し第１右吸引口となっている。吸引通路４２の開口した右端部と対応した右脚部６２の位置には、横右吸引通路８４が左右方向に貫通している。そして、右脚部６２の内部であって横右吸引通路８４の位置から下方に向かって縦右吸引通路８６が形成されている。この縦右吸引通路８６の上端部は横右吸引通路８４と連通し、下端は基台１２の内部まで延びている。

図１に示すように、基台１２の内部には、左右方向に沿って主吸い込み管７６が設けられ、左側の縦左吸引通路４６と右側の縦右吸引通路８６が接続されている。この主吸い込み管７６の左端部は基台１２の外周部にあるブロワーやポンプなどの空気の吸引装置７８と接続されている。

（２）本装置１０の動作状態
次に、本装置１０の動作状態について説明する。

図１、図３に示すように、円筒状のシェル２０の外周部にウエブＷが配されている。そして、駆動装置３６がウエブＷの走行速度と併せて回転すると、シャフト１８が第１ベアリング２８，６８に回転自在に支持されているため回転する。この場合に第１ベアリング２８，６８は調心機能付きのベアリングであるため、左右の支持部材１４，１６の取り付け姿勢に影響を受けにくい、そのため、シャフト１８はスムーズに回転できる。

シャフト１８が回転すると、シェル２０の第２ベアリング５６によって回転する。ウエブＷが一定の走行速度で回転するとシェル２０のそれに併せて回転すると共に、シャフト１８も走行速度に併せて回転しているため、ウエブＷをスムーズに案内することができる。

（３）本装置１０の防塵構造
次に、本装置１０の防塵構造について説明する。上記のようにウエブＷが走行し、シェル２０とシャフト１８が回転すると、第１ベアリング２８，６８と第２ベアリング５２，５６から塵が発生する。図１、図２に示すように、塵が発生すると、左側は第１左防塵空間３２に流れ、右側は第１右防塵空間７２に流れる。図１、図５に示すように、そして第１左防塵カバー３０、第１右防塵カバー７０から外に出ることなくシェル２０の外周にあるウエブＷに付着しない。

図１に示すように、吸引装置７８が駆動すると、主吸い込み管７６、縦左吸引通路４６、横左吸引通路４４、吸引通路４２を経て第１左防塵空間３２内部にある塵を吸引し、防塵を完全にすることができる。また、図１、図２に示すように、横左吸引通路４４は第２防塵空間４０の空気も吸引するため、カップリング装置３４や駆動装置３６によって発生した塵も吸引し、第２防塵カバー３８から外部に飛散しない。右側においても、主吸い込み管７６から縦右吸引通路８６、横右吸引通路８４を経て第１右防塵空間７２内部にある塵を吸引し、防塵を完全にすることができる。

（４）効果
本実施形態によれば、第１ベアリング２８，６８と第２ベアリング５２，５６から発生した塵は、第１左防塵カバー３０、第１右防塵カバー７０によって第１左防塵空間３２と第１右防塵空間７２内部に留まり、外部に飛散することがないので、ウエブＷに付着しない。

また、吸引装置７８によって、第１左防塵空間３２と第１右防塵空間７２内部の塵が吸引されるため、塵を完全に除去できる。

また、シェル２０と第１左防塵カバー３０との間には若干の隙間５４が形成され、シェル２０の右端部と第１右防塵カバー７０の間にも若干の隙間７４が形成されているため、シェル２０がスムーズに回転できる。また、吸引装置７８によって吸引されているため隙間５４，７４から塵が飛散しない。

（５）変更例
上記実施形態では、第１左防塵空間３２と第１右防塵空間７２の塵を１つの吸引装置７８で吸引したが、左右それぞれ別の吸引装置で吸引してもよい。

また、上記実施形態では、左取り付け部２４と右取り付け部６４内部に吸引通路４２と吸引通路８２を設け、左脚部２２と右脚部６２内部を通して吸引したが、これに代えて、第１左防塵カバー３０、第１右防塵カバー７０にそれぞれ第１吸引口を開口し、この第１吸引口に吸引管をそれぞれ接続し、吸引装置７８で吸引してもよい。第２防塵空間４０においても同様に第２防塵カバー３８に第２吸引口を開口し、この第２吸引口に吸引管を直接接続し、吸引装置７８で吸引してもよい。

また、上記実施形態では、第１ベアリング２８，６８は調心機能付きベアリングであったが、調心機能のない通常のベアリングであってもよい。

また、上記実施形態では、吸引装置７８を設けたが、この吸引装置７８を設けず単に第１左防塵カバー３０、第２防塵カバー３８、第１右防塵カバー７０を設けるだけでも防塵効果がある。

また、上記実施形態では、第１左防塵カバーを左取り付け部２４に取り付けたが、これに代えてシェル２０の左端部に第１左防塵カバー３０を取り付け、第１左防塵カバー３０と左取り付け部２４との間に若干の隙間５４を設けてもよい。シェル２０の右側においても同様である。

上記では本発明の一実施形態を説明したが、この実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の主旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると共に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１０・・・テンデンシーロール装置、１２・・・基台、１４・・・左側の支持部材、１６・・・右側の支持部材、１８・・・シャフト、２０・・・シェル、２２・・・左脚部、２４・・・左取り付け部、２８・・・第１ベアリング、３０・・・第１左防塵カバー、３２・・・第１左防塵空間、３６・・・駆動装置、３８・・・第２防塵カバー、４０・・・第２防塵空間、５２・・・第２ベアリング、５４・・・隙間、５６・・・第２ベアリング、６２・・・右脚部、６４・・・右取り付け部、６８・・・第１ベアリング、７０・・・第１右防塵カバー、７２・・・第１右防塵空間、７４・・・隙間、７８・・・吸引装置

Claims

左右一対の支持部材と、
左右一対の支持部材にそれぞれ設けられた左右一対の第１ベアリングと、
左右一対の前記第１ベアリングの間に回転自在に架設されたシャフトと、
左右一対の前記第１ベアリングの内側であって、前記シャフトに設けられた左右一対の第２ベアリングと、
前記左右一対の前記第２ベアリングに回転自在に設けられた円筒状のシェルと、
前記支持部材と前記シェルとの間にある前記シャフトの外周に形成された第１防塵空間と、
を有するテンデンシーロール装置。
前記第１防塵空間が、円筒状の第１防塵カバーで囲まれている、
請求項１に記載のテンデンシーロール装置。
前記第１防塵カバーが、前記支持部材に固定され、
前記第１防塵カバーと前記シェルとの間に隙間が形成されている、
請求項２に記載のテンデンシーロール装置。
前記第１防塵空間内の塵を吸引する第１吸引手段を有する、
請求項３に記載のテンデンシーロール装置。
前記第１吸引手段は、
前記第１防塵空間に開口した第１吸引口と、
第１吸引装置と、
一端が前記第１吸引口に通じ、他端が前記第１吸引装置に接続されている第１吸引通路と、
を有する請求項４に記載のテンデンシーロール装置。
前記第１吸引口は、前記支持部材に開口し、
前記第１吸引通路は、前記支持部材の内部を貫通している、
請求項５に記載のテンデンシーロール装置。
前記第１吸引口は、前記第１防塵カバーに開口している、
請求項５に記載のテンデンシーロール装置。
左右一対の前記第２ベアリングは、前記シェルの左右両端部に設けられている、
請求項１に記載のテンデンシーロール装置。
前記シャフトが、一方の前記支持部材を回転自在に貫通して一方の前記支持部材から突出し、
前記支持部材から突出した前記シャフトが、前記シャフトを回転させる駆動手段に接続され、
一方の前記支持部材の外側と前記駆動手段との間にある前記シャフトの外周に第２防塵空間が形成されている、
請求項１に記載のテンデンシーロール装置。
前記第２防塵空間が、円筒状の第２防塵カバーで囲まれている、
請求項９に記載のテンデンシーロール装置。
前記第２防塵空間内の塵を吸引する第２吸引手段を有する、
請求項９に記載のテンデンシーロール装置。
前記第２吸引手段は、
前記第２防塵空間に開口した第２吸引口と、
第２吸引装置と、
一端が前記第２吸引口に通じ、他端が前記第２吸引装置に接続されている第２吸引通路と、
を有する請求項１１に記載のテンデンシーロール装置。
前記第２吸引通路は、前記支持部材の内部を貫通している、
請求項１２に記載のテンデンシーロール装置。
前記シャフトが、一方の前記支持部材を回転自在に貫通して一方の前記支持部材から突出し、
前記支持部材から突出した前記シャフトが、前記シャフトを回転させる駆動手段に接続され、
一方の前記支持部材の外側と前記駆動手段との間にある前記シャフトの外周に第２防塵空間が形成され、
前記第２防塵空間に面した前記支持部材に第２吸引口が開口し、
一端が前記第２吸引口に通じ、他端が前記第１吸引通路と接続されている、
請求項５に記載のテンデンシーロール装置。