JP2020173283A

JP2020173283A - 光学性積層体の製造方法

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Publication number: JP2020173283A
Application number: JP2019073201A
Authority: JP
Inventors: 北村　昌弘; Masahiro Kitamura; 昌弘北村; 裕大矢; Yutaka Oya
Original assignee: Sumitomo Bakelite Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date: 2019-04-05
Filing date: 2019-04-05
Publication date: 2020-10-22
Anticipated expiration: 2039-04-05
Also published as: JP7275787B2

Abstract

【課題】製造時および製造後にハーフミラー層を保護することができ、優れた光学特性を有する光学性積層体を製造する光学性積層体の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の光学性積層体の製造方法は、光透過性を有する第１基材と、前記第１基材に積層され、入射する光の一部を透過し、残部を反射させるハーフミラー層と、光透過性を有し、前記ハーフミラー層の前記第１基材とは反対側に設けられた第２基材と、光透過性を有し、前記ハーフミラー層と前記第２基材との間に設けられ、前記ハーフミラー層と前記第２基材とを接合する接合層と、を備える光学性積層体を製造する光学性積層体の製造方法であって、前記光学性積層体を、前記第２基材側からその厚さ方向に刃を入れて打ち抜く打ち抜き工程を有する。【選択図】図８

Description

本発明は、光学性積層体の製造方法に関する。

眼鏡、カメラなどの光学製品や、ディスプレイ装置の表示画面など、光学的・視覚的な現象を生じる機器には、様々な光学多層膜が利用されている（例えば、特許文献１参照）。
光学多層膜は、例えば、反射防止膜や、ハーフミラーとして用いられている。

特許文献１に記載されている光学多層膜は、レンズ等の透明基材の表面に、例えば、真空蒸着法によって金属薄膜を成膜、積層することにより製造されている。各金属薄膜の厚さや材料を適宜設定することにより、光学多層膜は、反射防止膜や、ハーフミラーとして機能する。

しかしながら、特許文献１に開示されている光学多層膜は、表面の部分（最外層）に露出しており、摩耗したり傷ついたりすることがある。この損傷の程度によっては、光学特性が低下することがある。

さらに、このような光学多層膜が形成された基板を所望の形状に打ち抜いて用いる際、その打ち抜き方向によっては、光学多層膜が剥離してしまうことがあるが、従来ではこの点に関して十分な研究が行われていなかった。

特開２００９−０５８７０３号公報

本発明の目的は、製造時および製造後にハーフミラー層を保護することができ、優れた光学特性を有する光学性積層体を製造する光学性積層体の製造方法を提供することにある。

このような目的は、下記（１）〜（９）の本発明により達成される。
（１）光透過性を有する第１基材と、
前記第１基材に積層され、入射する光の一部を透過し、残部を反射させるハーフミラー層と、
光透過性を有し、前記ハーフミラー層の前記第１基材とは反対側に設けられた第２基材と、
光透過性を有し、前記ハーフミラー層と前記第２基材との間に設けられ、前記ハーフミラー層と前記第２基材とを接合する接合層と、を備える光学性積層体を製造する光学性積層体の製造方法であって、
前記光学性積層体を、前記第２基材側からその厚さ方向に刃を入れて打ち抜く打ち抜き工程を有することを特徴とする光学性積層体の製造方法。

（２）前記接合層の２５℃における引張貯蔵弾性率は、１０ＭＰａ以下である上記（１）に記載の光学性積層体の製造方法。

（３）前記接合層は、主としてシリコーン系接着剤またはウレタン系接着剤を含む接着剤層である上記（１）または（２）に記載の光学性積層体の製造方法。

（４）前記接着剤層は、シリル化ウレタン接着剤を含む上記（３）に記載の光学性積層体の製造方法。

（５）前記接合層の厚さは、１μｍ以上３００μｍ以下である上記（３）または（４）に記載の光学性積層体の製造方法。

（６）前記ハーフミラー層は、高屈折率層と、前記高屈折率層よりも光屈折率が低い少なくとも１層の低屈折率層と、を有する上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の光学性積層体の製造方法。

（７）前記第１基材と前記ハーフミラー層との間に設けられ、前記第１基材と前記ハーフミラー層との密着性を高める下地層を有する上記（１）ないし（６）のいずれかに記載の光学性積層体の製造方法。

（８）前記接合層と前記第２基材との間に設けられ、偏光層および第２の接合層を有する上記（１）ないし（７）のいずれかに記載の光学性積層体の製造方法。

（９）前記打ち抜き工程では、前記光学性積層体の両面側に、前記第１基材および前記第２基材よりも引張貯蔵弾性率が低い保護層を積層した状態で、前記光学性積層体を打ち抜く上記（１）ないし（８）のいずれかに記載の光学性積層体の製造方法。

本発明によれば、製造時および製造後にハーフミラー層を保護することができ、優れた光学特性を有する光学性積層体を製造することができる。

図１は、本発明の光学性積層体の製造方法により製造される光学性積層体を備えるサングラスの斜視図である。図２は、本発明の光学性積層体の製造方法により製造される光学性積層体を備えるサンバイザーの斜視図である。図３は、本発明の光学性積層体の製造方法により製造される光学性積層体の拡大断面図である。図４は、本発明の光学性積層体の製造方法（第１実施形態）を説明するための断面図であって、ハーフミラー層形成工程を示す図である。図５は、本発明の光学性積層体の製造方法（第１実施形態）を説明するための断面図であって、接着剤層塗布工程（介在層積層工程）を示す図である。図６は、本発明の光学性積層体の製造方法（第１実施形態）を説明するための断面図であって、接合工程を示す図である。図７は、本発明の光学性積層体の製造方法（第１実施形態）を説明するための断面図であって、打ち抜き工程を示す図である。図８は、本発明の光学性積層体の製造方法（第１実施形態）を説明するための断面図であって、打ち抜き工程を示す図である。図９は、本発明の光学性積層体の製造方法（第２実施形態）を説明するための断面図であって、打ち抜き工程を示す図である。図１０は、本発明の光学性積層体の製造方法（第２実施形態）を説明するための断面図であって、打ち抜き工程を示す図である。

以下、本発明の光学性積層体の製造方法を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。

＜第１実施形態＞
図１は、本発明の光学性積層体の製造方法により製造される光学性積層体を備えるサングラスの斜視図である。図２は、本発明の光学性積層体の製造方法により製造される光学性積層体を備えるサンバイザーの斜視図である。図３は、本発明の光学性積層体の製造方法により製造される光学性積層体の拡大断面図である。

なお、図１において、サングラスを使用者の頭部に装着した際に、レンズの使用者の目側の面を裏側の面と言い、その反対側の面を表側の面とも言う。すなわち、図３では、左側の面が「表側の面」であり、右側の面が「裏側の面」である。また、図３〜図１０では、光学性積層体の厚さ方向を誇張して図示しているが、実際の寸法とは大きく異なる。

光学性積層体１００は、図１に示すサングラス（光学部品１）のレンズ４や、図２に示すサンバイザー（光学部品１’）の光透過性部材７に積層されて用いられる。

図１に示すように、サングラス（光学部品１）は、使用者の頭部に装着されるフレーム２と、フレーム２に固定された光学性積層体付レンズ３（光学部品）とを備えている。なお、本明細書中においては、「レンズ」とは、集光機能を有するもの、集光機能を有していないものの双方を含む。

図１に示すように、フレーム２は、使用者の頭部に装着されるものであり、リム部２１と、ブリッジ部２２と、使用者の耳に掛けられるテンプル部２３と、ノーズパッド部２４を有している。各リム部２１は、リング状をなしており、内側に光学性積層体付レンズ３が装着される部分である。

光学性積層体付レンズ３は、光学性積層体１００と、レンズ４とを有し、レンズ４の表側の面上に光学性積層体１００が接合されたものである。これにより、後述する光学性積層体１００の利点を享受しつつ、サングラスとしての機能を発揮することができる。

ブリッジ部２２は、各リム部２１を連結する部分である。テンプル部２３は、つる状をなし、各リム部２１の縁部に連結されている。このテンプル部２３は、使用者の耳に掛けられる部分である。ノーズパッド部２４は、サングラス（光学部品１）を使用者の頭部に装着した装着状態において、使用者の鼻と当接する部分である。これにより、装着状態を安定的に維持することができる。

なお、フレーム２の形状は、使用者の頭部に装着することができるものであれば、図示のものに限定されない。

図２に示すように、サンバイザー（光学部品１’）は、使用者の頭部に装着されるリング状の装着部５と、装着部５の前方に設けられたツバ６とを有している。ツバ６は、光透過性部材７（基材）と、光透過性部材７の上面に設けられた光学性積層体１００とを有する。これにより、後述する光学性積層体１００の利点を享受しつつ、サンバイザーとしての機能を発揮することができる。

なお、レンズ４および光透過性部材７の構成材料としては、光透過性を有していれば、特に限定されず、例えば、各種熱可塑性樹脂や、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等の各種硬化性樹脂の各種樹脂材料や、各種ガラス材料や、各種結晶材料等が挙げられるが、ポリカーボネートであるのが好ましい。光学性積層体１００の第２基材２０は、後述するように、ポリカーボネートで構成されることがあり、この場合、レンズ４または光透過性部材７と、光学性積層体１００との密着性を高めることができる。

上記樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

また、上記ガラス材料としては、光透過性を有していれば特に限定されず、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。

また、上記結晶材料としては、光透過性を有していれば特に限定されず、例えば、サファイア、水晶等が挙げられる。また、レンズ４または光透過性部材７の厚さは、特に限定されず、例えば、０．５ｍｍ以上５．０ｍｍ以下であるのが好ましく、１．０ｍｍ以上３．０ｍｍ以下であるのがより好ましい。これにより、比較的高い強度と、軽量化とを両立することができる。

以下、光学性積層体１００について詳細に説明する。なお、以下では、レンズ４（基材）上に積層した場合について代表的に説明する。

図３に示すように、光学性積層体１００は、第１基材１０と、第２基材２０と、これらの間に設けられたハーフミラー層３０（光学多層膜）と、ハーフミラー層３０と第２基材２０との間に設けられた接着剤層４０と、第１基材１０とハーフミラー層３０との間に設けられたコート層６０（下地層）とを有する積層体で構成されている。

また、光学性積層体１００は、第１基材１０がレンズ４と反対側、すなわち、表側に位置する向きで、レンズ４に積層されて用いられる。

また、光学性積層体１００は、可撓性を有している。これにより、レンズ４が湾曲した形状であっても、その湾曲に追従して光学性積層体１００を積層することができる。

（第１基材および第２基材）
第１基材１０および第２基材２０は、ハーフミラー層３０を支持するとともに保護する機能を有している。

第１基材１０および第２基材２０は、光透過性（可視光透過性）を有する材料で構成されている。第１基材１０および第２基材２０の構成材料としては、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体等として）用いることができる。

これらの中でも、ポリカーボネートを用いることにより、光学性積層体１００の耐熱性および耐摩擦性を優れたものとすることができる。また、ポリアミド系樹脂を用いることにより、耐衝撃性および耐薬品性を優れたものとすることができる。

なお、第１基材１０および第２基材２０は、構成材料が同じであってもよく、異なっていてもよい。

第１基材１０および第２基材２０の厚さは、同じであってもよく、異なっていてもよく、例えば、０．０５ｍｍ以上１ｍｍ以下であるのが好ましく、０．０６ｍｍ以上０．８ｍｍ以下であるのがより好ましい。

また、第１基材１０および第２基材２０の色は、無色であっても、赤色、青色、黄色等、如何なる色であってもよい。

これらの色の選択は、第１基材１０および第２基材２０の少なくとも一方に染料または顔料を含有させることにより可能になる。この染料としては、例えば、酸性染料、直接染料、反応性染料、および塩基性染料等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

染料の具体例としては、例えば、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１７，２３，４２，４４，７９，１４２、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド５２，８０，８２，２４９，２５４，２８９、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー９，４５，２４９、Ｃ．Ｉ．アシッドブラック１，２，２４，９４、Ｃ．Ｉ．フードブラック１，２、Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー１，１２，２４，３３，５０，５５，５８，８６，１３２，１４２，１４４，１７３、Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド１，４，９，８０，８１，２２５，２２７、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー１，２，１５，７１，８６，８７，９８，１６５，１９９，２０２、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラック１９，３８，５１，７１，１５４，１６８，１７１，１９５、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１４，３２，５５，７９，２４９、Ｃ．Ｉ．リアクティブブラック３，４，３５等が挙げられる。

（ハーフミラー層）
ハーフミラー層３０は、第１基材１０と第２基材２０との間に設けられ、入射する光の一部を透過し、残部を反射させる機能を有する、いわゆる、ハーフミラー機能を有する層である。

ハーフミラー層３０は、高屈折率層３１と、高屈折率層３１よりも光屈折率が低い低屈折率層３２と、を有している。図示の構成では、表側（第１基材１０側）から、高屈折率層３１および低屈折率層３２の順で積層されている。

高屈折率層３１および低屈折率層３２は、例えば、抵抗加熱法、電子ビーム加熱法（ＥＢ法）等の真空蒸着等により成膜された蒸着膜であり、ハーフミラー層３０はこれらの積層体である。

また、高屈折率層３１および低屈折率層３２の構成材料としては、例えば、ＳｉＯ₂、ＳｉＯ、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ₂Ｏ₃、Ｔｉ₂Ｏ₅、Ａｌ₂Ｏ₃、ＴａＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、ＮｄＯ₂、ＮｂＯ、Ｎｂ₂Ｏ₃、ＮｂＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＣｅＯ₂、ＭｇＯ、Ｙ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＷＯ₃、ＨｆＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｓｃ_２Ｏ_３、ＣｒＯ、Ｃｒ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３、ＣａＦ_２、ＭｇＦ₂、Ｎａ_３ＡｌＦ_６、ＡｌＦ_３、ＢａＦ_３、ＣｅＦ_３、ＣａＦ_２、ＬａＦ_２、ＬｉＦ、Ｎａ_５Ａｌ_３Ｆ_１４、ＮｄＦ_３、ＹＦ_３等の酸化物またはフッ化物や、Ｉｎ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ａｌ等の金属材料が挙げられる。

高屈折率層３１の構成材料は、上記金属材料の中では、Ｃｒ、Ｚｒであるのが好ましい。一方、低屈折率層３２の構成材料は、上記金属材料の中では、Ｉｎであるのが好ましい。これにより、高屈折率層３１の屈折率を、低屈折率層３２よりも高くすることができる。よって、後述するように、ハーフミラー層３０は、ハーフミラー機能を有するものとなる。さらに、ハーフミラー層３０の曲げ性を高める、すなわち、クラックを生じにくくすることができる。

高屈折率層３１の構成材料は、上記酸化物の中では、Ｔａ_２Ｏ_５、ＨｆＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、Ｓｃ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２であるのが好ましく、ＺｒＯ_２、ＣｅＯ_２であるのがさらに好ましい。一方、低屈折率層３２の構成材料は、上記酸化物の中では、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ_２、ＭｇＦ_２、ＣａＦ_２、Ｎａ_３ＡｌＦ_６、Ｎａ_５Ａｌ_３Ｆ_１４であるのが好ましい。これにより、高屈折率層３１の屈折率を、低屈折率層３２よりも高くすることができる。よって、後述するように、ハーフミラー層３０は、ハーフミラー機能を有するものとなる。

なお、ハーフミラー層３０の構成材料として、例えば、Ａｕ、Ｃｕ、Ｉｎ等単層の金属膜で構成することもできる。単層の場合、ハーフミラー層３０の厚さを可及的に薄くすることができ、後述する打ち抜き工程や、曲げ加工時等にハーフミラー層３０にクラックが生じたりするのを抑制することができる。また、上述したようにハーフミラー層３０を複数層（多層膜）とすることで様々な反射色を再現することができ、デザイン性に優れる。

また、高屈折率層３１および低屈折率層３２の厚さ（物理厚さ）は、それぞれ、同じであってもよく、異なっていてもよいが、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であるのが好ましく、１．５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であるのがより好ましい。

高屈折率層３１および低屈折率層３２の厚さ（光学厚さ：５００ｎｍの波長に対して）は、０．００２／４λｎｍ以上０．４／４λｎｍ以下であるのが好ましく、０．００３／４λｎｍ以上０．３／４λｎｍ以下であるのがより好ましい。

高屈折率層３１および低屈折率層３２をこのような厚さとすることにより、ハーフミラー層３０は、ハーフミラーとしての効果を十分に発揮することができる。

また、ハーフミラー層３０の総厚（高屈折率層３１および低屈折率層３２の厚さの和）は、５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であるのが好ましく、７．５ｎｍ以上４５０ｎｍ以下であるのがより好ましく、１０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であるのがさらに好ましく、１２ｎｍ以上３８０ｎｍ以下であるのが特に好ましい。これにより、ハーフミラー層３０は、ハーフミラーとしての効果を十分に発揮することができるとともに、曲げ変形した際にハーフミラー層３０にクラックが生じてしまうのを防止することができる。

ハーフミラー層３０の総厚が薄すぎた場合、ハーフミラー層３０は、ハーフミラーとしての効果を十分に発揮することができず、意匠性が低下する可能性がある。一方、ハーフミラー層３０の総厚が厚すぎた場合、曲率半径が１３０．８ｍｍ以上の曲面に光学性積層体１００を追従させた場合、ハーフミラー層３０にクラックが生じてしまう可能性がある。

なお、ハーフミラー層３０の総厚とは、ハーフミラー層３０の平均厚さのことを言う。この平均厚さは、例えば、基材の断面を露出させＳＥＭまたはＴＥＭを用いて求めた値とすることができる。

ハーフミラー層３０の総厚が５ｎｍよりも薄かった場合、ハーフミラー層３０は、ハーフミラーとしての効果を十分に発揮することができず、意匠性が低下する可能性がある。一方、ハーフミラー層３０の総厚が５００ｎｍよりも厚かった場合、曲率半径が１３０．８ｍｍ以上の曲面に光学性積層体１００を追従させた場合、ハーフミラー層３０にクラックが生じてしまう可能性がある。

また、高屈折率層３１と低屈折率層３２との屈折率差（光屈折率差）は、０．３以上２以下であるのが好ましく、０．４以上１．５以下であるのがより好ましい。これにより、本発明の効果をより顕著に得られる。

このような屈折率の差は、例えば、高屈折率層３１および低屈折率層３２の構成材料を異ならせることにより発現することができる。これにより、上記のような屈折率の関係を比較的容易に得ることができる。

また、高屈折率層３１は、主としてＣｒで構成され、低屈折率層３２は、主としてＳｉＯ_２で構成されているのが好ましい。これにより、上記のような屈折率の関係をより確実に得ることができる。

また、高屈折率層３１と第１基材１０との屈折率差は、０．２以上１．５以下であるのが好ましく、０．３以上１．４以下であるのがより好ましい。これにより、ハーフミラー層３０は、ハーフミラー層としての機能を十分に発揮することができる。

また、低屈折率層３２と接着剤層４０との屈折率差は、０．０５以上０．３以下であるのが好ましく、０．１以上０．２８以下であるのがより好ましい。これにより、ハーフミラー層３０は、ハーフミラー層としての機能を十分に発揮することができる。

（コート層）
コート層６０は、第１基材１０とハーフミラー層３０との間に設けられており、第１基材１０とハーフミラー層３０との密着性を高める機能を有する。

コート層６０の構成材料としては、上記効果を有していれば、特に限定されず、例えば、ウレタンアクリレート等のアクリレート、シリコーン、シランカップリング剤等が挙げられる。

これらの中でも、アクリレートであるのが好ましい。これにより、第１基材１０とハーフミラー層３０との密着性をより効果的に高めることができる。

コート層６０の厚さは、０．１μｍ以上１００μｍ以下であるのが好ましく、１μｍ以上２０μｍ以下であるのがより好ましい。これにより、後述する本発明の効果をより効果的に得ることができる。

（接着剤層）
接着剤層４０（接合層）は、第２基材２０と、ハーフミラー層３０との間に設けられ、第２基材２０とハーフミラー層３０とを接合する機能を有する。

接着剤層４０は、光透過性を有する接着剤により構成されている。この接着剤としては、例えば、シリコーン系、ウレタン樹脂系、エポキシ系、ポリオレフィン系、塩素化ポリオレフィン系、アクリル系、シアノアクリレート系、ゴム系、ポリエステル系、ポリイミド系、フェノール系等の接着剤が挙げられる。これにより、接合強度を十分に確保することができる。

これらの中でも、接着剤層４０は、シリコーン系接着剤またはウレタン樹脂系接着剤（ウレタン系接着剤）により構成されているのが好ましい。これにより、光学性積層体１００を所望の形状に打抜き後、熱曲げを行い、インジェクション成形によりレンズ４と接合する際に、高温のインジェクション樹脂の熱による接着剤層４０の劣化を防止することが出来る。

さらには、接着剤層４０は、シリル化ウレタン樹脂系の接着剤により構成されているのが好ましい。これにより、硬化時にガスが発生するのを防止することができる。特に、ハーフミラー層３０は、ガスバリア性が比較的高いため、接着剤層４０に気泡の残存が発生しやすいが、シリル化ウレタン樹脂系の接着剤を用いた場合、この気泡の残存を防止することができる。

また、接着剤による接着は、液状接着剤を熱、ＵＶ、湿気などにより硬化させる方式、溶剤添加により液状となっている接着剤を乾燥（脱溶剤）した後に、熱、ＵＶ、湿気などにより硬化させる方式、接着シートをホットメルト、感圧、ＵＶなどにより貼り合わせる方式などが挙げられる。

接着剤層４０の２５℃における引張貯蔵弾性率は、コート層６０の引張貯蔵弾性率よりも低いのが好ましく、具体的には、１０ＭＰａ以下、特に、０．０１ＭＰａ以上１０ＭＰａ以下であるのが好ましく、０．１ＭＰａ以上９ＭＰａ以下であるのがより好ましい。これにより、後述するように、本発明の効果をより確実に得ることができる。

接着剤層４０の厚さは、特に限定されず、例えば、１μｍ以上３００μｍ以下であるのが好ましく、５μｍ以上２００μｍ以下であるのがより好ましい。

このような接着剤層４０により、第２基材２０とハーフミラー層３０とを良好に接合することができるとともに、後述する本発明の効果を十分に発揮することができる。

以上説明したような光学性積層体１００では、ハーフミラー層３０が表面（光学性積層体１００の上面または下面）に露出していないため、ハーフミラー層３０が摩耗したり、傷付いたりするのを防止することができる。よって、優れた光学特性を長期にわたって発揮することができる。

なお、光学性積層体１００の総厚は、特に限定されないが、０．１ｍｍ以上２．０ｍｍ以下であるのが好ましく、０．１２ｍｍ以上１．８ｍｍ以下であるのがより好ましい。これにより、レンズ４の湾曲面に確実に追従して貼着することができる。

また、接着剤層４０（第１の接合層）と第２基材２０との間に偏光層および第２の接合層を設けても良い。これにより偏光機能を付与することができる。

上記偏光層は、入射光（偏光していない自然光）から、所定の一方向に偏光面をもつ直線偏光を取出す機能を有している。これにより、光学性積層体１００を介して目に入射する入射光は、偏光されたものとなる。

偏光層の偏光度は、特に限定されないが、例えば、５０％以上、１００％以下であるのが好ましく、８０％以上、１００％以下であるのがより好ましい。また、偏光層の可視光線透過率は、特に限定されないが、例えば、５％以上６０％以下であるのが好ましく、１０％以上５０％以下であるのがより好ましい。

このような偏光層の構成材料としては、上記機能を有するものであれば特に限定されないが、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、部分ホルマール化ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、エチレン−酢酸ビニル共重合体部分ケン価物等で構成された高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着、染色させ、一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム等が挙げられる。

これらの中でも、偏光層は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を主材料とした高分子フィルムに、ヨウ素または二色性染料を吸着、染色させ、一軸延伸したものが好ましい。ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）は、透明性、耐熱性、染色剤であるヨウ素または二色性染料との親和性、延伸時の配向性のいずれもが優れた材料である。したがって、ＰＶＡを主材料とする偏光層は、耐熱性に優れたものとなるとともに、偏光能に優れたものとなる。

なお、上記二色性染料としては、例えば、クロラチンファストレッド、コンゴーレッド、ブリリアントブルー６Ｂ、ベンゾパープリン、クロラゾールブラックＢＨ、ダイレクトブルー２Ｂ、ジアミングリーン、クリソフェノン、シリウスイエロー、ダイレクトファーストレッド、アシドブラックなどが挙げられる。

この偏光層の厚さは、特に限定されず、例えば、５μｍ以上６０μｍ以下であるのが好ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下であるのがより好ましい。

次に、光学性積層体１００の製造方法（本発明の光学性積層体の製造方法）について説明する。

図４は、本発明の光学性積層体の製造方法（第１実施形態）を説明するための断面図であって、ハーフミラー層形成工程を示す図である。図５は、本発明の光学性積層体の製造方法（第１実施形態）を説明するための断面図であって、接着剤層塗布工程（介在層積層工程）を示す図である。図６は、本発明の光学性積層体の製造方法（第１実施形態）を説明するための断面図であって、接合工程を示す図である。図７および図８は、本発明の光学性積層体の製造方法（第１実施形態）を説明するための断面図であって、打ち抜き工程を示す図である。

本発明の光学性積層体の製造方法は、用意工程と、ハーフミラー層形成工程と、接着剤層塗布工程と、接合工程（積層工程）と、打ち抜き工程と、を有している。

（１）用意工程
まず、前述したような第１基材１０および第２基材２０を用意するとともに、液状の接着剤５０を用意する。液状の接着剤５０は、硬化することにより、接着剤層４０となる。

また、液状の接着剤５０としては、前述したようなもの挙げられる。また、液状の接着剤５０の粘度は、０．０１Ｐａ・ｓ以上１０００Ｐａ・ｓ以下であるのが好ましく、０．１Ｐａ・ｓ以上５００Ｐａ・ｓ以下であるのがより好ましい。これにより、厚さの制御が容易となる。

（２）ハーフミラー層形成工程
まず、図４に示すように、第１基材１０の一方の面上にコート層６０を形成する。コート層６０の形成方法としては、液状のコート層形成用材料を塗布して硬化させる方法等が挙げられる。

次に、第１基材１０のコート層６０が形成された面上に高屈折率層３１および低屈折率層３２を順次積層する。これにより、第１基材１０とハーフミラー層３０とが積層された第１積層体１００Ａを得ることができる。

この積層方法としては、蒸着法やスパッタリング法等の任意の方法を用いることができる。

また、図示の構成では、ハーフミラー層３０は、高屈折率層３１および低屈折率層３２が１層ずつ積層された２層構成であるが、３層以上積層してもよい。

（３）接着剤層塗布工程
次に、図５に示すように、第２基材２０の一方の面上に、接着剤５０を塗布する。これにより、第２基材２０と接着剤５０とが積層された第２積層体１００Ｂを得ることができる。また、接着剤５０の塗布した厚さ、すなわち、乾燥前の厚さ（平均厚さ）は、１μｍ以上３００μｍ以下であるのが好ましく、５μｍ以上１００μｍ以下であるのがより好ましい。これにより、接着剤５０を乾燥させた後、上述したような厚さを有する接着剤層４０を得ることができる。

（４）接合工程（積層工程）
次いで、乾燥させる前に、接着剤５０とハーフミラー層３０とが接触するように、第１積層体１００Ａと第２積層体１００Ｂとを積層する。そして、積層した状態で接着剤５０を乾燥させることにより、図６に示すように、ハーフミラー層３０と第２基材２０とが接合された積層体である光学性積層体１００を得ることができる。また、さらに、乾燥した接着剤を硬化させてもよい。

（５）打ち抜き工程
そして、図７および図８に示すように、台座８００上に光学性積層体１００を載置し、刃７００を用いて光学性積層体１００を所定の形状に打ち抜く。なお、本工程で用いる刃７００は、リング状をなし、内周面７０２と、内周面７０２に対し外周側の刃面７０１とを有する。刃面７０１は、例えば、片刃、両刃、片二段刃、両二段刃等で構成されている。

この刃７００を光学性積層体１００の一方の面側から他方の面側に向って貫通させるように打ち抜くことにより、刃７００のリング形状の内側に対応した形状、すなわち、内周面７０２に囲まれる形状の光学性積層体１００を得ることができる。

ここで、本工程では、光学性積層体１００を、第１基材１０が台座８００と接触するように載置して、第２基材２０側からその厚さ方向に刃７００を入れて打ち抜く。すなわち、第２基材２０、接着剤層４０、ハーフミラー層３０、コート層６０および第１基材１０の順で光学性積層体１００を切断する。これにより、刃７００が光学性積層体１００を切断しているとき、特に、ハーフミラー層３０と接触する際、ハーフミラー層３０の上側に位置する接着剤層４０がクッション材となり、ハーフミラー層３０と刃７００が接触する際の衝撃を吸収することができる。よって、ハーフミラー層３０と刃７００が接触する際の衝撃がハーフミラー層３０にダイレクトに伝わるのを緩和することができる。従って、ハーフミラー層３０と刃７００が接触する際にハーフミラー層３０にクラックが生じたり、剥離してしまったりするのを防止することができる。その結果、光学特性の高い光学性積層体１００を製造することができる。

図７および図８に示す構成とは反対、すなわち、第１基材１０、コート層６０、ハーフミラー層３０、接着剤層４０および第２基材２０の順で切断した場合は、ハーフミラー層３０を切断する直前に接触する層は、コート層６０であり、前述したような効果は得られない。

また、接着剤層４０の２５℃における引張貯蔵弾性率を前述したような数値範囲に設定することにより、十分な緩衝作用を発揮することができ、本発明の効果をより確実に得ることができる。

接着剤層４０の２５℃における引張貯蔵弾性率が高すぎると、本発明の効果を得ることはできるが、薄れる可能性がある。一方、接着剤層４０の２５℃における引張貯蔵弾性率が低すぎると、ハーフミラー層３０と第２基材２０との接合強度が不十分となる可能性がある。

また、接着剤層４０の厚さを前述したような数値範囲に設定することにより、十分な緩衝作用を発揮することができ、本発明の効果をより確実に得ることができる。接着剤層４０の厚さが厚すぎると、光学性積層体１００の厚さが過剰に厚くなってしまう可能性がある。一方、接着剤層４０の厚さが薄すぎると、ハーフミラー層３０と第２基材２０との接合強度が不十分となる可能性がある。

また、このような本工程では、接着剤層４０、ハーフミラー層３０およびコート層６０の順で切断する構成であるため、ハーフミラー層３０と刃７００が接触する際の衝撃を、ハーフミラー層３０を介してコート層６０においても吸収することができる。よって、上記効果をより効果的に得られる。

また、コート層６０の２５℃における引張貯蔵弾性率を前述したような数値範囲に設定することにより、十分な緩衝作用を発揮することができ、本発明の効果をより効果的に得ることができる。

また、コート層６０の厚さを前述したような数値範囲に設定することにより、十分な緩衝作用を発揮することができ、本発明の効果をより効果的に得ることができる。

また、刃７００では、外周部に刃面７０１が形成され、内周面７０２が垂直方向（リング状の中心軸と平行な方向）に形成されていることにより、打ち抜かれた光学性積層体１００の端面を可及的に厚さ方向と平行にすることができる。

また、刃７００は、先端角度θが１０°以上７０°以下であるのが好ましく、２０°以上６０°以下であるのがより好ましい。これにより、本発明の効果をより顕著に得ることができる。なお、このような先端角度θの好ましい値は、両刃でも同様である。

また、刃７００の打ち抜く速度（１分間あたりの打ち抜き数）は、１０ｓｐｍ以上２００ｓｐｍ以下であるのが好ましく、２０ｓｐｍ以上１５０ｓｐｍ以下であるのがより好ましい。これにより、本発明の効果をより顕著に得ることができる。

以上説明したように、本発明の光学性積層体の製造方法は、光透過性を有する第１基材１０と、第１基材１０に積層され、高屈折率層３１と、高屈折率層３１よりも光屈折率が低い少なくとも１層の低屈折率３２層と、を有し、入射する光の一部を透過し、残部を反射させるハーフミラー層３０と、光透過性を有し、ハーフミラー層３０の第１基材１０とは反対側に設けられた第２基材２０と、光透過性を有し、ハーフミラー層３０と第２基材２０との間に設けられ、ハーフミラー層３０と第２基材２０とを接合する接着剤層４０（接合層）と、を備える光学性積層体１００を製造する光学性積層体の製造方法であって、光学性積層体１００を、第２基材２０側からその厚さ方向に刃７００を入れて打ち抜く打ち抜き工程を有する。これにより、刃７００が光学性積層体１００を切断しているとき、特に、ハーフミラー層３０と接触する際、ハーフミラー層３０の上側に位置する接着剤層４０がクッション材となり、ハーフミラー層３０と刃７００が接触する際の衝撃を吸収することができる。よって、ハーフミラー層３０と刃７００が接触する際の衝撃がハーフミラー層３０にダイレクトに伝わるのを緩和することができる。よって、ハーフミラー層３０と刃７００が接触する際にハーフミラー層３０にクラックが生じたり、剥離してしまったりするのを防止することができる。その結果、光学特性の高い光学性積層体１００を製造することができる。

なお、本実施形態では、刃７００は、外周部に刃面７０１を有する片刃で構成されていう場合について説明したが、本発明ではこれに限定されず、内周部に刃面７０１を有する片刃や、内周面および外周面に刃面７０１を有する両刃であってもよい。

また、本実施形態では、接着剤５０を乾燥または乾燥・硬化させて接着剤層４０としてから打ち抜き工程を行った場合について説明したが、本発明ではこれに限定されず、接着剤５０を硬化させる前に打ち抜き工程を行い、その後、接着剤５０を乾燥または乾燥・硬化させてもよい。

＜第２実施形態＞
図９および図１０は、本発明の光学性積層体の製造方法（第２実施形態）を説明するための断面図であって、打ち抜き工程を示す図である。

以下、これらの図を参照して本発明の光学性積層体の製造方法の第２実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。

本実施形態は、打ち抜き工程において保護層を積層して打ち抜くこと以外は、前記第１実施形態と同様である。

図９および図１０に示すように、打ち抜き工程では、光学性積層体１００の両面側、すなわち、第１基材１０の、ハーフミラー層と反対側の面上に保護層７０を積層するとともに、第２基材２０の接着剤層４０と反対側の面上に保護層８０を積層した状態で打ち抜き工程を行う。

換言すれば、接合工程と打ち抜き工程との間に、光学性積層体１００の両面側に保護層７０および保護層８０をそれぞれ積層する積層工程（マスキング工程）を有する。保護層７０、８０の構成材料としては、例えば、ポリオレフィン（ＰＥ、ＰＰ等）が挙げられる。

保護層７０および保護層８０は、本実施形態では、同じ構成材料でかつ同じ引張貯蔵弾性率を有するが、これらは異なっていてもよい。

保護層７０および保護層８０の２５℃における引張貯蔵弾性率は、第１基材１０および第２基材２０よりも低く、０．１ＧＰａ以上３ＧＰａ以下であるのが好ましく、０．５ＧＰａ以上２ＧＰａ以下であるのがより好ましい。これにより、以下に述べる効果をより顕著に得られる。

保護層７０および保護層８０の厚さは、１０μｍ以上２００μｍ以下であるのが好ましく、２０μｍ以上１００μｍ以下であるのがより好ましい。これにより、以下に述べる効果をより顕著に得られる。

このような保護層７０および保護層８０は、剥離可能なマスキングシートであるのが好ましい。これにより、打ち抜き工程後、光学性積層体１００をレンズ４に積層するまでの間、光学性積層体１００を保護することができる。

このような保護層７０および保護層８０が積層された光学性積層体１００の一方側（図示の構成では、第２基材２０側、すなわち、保護層８０側）から打ち抜くことにより、刃７００が光学性積層体１００と接触する際、保護層８０がクッション材となり、光学性積層体１００と刃７００とが接触する際の衝撃を吸収することができる。これにより、光学性積層体１００と刃７００とが接触する際の衝撃が、光学性積層体１００にダイレクトに伝わるのを緩和することができる。よって光学性積層体１００と刃７００が接触する際にハーフミラー層３０にクラックが生じたり、剥離してしまったりするのを防止することができる。その結果、光学特性の高い光学性積層体１００を製造することができる。

このように、本実施形態では、光学性積層体１００の両面側に、第１基材１０および第２基材２０よりも引張貯蔵弾性率が低い保護層７０および保護層８０を積層した状態で、光学性積層体１００を打ち抜く。これにより、光学性積層体１００と刃７００とが接触する際の衝撃が、光学性積層体１００にダイレクトに伝わるのを緩和することができる。よって光学性積層体１００と刃７００が接触する際にハーフミラー層３０にクラックが生じたり、剥離してしまったりするのを防止することができる。その結果、光学特性の高い光学性積層体１００を製造することができる

以上、本発明の光学性積層体の製造方法を図示の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、光学性積層体の製造装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。

また、本発明の光学性積層体の製造方法の各工程は、同様の機能を発揮し得る任意の工程と置換することができる。また、任意の工程が付加されていてもよい。

なお、本発明の光学性積層体の製造方法は、前記各実施形態のうちの、任意の２以上の構成（特徴）を組み合わせたものであってもよい。

また、光学性積層体は、自動車、オートバイ、鉄道等の車両や、航空機、船舶、住宅等の窓部材に積層して用いることもできる。

また、前記各実施形態では、ハーフミラー層は、２層である場合について説明したが、本発明ではこれに限定されず、１層または３層以上であってもよい。

以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明する。
１．光学性積層体の形成
（実施例１）
まず、１００質量部のビスフェノールＡ型ポリカーボネート（三菱エンジニアプラスチックス社製、「Ｈ３０００」）を押し出し成形により、２枚の基材を得、これらを第１基材および第２基材とした。

そして、第１基材の一方の面上に、グラビア塗工することにより、アクリレート樹脂で構成された厚さ５μｍのコート層を形成した。次いで、コート層上に真空蒸着法により、表１に示すような第１層（高屈折率層）および第２層（低屈折率層）を積層してハーフミラー層を形成し、第１積層体を得た。

一方で、第２基材の一方の面上に、硬化後の厚さが、５０μｍになるように、コニシ製ボンドウルトラ多用途クリア（シリル化ウレタン樹脂系）を塗布し、第２積層体を得た。

そして、第１積層体と第２積層体とを、ハーフミラー層と接着剤層とが接触するように貼り合わせ、２５℃、湿度５０％環境下で７日間養生して接着剤層を硬化させて、光学性積層体を得た。

そして、内径が８０ｍｍのリング状の刃を用意し、第２基材側から打ち抜いて所望の形状の光学性積層体を得た。なお、刃は、先端角度θが３０°の両刃であり、４５ｔの打ち抜きプレス機にて打ち抜く速度（１分間あたりの打ち抜き数）は、３５ｓｐｍであった。

（実施例２）
光学性積層体の両面側、すなわち、第１基材のハーフミラー層と反対側の面上に保護層を積層するとともに、第２基材の接着剤層と反対側の面上に保護層を積層した状態で打ち抜きを行ったこと以外は、実施例１と同様にして実施例２の光学性積層体を得た。

なお、表１では、第１基材側の保護層を第１保護層とし、第２基材側の保護層を第２保護層としている。

（実施例３〜１０）
各部の構成を表１に示すように変更したこと以外は、実施例１と同様にして実施例３〜１０の光学性積層体を得た。
なお、実施例１０のウレタン樹脂系接着剤は、二液湿気硬化型ポリウレタン接着剤を用いた。

（比較例１）
第１基材側から打ち抜いたこと以外は、実施例１と同様にして比較例１の光学性積層体を得た。

なお、表１中のハーフミラー層では、「高屈折率層」および「低屈折率層」を、第１基材側から積層されている順に、上から記載している。

２．評価
各実施例および比較例の光学性積層体を、以下の方法で評価した。

＜ハーフミラー層観察＞
光学性積層体の縁部においてハーフミラー層が損傷しているか否かを光学性積層体の一方の面側から目視で観察し、以下のように評価した。なお、ハーフミラー層が損傷していた場合、その部分は、周囲と色が異なっている。

Ａ：損傷が全くない。
Ｂ：若干の損傷はあるが色の変化はほとんど気にならない。
Ｃ：若干の損傷はあり、色の変化が若干気になるが、光学特性は問題ない。
Ｄ：損傷が目立つ。

＜気泡観察＞
デジタルマイクロスコープ（キーエンス社製、「ＶＨＸ−１０００」）を用いて、観察を行い、気泡の大きさを測定し、次のように評価した。

Ａ：気泡が発生していない。
Ｂ：気泡が僅かに発生していた。
Ｃ：気泡が大量に発生していた。
評価結果を表１に示す。

表１に示したように、各実施例における光学性積層体では、比較例以上に、ハーフミラー層の損傷が少なく、満足のいく結果となった。

１光学部品
１' 光学部品
２フレーム
２１リム部
２２ブリッジ部
２３テンプル部
２４ノーズパッド部
３光学性積層体付レンズ
４レンズ
５装着部
６ツバ
７光透過性部材
１００光学性積層体
１００Ａ第１積層体
１００Ｂ第２積層体
１０第１基材
２０第２基材
３０ハーフミラー層
３１高屈折率層
３２低屈折率層
４０接着剤層
５０接着剤
６０コート層
７０保護層
８０保護層
７００刃
７０１刃面
７０２内周面
８００台座
θ 角度

Claims

光透過性を有する第１基材と、
前記第１基材に積層され、入射する光の一部を透過し、残部を反射させるハーフミラー層と、
光透過性を有し、前記ハーフミラー層の前記第１基材とは反対側に設けられた第２基材と、
光透過性を有し、前記ハーフミラー層と前記第２基材との間に設けられ、前記ハーフミラー層と前記第２基材とを接合する接合層と、を備える光学性積層体を製造する光学性積層体の製造方法であって、
前記光学性積層体を、前記第２基材側からその厚さ方向に刃を入れて打ち抜く打ち抜き工程を有することを特徴とする光学性積層体の製造方法。
前記接合層の２５℃における引張貯蔵弾性率は、１０ＭＰａ以下である請求項１に記載の光学性積層体の製造方法。
前記接合層は、主としてシリコーン系接着剤またはウレタン系接着剤を含む接着剤層である請求項１または２に記載の光学性積層体の製造方法。
前記接合層は、シリル化ウレタン接着剤を含む請求項３に記載の光学性積層体の製造方法。
前記接合層の厚さは、１μｍ以上３００μｍ以下である請求項３または４に記載の光学性積層体の製造方法。
前記ハーフミラー層は、高屈折率層と、前記高屈折率層よりも光屈折率が低い少なくとも１層の低屈折率層と、を有する請求項１ないし５のいずれか１項に記載の光学性積層体の製造方法。
前記第１基材と前記ハーフミラー層との間に設けられ、前記第１基材と前記ハーフミラー層との密着性を高める下地層を有する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の光学性積層体の製造方法。
前記接合層と前記第２基材との間に設けられ、偏光層および第２の接合層を有する請求項１ないし７のいずれか１項に記載の光学性積層体の製造方法。
前記打ち抜き工程では、前記光学性積層体の両面側に、前記第１基材および前記第２基材よりも引張貯蔵弾性率が低い保護層を積層した状態で、前記光学性積層体を打ち抜く請求項１ないし８のいずれか１項に記載の光学性積層体の製造方法。