JP2020053663A5 - - Google Patents

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本発明の一実施形態による静電チャックシステムは、電極部を含む静電チャックと、前記静電チャックの前記電極部に印加する電圧を制御するための電圧制御部とを含み、前記静電チャックに静電気力によって第1被吸着体が吸着され、かつ、前記静電チャックに静電気力によって前記第1被吸着体を介して第2被吸着体が吸着されているときに、前記電圧制御部は、互いに接触した前記第1被吸着体と前記第2吸着体とを前記静電チャックから共に分離させるための分離電圧を印加することを特徴とする。
本発明の一実施形態による被吸着体分離方法は、静電チャックの電極部から、当該電極部に吸着された被吸着体を分離する分離方法であって、前記静電チャックに静電気力によって第1被吸着体が吸着され、かつ、前記静電チャックに静電気力によって前記第1被吸着体を介して第2被吸着体が吸着されているときに、互いに接触した前記第1被吸着体と前記2被吸着体とを前記静電チャックから共に分離させるための分離電圧を印加する工程と、前記電圧を印加する工程の後に、前記第1被吸着体を支持する支持手段を移動させて、前記第1被吸着体を前記第2被吸着体から離隔させる工程とを含むことを特徴とする。

Claims (13)

  1. 電極部を含む静電チャックと、
    前記静電チャックの前記電極部に印加する電圧を制御するための電圧制御部と、
    を含み、
    前記静電チャックに静電気力によって第1被吸着体が吸着され、かつ、前記静電チャックに静電気力によって前記第1被吸着体を介して第2被吸着体が吸着されているときに、前記電圧制御部は、互いに接触した前記第1被吸着体と前記第2吸着体とを前記静電チャックから共に分離させるための分離電圧を印加する
    ことを特徴とする静電チャックシステム。
  2. 前記第1被吸着体は、絶縁性材料からなる基板であり、
    前記第2被吸着体は、金属性材料からなるマスクである
    ことを特徴とする請求項1に記載の静電チャックシステム。
  3. 前記電極部への前記分離電圧の印加の際に、前記第2被吸着体は接地された支持手段によって支持される
    ことを特徴とする請求項1または2に記載の静電チャックシステム。
  4. 前記分離電圧は、ゼロ(0)電圧、または前記第1被吸着体及び第2被吸着体を前記静電チャックに吸着させる時の吸着電圧とは逆極性の電圧である
    ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の静電チャックシステム。
  5. 前記静電チャックは、複数の電極部を有し、
    前記電圧制御部は、前記複数の電極部のそれぞれに対して独立に、前記分離電圧を印加する
    ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の静電チャックシステム。
  6. 前記電圧制御部は、前記複数の電極部のそれぞれへの前記分離電圧の印加時期を異ならせる
    ことを特徴とする請求項5に記載の静電チャックシステム。
  7. 前記電圧制御部は、前記複数の電極部のそれぞれに印加される前記電圧の大きさを異ならせる
    ことを特徴とする請求項5または6に記載の静電チャックシステム。
  8. 前記電圧制御部は、前記分離電圧を印加する際に、前記電極部に前記第1被吸着体を吸着させるとき、および、前記第1被吸着体を介して前記第2被吸着体を吸着させるときの吸着電圧が前記複数の電極部に印加される順序と同じ順序で、前記複数の電極部に順に前記分離電圧を印加する
    ことを特徴とする請求項5〜7のいずれか一項に記載の静電チャックシステム。
  9. 前記電圧制御部は、前記複数の電極部のそれぞれに印加される前記分離電圧の大きさの制御において、前記静電チャックに前記第1被吸着体を吸着させるとき、および、前記静電チャックに前記第1被吸着体を介して前記第2被吸着体を吸着させるときに、前記複数の電極部のうち前記吸着電圧が早く印加された電極部ほど、より大きい前記分離電圧を印加する
    ことを特徴とする請求項8に記載の静電チャックシステム。
  10. 基板にマスクを介して成膜を行うための成膜装置であって、
    第1被吸着体である基板と第2被吸着体であるマスクを吸着するための静電チャックシステムを含み、
    前記静電チャックシステムは、請求項1〜のいずれか一項に記載の静電チャックシステムである
    ことを特徴とする成膜装置。
  11. 静電チャックの電極部から、当該電極部に吸着された被吸着体を分離する分離方法であって、
    前記静電チャックに静電気力によって第1被吸着体が吸着され、かつ、前記静電チャックに静電気力によって前記第1被吸着体を介して第2被吸着体が吸着されているときに、互いに接触した前記第1被吸着体と前記2被吸着体とを前記静電チャックから共に分離させるための分離電圧を印加する工程と、
    前記分離電圧を印加する工程の後に、前記第1被吸着体を支持する支持手段を移動させて、前記第1被吸着体を前記第2被吸着体から離隔させる工程と、
    を含むことを特徴とする分離方法。
  12. 基板にマスクを介して蒸着材料を成膜する方法であって、
    真空容器内にマスクを搬入する工程と、
    真空容器内に基板を搬入する工程と、
    静電チャックの電極部に第1吸着電圧を印加して、前記基板を静電チャックに吸着する工程と、
    前記電極部に第2吸着電圧を印加して、前記静電チャックに前記基板を介して前記マスクを吸着する工程と、
    前記静電チャックに前記基板と前記マスクが吸着した状態で、蒸着材料を蒸発させ、前記マスクを介して前記基板に蒸着材料を成膜する工程と、
    請求項11に記載の分離方法を用いて、前記静電チャックから、第2被吸着体としての前記マスクと、第1被吸着体としての前記基板を分離する工程と
    を含むことを特徴とする成膜方法。
  13. 請求項12に記載の成膜方法を用いて、電子デバイスを製造する
    ことを特徴とする電子デバイスの製造方法。
JP2018241424A 2018-09-21 2018-12-25 静電チャックシステム、成膜装置、被吸着体分離方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法 Active JP7224172B2 (ja)

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