JP2019515093A

JP2019515093A - 帯電防止性熱可塑性成形材料

Info

Publication number: JP2019515093A
Application number: JP2018556478A
Authority: JP
Inventors: アンドレアス、ザイデル
Original assignee: Covestro Deutschland AG
Current assignee: Covestro Deutschland AG
Priority date: 2016-04-27
Filing date: 2017-04-25
Publication date: 2019-06-06
Also published as: CN109071930A; KR20180136962A; TW201809097A; MX2018013196A; BR112018071941A2; EP3448932B1; WO2017186663A1; CA3019651A1; EP3448932A1; CN109071930B; US20200325330A1; US11352494B2

Abstract

本発明は、Ａ）５０〜９０重量％の、芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステルカーボネート、および芳香族ポリエステルからなる群から選択される、少なくとも１種の代表例、Ｂ）５〜４０重量％の、ゴムに基づくグラフトポリマーまたはゴムに基づくグラフトポリマーとゴムを含まないビニル（コ）ポリマーの混合物、Ｃ）３〜２５重量％の、少なくとも１種のポリエーテルに基づくポリマー、またはポリエーテルブロックポリマーおよびポリエーテルに基づくポリウレタンからなる群から選択されるコポリマー、Ｄ）０．８〜９重量％の、少なくとも１種の二酸化チタンに基づく顔料、Ｅ）０〜２０重量％の、１種以上の追加の添加剤を含んでなる組成物、成形品を製造するための組成物の使用、および成形品自体に関する。また本発明は、ポリエーテルベースポリマーが付与され、かつ芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステルカーボネート、および芳香族ポリエステルからなる群から選択される少なくとも1種のポリマーを含む組成物の靭性および電気表面伝導率を改善するための、二酸化チタンに基づく顔料の使用を提供する。

Description

発明の背景

本発明は、芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステルカーボネート、および芳香族ポリエステルからなる群から選択される少なくとも１種のポリマーを含む、永久的に帯電防止性が付与された熱可塑性成形材料およびその組成物、成形品を製造するための成形材料の使用、ならびに成形品自体に関する。

本発明は、さらにポリエーテルベースポリマーが付与され、かつ芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステルカーボネート、および芳香族ポリエステルからなる群から選択される少なくとも１種のポリマーを含む組成物の靭性および電気表面伝導率を改善するための、二酸化チタンに基づく顔料の使用を提供する。

静電気帯電によって引き起こされる粉像の形成を伴う埃の蓄積は、成型プラスチック品における広く知られた問題である。高光沢成形品上の埃堆積は特に厄介であり、機能を制限する。

上述の問題は、帯電防止コーティング（例えば塗装による）の適用によって多くの場合解決される。関連の用途分野の例としては、情報技術および装飾的自動車内装部品のハウジング用途が挙げられる。特に、後者の用途分野では、一般に低温でさえも高い材料延性が成分のさらなる要件である。

下流のコーティングプロセスが回避される場合、成形材料は所望の機械特性を当然に所有しなければならないだけでなく、さらには要求される表面性質（高い電気消散的導電率／低い比表面積電気抵抗）も本質的に所有していなければならない。しかしながら、低温でさえも延性であり、かつ電気消散的導電率が高いことの所望の組み合わせは、先行技術の熱可塑性組成物では十分に実現されていないことが多い。

ポリカーボネートの組み合わせは、良好な加工性（高い溶融流動性）、卓越した機械特性、高い加熱たわみ耐性および難燃性を含む、それらの有利的な特性の組み合わせを理由に、記載の適用分野で頻繁に使用される。さらに、原則として永久的に帯電防止性が付与されたポリカーボネート組成物は知られているが、それに必要な添加剤の添加は一般に要求される特性に対して悪影響がある。

従って、十分に永久的に帯電防止性であるだけではなく、また低温靱性をも所有するポリカーボネート組成物の提供も、十分に解決されていない技術的問題である。

文献では、埃の蓄積を低減する熱可塑性物用の静電気防止剤が記載されている (例えば、Gachter, Muller, Plastic Additives, Hanser Verlag, Munich 1996, 749頁以下参照)。これらの静電気防止剤は、プラスチック成形材料の電気的表面抵抗を低減させるために、製造の間に形成され、かつ使用の間に摩擦を通じて形成される表面電荷がより良く放出される。したがって埃粒子はより少ない程度に静電気学に引きつけられる。

ポリエーテルアミド、ポリエステルアミドまたはポリエーテルエステルアミドは一般に静電気防止剤として説明され、これらの化合物はポリエステル組成物に永久的な帯電防止性の活性を付与することができる。それらの活性は、帯電防止性が付与される帯電防止−不混和ポリマー（antistat-immiscible polymer）中の静電気防止剤の三次元ネットワークの形成に基づく。ポリエーテルアミド、ポリエステルアミド、およびポリエーテルエステルアミドの比較的高い導電率のために、帯電防止性が付与されるポリマーの電気的表面および体積抵抗の瞬間的かつ永久的な低下がもたらされ、その発生は非常に低い大気湿度でさえも生じ、文献で同様に記載された長鎖スルホン酸の塩などの表面活性化合物の場合よりもはるかにそれに依存しない。

永久的に帯電防止性が付与されたポリカーボネート組成物は、例えばＵＳ６，７８４，２５７Ｂ２で開示されている。この出願では、８０℃〜１５０℃の間に融点がある、熱可塑性ポリマーとポリエーテル−ポリアミドブロックコポリマーを含む帯電防止性ポリマー組成物であって、ポリエーテルブロックがエチレンオキシド単位を含む帯電防止性ポリマー組成物が記載されている。

ＵＳ６，７０６，８５１Ｂ１には、熱可塑性ポリマーおよびポリエーテルエステルアミドブロックコポリマーを含む帯電防止性ポリマー組成物であって、ポリエーテルブロックがエチレンオキシド単位から本質的になる帯電防止性ポリマー組成物が開示されている。

ＵＳ６，９１３，８０４Ｂ２には、熱可塑性ポリマー、ならびにポリアミドおよびポリエーテルブロックを含み、イオン官能基（ionically-functional group）を一切含まないコポリマーと、イオン官能基を含む、ポリアミドおよびポリエーテルブロックを含むコポリマーとの混合物を含む帯電防止性ポリマー組成物が開示されている。

また上述の３つの特許はすべて、熱可塑性ポリマーがポリカーボネート、ＡＢＳまたはその混合物である組成物を開示している。

ＣＮ１０１９６７２７４Ａには、優れた機械特性および耐候性を有する、ポリカーボネー、ＡＢＳ樹脂、静電気防止剤、相溶化剤、酸化防止剤、光安定剤および他の添加剤を含む、永久に帯電防止性のポリカーボネート／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＰＣ／ＡＢＳ）組成物が開示されている。開示された静電気防止剤にはポリエーテルエステル、ポリエーテルエステルアミド、およびポリエーテルアミドが含まれる。

ＣＮ１０１７５９９７４Ａには、ポリカーボネート、バルク重合プロセスで製造された、４〜２５ｇ／１０分のメルトフロー指数を有するＡＢＳ樹脂、ポリマー静電気防止剤、相溶化剤、および場合により、例えば着色剤、フィラー、安定剤および滑剤を含む群から選択される追加の添加剤を含む、自動車内装用途のための、低臭気性および高靱性を有する帯電防止性ポリカーボネート組成物が開示されている。開示された静電気防止剤にはポリエーテルアミドが含まれている。

ＪＰ３６６３７０１Ｂ２には、ポリカーボネート、ビニルポリマーとゴム状ポリマー上にビニルモノマーをグラフトすることにより得られたグラフトポリマーを含むゴム変性加熱可塑性物、ならびにポリエーテルアミドを含む帯電防止性ポリカーボネート組成物が開示されている。

ＤＥ３５４４２９５Ａ１には、ハロゲン化されたコポリカーボネート、アクリレートゴムに基づくグラフトポリマー、熱可塑性コポリマー、テトラフルオロエチレンポリマー、アンチモンまたはビスマスの金属化合物、二酸化チタンおよび場合により低分子量の、有機ハロゲン化合物、安定剤、流動剤（flow agents）、静電気防止剤および／または離型剤を含む成形材料が開示されている。成形材料は、良好な難燃性、トラッキング耐性、熱弾力性および加工性の組み合わせを特色とする。

ＷＯ２０１２／０８４８４８Ａ１には、ポリカーボネートと、ゴム変性ビニル（コ）ポリマーと、ポリエーテルアミド、ポリエステルアミドおよびポリエーテルエステルアミドからなる群から選択される化合物と、特殊なブレンステッド酸と、場合により追加の添加剤を含む、改善された加熱たわみ耐性、低温靱性、加工安定性、応力破砕耐性および加水分解耐性を有する帯電防止性ポリカーボネート成形材料が開示されている。

可能な限り低い比表面積電気抵抗（十分に高い電気消散的導電率）および低温延性の改善された組み合わせを有する、芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステルカーボネートおよび芳香族ポリエステルからなる群から選択される少なくとも１種のポリマーを含む、永久的に帯電防止性の組成物を提供することが望ましかった。さらに、組成物は高い加熱たわみ耐性を示すべきである。このようにして組成物は、自動車内装における未塗装の装飾性部品に対する自動車産業の条件を満たすはずである。本発明に開示されるような組成物は、これまでに先行技術で記載されていない。

今般、
Ａ）５０〜９０重量％、好ましくは６０〜８０重量％、特に好ましくは６５〜７５重量％の、芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステルカーボネート、および芳香族ポリエステルからなる群から選択される少なくとも１種のポリマー、好ましくは芳香族ポリカーボネート、
Ｂ）５〜４０重量％、好ましくは１０〜３０重量％、特に好ましくは１５〜２５重量％の、ゴムに基づくグラフトポリマー、またはゴムに基づくグラフトポリマーとゴムを含まないビニル（コ）ポリマーの混合物、
Ｃ）３〜２５重量％、好ましく５〜１５重量％、特に好ましくは６〜１２重量％の、少なくとも１種のポリエーテルに基づくポリマー、またはポリエーテルブロックポリマーおよびポリエーテルに基づくポリウレタンからなる群から選択されるコポリマー、
Ｄ）０．８〜９重量％、好ましくは２〜８重量％、特に好ましくは３〜７重量％の、少なくとも１種の二酸化チタンに基づく顔料、
Ｅ）０〜２０重量％、好ましくは０．１〜１５重量％、より好ましくは０．２〜１０重量％の、１種以上の追加の添加剤
を含んでなる組成物が有利な特性を有していることが見出された。

好ましい実施態様では、成分ＣおよびＤは、各場合において重量％で、０．７〜１５、好ましくは１〜６、特に好ましくは１．１〜４、最も好ましくは１．２〜２．５のＣ／Ｄの比で使用される。

本発明のさらなる実施態様は、ポリエーテルブロックポリマーが付与され、かつ芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステルカーボネートおよび芳香族ポリエステルからなる群から選択される少なくとも１種のポリマーを含む組成物の靭性および表面導電性を改善するための二酸化チタンに基づく顔料の使用である。

本発明の特別の実施態様１〜３１を以下に列挙する。
１．
Ａ）５０〜９０重量％の、芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステルカーボネートおよび芳香族ポリエステルからなる群から選択される、少なくとも１種の代表例、
Ｂ）５〜４０重量％の、ゴムに基づくグラフトポリマーまたはゴムに基づくグラフトポリマーとゴムを含まないビニル（コ）ポリマーの混合物、
Ｃ）３〜２５重量％の、少なくとも１種のポリエーテルに基づくポリマー、またはポリエーテルブロックポリマーおよびポリエーテルに基づくポリウレタンからなる群から選択されるコポリマー、
Ｄ）０．８〜９重量％の、少なくとも１種の二酸化チタンに基づく顔料、
Ｅ）０〜２０重量％の、１種以上の追加の添加剤
を含んでなる組成物。

２．成分Ａが芳香族ポリカーボネートを含む、実施態様１による組成物。

３．成分Ａが芳香族ポリカーボネートである、実施態様１による組成物。

４．成分Ｂに使用されるグラフトポリマーが、
Ｂ．２ −５０℃未満のガラス転移温度を有する、グラフトポリマーに対して９５〜５重量％の１種以上のゴム弾性グラフト基質上に、
Ｂ．１グラフトポリマーに対して５〜９５重量％の少なくとも１種のビニルモノマー
を含む、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

５．グラフト基質Ｂ．２が純粋ブタジエンゴムである、実施態様４による組成物。

６．グラフト基質Ｂ．２がスチレン‐ブタジエンゴムブロックコポリマーゴムである、実施態様４による組成物。

７．成分Ｂが、成分Ｂ．１によるモノマーからなる、成分Ｂに対して少なくとも５重量％の割合での、ゴム基質に化学結合しておらず、かつゴム粒子状物質に含まれないビニル（コ）ポリマーを含む、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

８．成分Ｂが、成分Ｂ．１によるモノマーからなる、成分Ｂに対して少なくとも５０重量％の割合での、ゴム基質に化学結合しておらず、かつゴム粒子状物質に含まれないビニル（コ）ポリマーを含む、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

９．成分ＣおよびＤが１．１〜４の重量比Ｃ／Ｄで使用される、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

１０．成分ＣおよびＤが１．２〜２．５の重量比Ｃ／Ｄで使用される、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

１１．成分Ｃがポリエチレングリコールブロックおよびポリアミドブロックを含むブロックコポリマーである、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

１２．成分Ｃがポリエチレングリコールブロックおよびポリアミド１２ブロックからなるブロックコポリマーである、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

１３．成分Ｃが１０^１３Ω以下の比表面積電気抵抗を有する、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

１４．成分Ｃが１０^１１Ω以下の比表面積電気抵抗を有する、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

１５．成分Ｄが、少なくとも９５重量％程度のルチル修飾型（rutile modification）における二酸化チタンからなる、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

１６．成分Ｄが０．８〜８重量％の割合で使用される、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

１７．成分Ｄが２〜８重量％の割合で使用される、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

１８．成分Ｄが３〜７重量％の割合で使用される、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

１９．成分Ｄが０．８〜７重量％の割合で使用される、実施態様１〜１６のうちのいずれかによる組成物。

２０．成分Ｄが０．８〜５重量％の割合で使用される、実施態様１〜１６のうちのいずれかによる組成物。

２１．成分Ｄが０．８〜３重量％の割合で使用される、実施態様１〜１６のうちのいずれかによる組成物。

２２．成分Ｄが１．５〜５重量％の割合で使用される、実施態様１〜１６のうちのいずれかによる組成物。

２３．成分Ｄが１．５〜３重量％の割合で使用される、実施態様１〜１６のうちのいずれかによる組成物。

２４．成分Ｅとして、滑剤および離型剤、安定剤、流動促進剤、相溶化剤ならびに染料および成分Ｄとは異なる顔料からなる群から選択される、少なくとも１種の添加剤を含んでなる、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

２５．成分Ｅとして、成分の導電率を増加させる塩がさらに使用される、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

２６．成分Ｅとして、ビス（オキサラート）ホウ酸カリウムまたはビス（オキサラート）ホウ酸ナトリウムがさらに使用される、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

２７．成分Ａ）〜Ｅ）からなる、前述の実施態様のいずれかによる組成物。

２８．成形品を製造するための、実施態様１〜２７のいずれかによる組成物の使用。

２９．実施態様１〜２７いずれかによる組成物から製造された、成形品。

３０．ポリエーテルベースポリマーが付与され、かつ芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステルカーボネート、および芳香族ポリエステルからなる群から選択される少なくとも１種のポリマーを含んでなる組成物の靭性および電気表面伝導率を改善するための、二酸化チタンに基づく顔料の使用。

３１．実施態様１〜２７のいずれかによる組成物が使用される、実施態様３０による使用。

成分Ａ
使用可能な成分Ａには芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステルカーボネート、芳香族ポリエステル、または上記によるこれらの物質クラスの１種以上の複数の代表例の混合物が含まれている。

成分Ａは好ましくは芳香族ポリカーボネートを含む。

１種以上の芳香族ポリカーボネートが成分Ａとして使用される場合、特に好ましい。

本発明によれば好適である、成分Ａによる芳香族ポリカーボネートおよび／または芳香族炭酸ポリエステルは文献で知られているか、または文献から知られた方法によって製造することができる（芳香族ポリカーボネートの製造については、例として、Schnell, "Chemistry and Physics of Polycarbonates", Interscience Publishers, 1964ならびにＤＥ−ＡＳ（ドイツ国公開明細書）１４９５６２６、ＤＥ−Ａ２２３２８７７、ＤＥ−Ａ２７０３３７６、ＤＥ−Ａ２７１４５４４、ＤＥ−Ａ３０００６１０、ＤＥ−Ａ３８３２３９６を参照；芳香族炭酸ポリエステルの製造については、例としてＤＥ−Ａ３０７７９３４を参照）。

芳香族ポリカーボネートは、例として、界面法による、場合により連鎖停止剤を使用した（例えばモノフェノール）、場合により三官能性以上の分岐剤（例えばトリフェノール、テトラフェノール）を使用した、ジフェノールの、ハロゲン化カルボニル、好ましくはホスゲンとの、および／または芳香族ジハロゲン化ジアシル、好ましくはベンゼンジカルボン酸のジハロゲン化物との反応によって製造される。ジフェノールの、例えば炭酸ジフェニルとの反応による溶融重合法による製造も同様に可能である。

芳香族ポリカーボネートおよび／または芳香族炭酸ポリエステルを製造するためのジフェノールは、好ましくは式（Ｉ）：
［式中、
Ａは、単結合、Ｃ_１〜Ｃ_５−アルキレン、Ｃ_２〜Ｃ_５−アルキリデン、Ｃ_５〜Ｃ_６−シクロアルキリデン、−Ｏ−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、Ｃ_６〜Ｃ_１２−アリーレンであり、場合によりヘテロ原子を含む芳香環が縮合されていてもよい］
のものであるか、あるいは式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）の部分である：
［式中、
Ｂは各場合においてＣ_１〜Ｃ_１２−アルキル、好ましくはメチル、ハロゲン、好ましくは塩素および／または臭素であり、
ｘは、各々独立して０、１または２であり、
ｐは１または０であり、かつ
Ｒ^５およびＲ^６は、各Ｘ^１に対して独立に選択することができ、かつ各々独立して水素またはＣ_１〜Ｃ_６−アルキル、好ましくは水素、メチル、またはエチルであり、
Ｘ^１は炭素を表わし、かつ
ｍは、４〜７、好ましく４または５の整数を表わすが、ただし少なくとも１つの原子Ｘ^１上では、Ｒ^５およびＲ^６が同時にアルキルである］。

好ましいジフェノールはヒドロキノン、レゾルシノール、ジヒドロキシジフェノール、ビス（ヒドロキシフェニル）−Ｃ_１−Ｃ_５−アルカン、ビス（ヒドロキシフェニル）−Ｃ_５−Ｃ_６−シクロアルカン、ビス（ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（ヒドロキシフェニル）スルホンおよびα、α−ビス（ヒドロキシフェニル）ジイソプロピルベンゼン、ならびにそれらの環臭素化および／または環塩素化誘導体である。

特に好ましいジフェノールは、４，４’−ジオキシビフェニル、ビスフェノールＡ、２，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、４，４’−ジオキシビフェニル硫化物、４，４’−ジオキシビフェニルスルホン、ならびにそれらのジ−およびテトラ臭素化または塩素化誘導体、例えば２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、または２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンである。２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）が特に好ましい。

ジフェノールは、個々にまたは任意の所望の混合物の形態で使用してもよい。ジフェノールは文献から知られているか、または文献から知られた方法により得られる。

熱可塑性芳香族ポリカーボネートを製造するために好適な連鎖停止剤の例として、フェノール、ｐ−クロロフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールまたは２，４，６−トリブロモフェノール、同様に、ＤＥ−Ａ２８４２００５による４−［２−（２，４，４−トリメチルペンチル）］フェノール、４−（１，３−テトラメチルブチル）フェノールなどの長鎖アルキルフェノールあるいは、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−イソオクチルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−オクチルフェノール、ｐ−ドデシルフェノールおよび２−（３，５−ジメチルヘプチル）フェノールおよび４−（３，５−ジメチルヘプチル）フェノールなどの、アルキル置換基に合計８〜２０個の炭素原子を有している、モノアルキルフェノールまたはジアルキルフェノールが挙げられる。使用する連鎖停止剤の量は、各場合において使用するジフェノールの合計モルに対して通常０．５ｍｏｌ％〜１０ｍｏｌ％の間である。

熱可塑性芳香族ポリカーボネートは、知られた方法で分岐していてもよく、好ましくは使用されるジフェノールの合計に対して０．０５〜２．０ｍｏｌ％の三官能性以上の化合物（例えば３つの以上のフェノール基を有するもの）の取り込みによって分岐していてもよい。

ホモポリカーボネートおよびコポリカーボネートの両方が好適である。また成分Ａによる本発明のコポリカーボネートの製造では、使用されるジフェノールの合計量に対して１〜２５重量％、好ましくは２．５〜２５重量％のヒドロキシアリールオキシ末端基を有するポリジオルガノシロキサンを使用してもよい。これらは知られており（ＵＳ３４１９６３４）、文献から知られた方法によって製造することができる。ポリジオルガノシロキサンを含むコポリカーボネートの製造はＤＥ−Ａ３３３４７８２に記載されている。

好ましいポリカーボネートは、ビスフェノールＡホモポリカーボネートだけでなく、ジフェノールの合計モルに対して、最大１５ｍｏｌ％の好ましいまたは特に好ましいと言及された他のジフェノール、特に２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンを含むビスフェノールＡのコポリカーボネートである。

芳香族炭酸ポリエステルを製造するための芳香族ジハロゲン化ジアシルは、好ましくはイソフタル酸の、テレフタル酸の、ジフェニルエーテル４，４’−ジカルボン酸の、およびナフタレン−２，６−ジカルボン酸のジハロゲン化ジアシルである。

特に好ましいのは、１：２０〜２０：１の比での、イソフタル酸の、およびテレフタル酸のジハロゲン化ジアシルの混合物である。

炭酸ポリエステルの製造では、さらに二官能性酸誘導体として、ハロゲン化カルボニル、好ましくはホスゲンが併用される。

芳香族炭酸ポリエステルの製造に使用することができる連鎖停止剤は、上述のモノフェノールだけでなくこれらのクロロ炭酸エステルおよび芳香族モノカルボン酸の塩化アシルであり、これらはＣ_１〜Ｃ_２２−アルキル基によって、またはハロゲン原子によって置換されていてもよく；またここでは脂肪族Ｃ_２〜Ｃ_２２−塩化モノアシルを連鎖停止剤として使用することができる。

各場合での連鎖停止剤の量は、フェノール系連鎖停止剤の場合のジフェノールのモル、および塩化モノアシル連鎖停止剤の場合のジハロゲン化ジアシルのモルに対して、０．１〜１０ｍｏｌ％である。

また芳香族炭酸ポリエステルは芳香族ヒドロキシカルボン酸を組込んでもよい。

芳香族炭酸ポリエステルは直鎖状でもよいし、または知られたやり方で分岐されていてもよい；（これに関しては、ＤＥ−Ａ２９４００２４およびＤＥ−Ａ３００７９３４を参照のこと）。

使用することができる分岐剤の例としては、３官能性以上の塩化アシルであり、例えば０．０１〜１．０ｍｏｌ％（使用されるジハロゲン化ジアシルに対して）の量での、トリメソイルトリクロリド（trimesoyl trichloride）、シアヌロイルトリクロリド（cyanuroyl trichloride）、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボニルテトラクロリド、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボニルテトラクロリドまたはピロメリトイルテトラクロリド（pyromellitoyl tetrachloride）、あるいは使用されるジフェノールに対して０．０１〜１．０ｍｏｌ％の量での、フロログルシノール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ヘプト−２−エン、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，３，５−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリ（４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリ（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス［４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プロパン、２，４−ビス（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノール、テトラ（４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン、テトラ（４−［４−ヒドロキシフェニルイソプロピル］フェノキシ）メタン、１，４−ビス［４，４’−ジヒドロキシトリフェニル）メチル］ベンゼンなどの、トリ−またはポリ官能性フェノールである。フェノール系分岐剤はジフェノールと最初の充填として使用することができ、塩化アシル分岐剤はアシルジクロリドと一緒に導入してもよい。

所望に応じて、熱可塑性芳香族ポリエステルカーボネート中のカーボネート構造単位の割合は変更してもよい。カーボネート基の割合は、エステル基とカーボネート基の合計に対して、好ましくは最大１００ｍｏｌ％、特に好ましくは最大８０ｍｏｌ％、特に好ましくは最大５０ｍｏｌ％である。芳香族炭酸ポリエステルのエステル画分、同様にそのカーボネート画分は、ブロックの形態をとることができ、または重縮合物中にランダム分布を有することができる。

好ましい実施態様では、成分Ａとして好適な芳香族ポリカーボネートまたはポリエステルカーボネートは、１５０００ｇ／ｍｏｌ〜５００００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは２２０００ｇ／ｍｏｌ〜３５０００ｇ／ｍｏｌ、特に２４０００〜３２０００ｇ／ｍｏｌの平均モル質量Ｍｗ（標準としてのポリカーボネートで、塩化メチレン中のゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により決定）を有する。

好ましい実施態様では、考慮される芳香族ポリエステルはポリアルキレンテレフタレートである。特に好ましい実施態様では、ジメチルエステルまたは無水物などの芳香族ジカルボン酸の反応物またはそれらの反応性誘導体、および脂肪族の、脂環式の、または芳香脂肪族のジオール、ならびにこれらの反応生成物の混合物がここで関係している。

特に好ましい芳香族ポリアルキレンテレフタレートは、ジカルボン酸成分に対して、少なくとも８０重量％、好ましくは少なくとも９０重量％のテレフタル酸基、およびジオール成分に対して、少なくとも８０重量％、好ましくは少なくとも９０重量％のエチレングリコールおよび／またはブタン−１，４−ジオール基を含む。

好ましい芳香族ポリアルキレンテレフタレートは、テレフタル酸基だけでなく、最大２０ｍｏｌ％、好ましくは最大１０ｍｏｌ％の、８〜１４個の炭素原子を有する他の芳香族または脂環式のジカルボン酸の基、または４〜１２個の炭素原子を有する脂肪族ジカルボン酸の基（例えばフタル酸、イソフタル酸、ナフタレン−２，６−ジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、シクロヘキサンジ酢酸の基）を含んでいてもよい。

好ましい芳香族ポリアルキレンテレフタレートは、エチレングリコール／ブタン−１，４−ジオール基だけでなく、最大２０ｍｏｌ％、好ましくは最大１０ｍｏｌ％の、３〜１２個の炭素原子を有する他の脂肪族ジオール、または６〜２１個の炭素原子を有する脂環式ジオール（例えばプロパン−１，３−ジオール、２−エチルプロパン−１，３−ジオール、ネオペンチルグリコール、ペンタン−１，５−ジオール、ヘキサン−１，６−ジオール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、３−エチルペンタン−２，４−ジオール、２−メチルペンタン−２，４−ジオール、２，２，４−トリメチルペンタン−１，３−ジオール、２−エチルヘキサン−１，３−ジオール、２，２−ジエチルプロパン−１，３−ジオール、ヘキサン−２，５−ジオール、１，４−ジ（β−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、２，４−ジヒドロキシ−１，１，３，３−テトラメチルシクロブタン、２，２−ビス（４−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパンおよび２，２−ビス（４−ヒドロキシプロポキシフェニル）プロパンの基（ＤＥ−Ａ２４０７６７４、２４０７７７６、２７１５９３２））を含んでいてもよい。

芳香族ポリアルキレンテレフタレートは、例えばＤＥ−Ａ１９００２７０およびＵＳ−Ａ３６９２７４４による比較的少量の三水素性または四水素性のアルコール、あるいは三塩基性または四塩基性のカルボン酸の取り込みによって分岐されてもよい。好ましい分岐剤の例はトリメシン酸、トリメリト酸、トリメチロールエタンおよびトリメチロールプロパン、およびペンタエリスリトールである。

特に好ましいのは、テレフタル酸およびその反応性誘導体（例えばそのジアルキルエステル）から排他的に調製された芳香族ポリアルキレンテレフタレートおよびエチレングリコールおよび／またはブタン−１，４−ジオール、ならびにこれらのポリアルキレンテレフタレートの混合物である。

好ましい芳香族ポリアルキレンテレフタレートの混合物は、１〜５０重量％、好ましくは１〜３０重量％のポリエチレンテレフタレート、ならびに５０〜９９重量％、好ましくは７０〜９９重量％のポリブチレンテレフタレートを含む。

好ましく使用される芳香族ポリアルキレンテレフタレートは、ウッベローデ粘度計で、２５℃にて、ＩＳＯ３０７に従い、０．０５ｇ／ｍｌの濃度で、フェノール／ｏ−ジクロロベンゼン（１：１重量部）中で測定された、０．４〜１．５ｄｌ／ｇ、好ましくは０．５〜１．２ｄｌ／ｇの粘度数を有する。

芳香族ポリアルキレンテレフタレートは知られた方法によって調製することができる(例えば、Kunststoff-Handbuch [Plastics Handbook],第VIII巻, p. 695 以下, Carl-Hanser-Verlag, Munich 1973)。

成分Ｂ
成分Ｂは、ゴムに基づくグラフトポリマー、またはゴムに基づくグラフトポリマーとゴムを含まないビニル（コ）ポリマーとの混合物から選択される。

本発明に従った成分Ｂに使用されるグラフトポリマーは、
Ｂ．２ −５０℃未満、より好ましくは−６０℃未満、特に好ましくは−７０℃未満のガラス転移温度を有する、グラフトポリマーに対して９５〜５重量％、好ましくは８０〜８重量％、特に７０〜９重量％の１種以上のゴム弾性グラフト基質上に、
Ｂ．１グラフトポリマーに対して５〜９５重量％、好ましくは２０〜９２重量％、特に３０〜９１重量％の少なくとも１種のビニルモノマー
を含む。

明確に異なる記載がない限り、本発明においてガラス転移温度は、中点温度（接線方法）としてのＴｇの決定も併せて、１０Ｋ／分の加熱速度にて、ＤＩＮＥＮ６１００６（１９９４年版）に従い、動的走査熱量測定（ＤＳＣ）によってすべての成分に対して決定される。

グラフト基質Ｂ．２は一般に０．０５〜１０．００μｍ、好ましくは０．１〜５．０μｍ、特に好ましくは０．２〜１．５μｍのメジアン粒径（Ｄ５０）を有する。

メジアン粒径Ｄ５０は、５０重量％の粒子がそれより上で、５０重量％の粒子がそれより下である直径である。明確に異なる記載がない限り、本発明において、それは超遠心機測定を用いてすべての成分に対して決定される(W. Scholtan, H. Lange, Kolloid, Z. und Z. Polymere [Polymers] 250 (1972), 782-l796）。

モノマーＢ．１は好ましくは、
Ｂ．１．１各場合においてＢ．１．１とＢ．１．２の合計に対して、６５〜８５重量％、特に好ましくは７０〜８０重量％、より好ましくは７４〜７８重量％の、ビニル芳香族および／または環置換ビニル芳香族（スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロスチレンなど）、および／またはメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなどの（メタ）クリル酸（Ｃ１−Ｃ８）−アルキル、および
Ｂ．１．２各場合においてＢ．１．１とＢ．１．２の合計に対して、１５〜３５重量％、特に好ましくは２０〜３０重量％、より好ましくは２２〜２６重量％の、シアン化ビニル（アクリロニトリルおよびメタクリロニトリルなどの不飽和ニトリル）、および／またはメタクリル酸メチルなどの（メタ）クリル酸（Ｃ１−Ｃ８）−アルキル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、および／または不飽和カルボン酸の誘導体（例えば無水物およびイミド）、例えば無水マレイン酸
の混合物である。

好ましいモノマーＢ．１．１は、モノマーであるスチレン、α−メチルスチレンおよびメタクリル酸メチルの少なくとも１種から選択され；好ましいモノマーＢ．１．２は、モノマーであるアクリロニトリル、無水マレイン酸およびメタクリル酸メチルの少なくとも１種から選択される。特に好ましいモノマーはＢ．１．１スチレンおよびＢ．１．２アクリロニトリルである。あるいは、好ましいモノマーはＢ．１．１メタクリル酸メチルおよびＢ．１．２メタクリル酸メチルである。

グラフトポリマーの好適なグラフト基質Ｂ．２には、例えば、ジエン系ゴム、ＥＰ（Ｄ）Ｍゴム、即ちエチレン／プロピレンおよび場合によりジエン、アクリレート、ポリウレタン、シリコーン、クロロプレン、エチレン／酢酸ビニル、同様にアクリレート−シリコーン複合ゴムに基づくものが含まれる。

好ましいグラフト基質Ｂ．１．２は、好ましくはブタジエンまたはジエンのコポリマーを含む、好ましくはブタジエンおよび追加の共重合可能なビニルモノマー（例えばＢ．１．１とＢ．１．２による）を含むジエンゴム、あるいは上述の成分の１種以上の混合物である。

特に好ましいグラフト基質Ｂ．２は純粋ポリブタジエンゴムである。さらに好ましい実施態様では、Ｂ．２はスチレン‐ブタジエンゴム、特に好ましくはスチレン‐ブタジエンブロックコポリマーゴムである。

グラフト基質Ｂ．２のゲル画分は、各場合にＢ．２に対して、トルエン中の不溶性画分として測定して、少なくとも３０重量％、好ましくは少なくとも４０重量％、特に少なくとも６０重量％である。

成分Ｂ中のグラフトポリマーのグラフト基質Ｂ．２／のゲル含量は、これらの溶媒において不溶性含有物として、好適な溶媒中で２５℃にて決定される（M. Hoffmann, H. Kromer, R. Kuhn, Polymeranalytik I und II, Georg Thieme-Verlag, Stuttgart 1977）。

成分Ｂによる好適なポリマーは、例えばＤＥ−ＯＳ２０３５３９０（＝ＵＳＰＳ３６４４５７４）またはＤＥ−ＯＳ２２４８２４２（＝ＧＢ−ＰＳ１４０９２７５）において、またはUllmanns, Enzyklopadie der Technischen Chemie, Vol. 19 (1980), p. 280以下において記載された、ＡＢＳまたはＭＢＳのポリマーである。

成分Ｂ中のグラフトコポリマーは、ラジカル重合によって、例えば、乳化、懸濁液、溶液またはバルク重合によって製造される。異なるプロセスで製造されたグラフトポリマーの混合物を成分Ｂとして使用してもよい。

グラフトポリマーＢが乳化重合で製造される場合、それらは、
Ｂ．２ −５０℃未満、より好ましくは−６０℃未満、特に好ましくは−７０℃未満のガラス転移温度を有する、グラフトポリマーに対して、９５〜２５重量％、好ましくは８０〜４０重量％、特に好ましくは７５〜５０重量％の、１種以上のゴム弾性グラフト基質上に、
Ｂ．１グラフトポリマーに対して、５〜７５重量％、好ましくは２０〜６０重量％、特に好ましくは２５〜５０重量％の、少なくとも１種のビニルモノマー
を含む。

乳化重合において製造されたグラフトポリマーＢのグラフト基質Ｂ．２は、０．０５〜２．００μｍ、好ましくは０．１〜１．０μｍ、より好ましくは０．２〜０．５μｍのメジアン粒径（Ｄ５０）を有している。

乳化重合において製造されたグラフトポリマーＢには、好ましくは少なくとも３０重量％、特に好ましくは少なくとも６０重量％、より好ましくは少なくとも８０重量％の、溶媒としてのアセトン中で測定したゲル含量を有する。

グラフトポリマーＢが懸濁液、溶液またはバルク重合で製造される場合、それらは、
Ｂ．２ −５０℃未満、より好ましくは−６０℃未満、特に好ましくは−７０℃未満のガラス転移温度を有する、グラフトポリマーに対して、２０〜５重量％、好ましくは１６〜８重量％、特に好ましくは１３〜９重量％の、１種以上のゴム弾性グラフト基質上に、
Ｂ．１グラフトポリマーに対して、８０〜９５重量％、好ましくは８４〜９２重量％、特に好ましくは８７〜９１重量％の、少なくとも１種のビニルモノマー
を含む。

懸濁液、溶液またはバルク重合で製造されたグラフトポリマーＢのグラフト基質Ｂ．２は、０．３〜１０．００μｍ、好ましくは０．４〜５．０μｍ、より好ましくは０．５〜１．５μｍのメジアン粒径（Ｄ５０）を有している。

懸濁液、溶液またはバルク重合で製造されたグラフトポリマーＢは、好ましくは１０〜５０重量％の、特に好ましくは１５〜４０重量％の、より好ましくは１８〜３０重量％の、溶媒としてのアセトン中で測定したゲル含量を有する。

乳化重合法で製造された特に好適なグラフトポリマーは、例えばＵＳＰ４９３７２８５による、有機ヒドロペルオキシドおよびアスコルビン酸からなる開始剤系での、レドックス開始による乳化重合法で製造されたＡＢＳ樹脂である。

乳化重合法で製造されたさらに特に好適なグラフトポリマーはコアシェル構造を有するＭＢＳ重合調整剤である。

成分Ｂは、Ｂ．１によるモノマーからなる、遊離の（即ち、ゴム基質に化学結合していない、ゴム粒子に含まれない）ビニル（コ）ポリマーを含む。これは、製造方法に起因するグラフトポリマーの重合において成分Ｂ中で形成されてもよく、あるいは重合させて別々に成分Ｂと混合してもよい。同様に、遊離ビニル（コ）ポリマーの一部を、製造方法によりグラフトポリマー自体から発生させることも可能であり、また別の一部を重合させて別々に成分Ｂと混合することも可能である。アセトン可溶性比として測定される、成分Ｂ中の遊離ビニル（コ）ポリマー（由来とは無関係）の割合は、成分Ｂに対して、好ましくは少なくとも５重量％、特に好ましくは少なくとも３０重量％、より好ましくは少なくとも５０重量％である。

この遊離ビニル（コ）ポリマーは成分Ｂによるゴム変性ビニルコポリマー中に、３０〜２５０ｋｇ／ｍｏｌ、好ましくは７０〜２００ｋｇ／ｍｏｌ、特に９０〜１８０ｋｇ／ｍｏｌの平均分子量Ｍｗを有する。

本発明の文脈では、成分Ｂ中の遊離ビニル（コ）ポリマーの平均分子量Ｍｗは、ポリスチレン標準に対してのテトラヒドロフラン中でのゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定される。

成分Ｃ
成分Ｃは、ポリエーテルに基づくポリマーまたはポリエーテルブロックポリマーおよびポリエーテルに基づくポリウレタンからなる群から選択されるコポリマーである。

成分Ｃは好ましくはポリエーテルブロックポリマーである。

ポリエーテルブロックポリマーの例には、ポリエーテルブロックと、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリエステルおよびポリアクリレートからなる群の少なくとも１つの代表から選択されるポリマーブロックとを含むブロックコポリマーが挙げられる。好ましいのは、ポリエーテルブロックアミド（ＰＥＢＡ）、ポリエステルブロックアミド、およびポリエーテルエステルブロックアミド、ならびにこれらのポリマーの混合物である。ポリエーテルブロックアミド（ＰＥＢＡ）が特に好ましい。

これらのブロックコポリマーは、ブロックコポリマーに対して、好ましくは１０〜９０重量％、特に好ましくは２０〜８０重量％、より好ましくは３０〜７０重量％のポリエーテルブロックを含む。

ブロックコポリマー中のポリエーテルブロック画分は、好ましくは少なくとも５０重量％程度、特に好ましくは少なくとも８０重量％程度、より好ましくは少なくとも９０重量％程度のエチレングリコール単位からなる。最も好ましい実施態様では、ポリエーテルブロックはポリエチレングリコールである。

成分Ｃで使用されるポリエーテルブロックアミドは、好ましくはポリアミド配列の熱可塑性ハードセグメント、およびエステルまたはアミド基のいずれかによって互いに結合しているポリエーテル配列のエラストマー性ソフトセグメントからなるポリエーテルブロックアミド（ＰＥＢＡ）である。そのようなポリエーテルブロックアミドは、末端が官能化された、好ましくは、末端がカルボキシレートで官能化されたオリゴアミドと、二官能性オリゴエーテル、好ましくは、水酸末端基またはアミノ末端基を有するオリゴエーテルを結合させることによって得られる。ポリエーテルブロックアミド（ＰＥＢＡ）中で使用されるポリアミドは好ましくはポリアミド１２である。

ポリエーテルブロックアミド（ＰＥＢＡ）は、特に好ましくはポリエチレングリコールとポリアミド１２ブロックからなる。

好ましい実施態様において成分Ｃは、ポリエーテルに基づくポリマーとして、ブロックコポリマーに対して、１０〜９０重量％程度、特に好ましくは２０〜８０重量％、より好ましくは３０〜７０重量％のポリエチレングリコールブロック、およびブロックコポリマーに対して、１０〜９０重量％程度、特に好ましくは２０〜８０重量％、より好ましくは３０〜７０重量％のポリアミド１２のブロックコポリマーからなるポリエーテルブロックポリマーを含む。

成分Ｃで使用されるポリエーテルブロックポリマーは、文学から知られていて、例えば、ＵＳ４８７１８０４（Ｄａｉｃｅｌ）、ＥＰ７３０００５（ＧｅｎｅｒａｌＥｌｅｃｔｒｉｃ）、ＥＰ６１３９１９（ＳａｎｙｏＫａｓａｉ）、ＥＰ１０４６６７５（Ａｒｋｅｍａ）、ＥＰ１１５５０６５（Ａｒｋｅｍａ）、ＥＰ１２６２５２７（Ａｒｋｅｍａ）およびＪＰ０９１３７０５３（Ａｓａｈｉ）において開示されている。

成分Ｃは、好ましくは１０^１３Ω以下、特に好ましくは１０^１２Ω以下、より好ましくは１０^１１Ω以下の、ＩＥＣ６００９３（１９９３年版）に従い測定された比表面積電気抵抗を有する。

例えば、成分ＣとしてＰｅｂａｘ^ＴＭＭＶ１０７４ＳＰ０１（Ａｒｋｅｍａ、フランス）が好適である。

成分Ｄ
二酸化チタンに基づく１種以上の顔料が、成分Ｄとして使用される。

天然由来の顔料、合成により製造された顔料、または変性された天然由来の顔料あるいはそれらの混合物が考慮される。顔料は、好ましくはルチル型、アナタースまたは板チタン石から選択される結晶構造修飾を有する。好ましい修飾はルチル型である。

二酸化チタンに基づく本発明の顔料は、３．６〜４．４ｇ／ｃｍ^３、好ましくは３．８〜４．３ｇ／ｃｍ^３、特に好ましくは４．０〜４．２ｇ／ｃｍ^３の密度（ＤＩＮＥＮＩＳＯ７８７−１０による）を有している。

顔料は、イルメナイト、ルチル鉱石、またはＴｉＯ_２スラグなどの天然原料から、硫酸塩法または塩化物法によって既知の様式で抽出してもよい。

顔料は、好ましくはアルミニウムおよび／またはポリシロキサン化合物に基づく、無機および／または有機の表面修飾を有していてもよい。二酸化チタンの割合（ＤＩＮＥＮＩＳＯ５９１による）は、好ましくは９０重量％未満、特に好ましくは９２重量％未満、より好ましくは９５重量％未満である。

好ましい実施態様において、顔料は、５〜５０ｇ／１００ｇの顔料、より好ましくは１０〜２５ｇ／１００ｇの顔料、特に好ましくは１２〜１８ｇ／１００ｇの顔料の油状物吸収率（ＩＳＯ７８７−５による）を有している。

成分Ｅ
組成物は成分Ｅとして好ましくは、難燃剤（例えば有機リンまたはハロゲン化合物、特にビスフェノールＡに基づくオリゴホスフェート）、滴下防止剤（anti-drip agents）（例えばフッ素化ポリオレフィン、シリコーンおよびアラミド繊維の物質クラスの化合物）、難燃相乗剤（例えばナノスケールの金属酸化物）、煙抑制剤（例えばホウ酸亜鉛）、滑剤および離型剤（例えばテトラステアリン酸ペンタエリスリトール）、核剤、成分Ｃとは異なる追加の静電気防止剤および導電率添加剤、成分Ｃの導電率を増加させる化合物（塩、酸またはアイオノマーなど）、および安定剤（例えば加水分解、熱老化、エステル交換反応の安定剤、紫外線安定剤および酸／塩基消光剤）、流動促進剤、相溶化剤（例えばメタクリル酸ポリメチル）、コアシェル構造のない衝撃改質剤、添加剤、抗菌性添加剤（例えば銀または銀塩）、傷防止添加剤（scratchproofing additives）（例えばシリコーン油）、ＩＲ吸収材、蛍光増白剤、蛍光添加剤、成分Ａ〜Ｃとは異なる追加のポリマー成分（例えば官能性ブレンドパートナー）、染料および成分Ｄとは異なる顔料、ならびにフィラーおよび補強剤（例えば炭素繊維、滑石、マイカ、カオリン、ＣａＣＯ_３）からなる群から選択される１種以上の追加の添加剤を含んでいてもよい。

使用される、成分Ｃの導電率を改善させる塩は好ましくはホウ素含有塩である。

ホウ素含有塩は好ましくは、−ＣＯＯＨおよび−ＯＨから選択される少なくとも２つの反応性基を有するＣ２〜Ｃ８脂肪族または芳香族成分からなる群から選択される、二座配位子を含むホウ素中心陰イオン錯体の、少なくとも１種のアルカリ金属塩である。

特に好ましい実施態様では、ホウ素含有塩は、ビス（オキサラート）ホウ酸アニオン、特に好ましくはビス（オキサラート）ホウ酸カリウムまたはビス（オキサラート）ホウ酸ナトリウムのアルカリ金属塩である。

塩は、各場合に成分Ｃに対して、好ましくは０．２〜１０重量％、より好ましくは０．４〜４．０重量％、最も好ましくは１．０〜３．０重量％の割合で使用される。

さらなる実施態様において、成分Ｃは、塩および／または１種以上のさらなる成分（好ましくはポリマー成分）と予め混合され、所望によりプレ化合物へと処理されて、本発明による成形材料を製造するためのこのような混合物またはプレ化合物として使用される。

したがって、本発明はさらに熱可塑性成形材料の製造方法であって、第１工程において、ポリエーテルブロックポリマーおよびポリエーテルに基づくポリウレタンが、塩、好ましくはホウ素塩、特に好ましくはビス（オキサラート）ホウ酸カリウム、ビス（オキサラート）ホウ酸ナトリウム、および／または１種以上の追加の好ましくはポリマー成分と予め混合され、場合によりプレ化合物へと処理される、製造方法を提供する。本発明による方法の第２工程では、その後工程１からの混合物またはプレ化合物は成分Ａ、Ｂ、Ｄおよび場合によりＥと混合させ、続けて溶融化合および溶融押出に供する。

好ましい実施態様において、組成物は、難燃剤、滴下防止剤、難燃相乗剤および煙抑制剤を含まない。

同様に好ましい実施態様において、組成物は、フィラーおよび補強剤を含まない。

特に好ましい実施態様において、組成物は、難燃剤、滴下防止剤、難燃相乗剤、煙抑制剤、およびフィラーおよび補強剤を含まない。

好ましい実施態様において、組成物は、滑剤および離型剤、安定剤、流動促進剤、相溶化剤、ならびに染料および成分Dとは異なる顔料からなる群から選択される、少なくとも1種のポリマー添加剤を含む。

成形材料および成形品の製造
本発明の熱可塑性成形材料は、例えば、それぞれの成分を混合し、得られた混合物を、好ましくは２００℃〜３２０℃、特に好ましくは２４０℃〜３００℃にて、例えば、知られた様式で、内部混練機、押出機および二軸スクリューシステムなどの従来の装置内にて溶融化合および溶融押出しを行うことによって製造し得る。

個々の成分の混合は、連続的にまたは同時に、知られた様式で、約20℃(室温)またはより高温で実行し得る。

また、本発明は、本発明による組成物の製造方法も提供する。

本発明による成形材料は任意の種類の成型品を製造するために使用してもよい。これらは、例えば射出成形、押出しまたは吹込み成形プロセスによって製造し得る。別の処理形態は、前もって製造したシートまたはフィルムからの深絞りを行うことによる成形品の製造である。

そのような成形品の例は、フィルム、プロファイル、任意の種類のハウジング部品、例えば、ジューサー、コーヒーマシーン、ミキサーなどの家電機器用のもの;モニター、フラットスクリーン、ノート型パソコン、印刷機、コピー機などの事務機器用のもの;シート、パイプ、電気設備ダクト、窓、扉、および建設部門用の他のプロファイル(内装（internal fitout）および外部用途)、同様にスイッチ、プラグおよびソケットなどの電気および電子部品、および市販の自動車、特に自動車分野のための部品である。また本発明による組成物は次の成形品または成形体（moulded articles or mouldings）: 鉄道車両、船舶、航空機、バス、および他の自動車の内装用の部品、自動車用の車体修理部品、マイクロ変圧器を含む電気機器のハウジング、情報の処理および伝送用の機器のハウジング、医療機器用のハウジングおよびクラッディング、マッサージ機器およびそれ用のハウジング、児童用玩具車両、シート状の壁部材（wall element）、安全機器用のハウジング、断熱性輸送用コンテナ、公衆衛生および浴用部品のための成形体、換気開口用の保護グリル、庭用部品のためのハウジングを製造するためにも好適である。

本発明による成形材料は、埃を引きつける傾向が少ない、永久的に帯電防止性の成形体、特に好ましくは自動車内装におけるコーティングされていない装飾性部品に特に好適である。

また、本発明は、想定されかつ請求された組成物の、成形品を製造するための使用、およびこれらの組成物のうちの1種を含む成形品自体に関する。

成分Ａ：
３００００ｇ／ｍｏｌの平均モル質量ＭＷが（ＢＰＡ−ＰＣ標準に対しての塩化メチレン中ＧＰＣにより決定）を有するビスフェノールＡに基づく直鎖状ポリカーボネート。

成分Ｂ：
スチレン−アクリロニトリルコポリマーおよびスチレン−アクリロニトリル−コポリマーマトリックスの含有物を有するポリブタジエン含有ゴム粒子の分散相を含む、バルク重合プロセスにおいて製造されたアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）ポリマーであって、２３：１０：６７重量％のＡ：Ｂ：Ｓ比および２０重量％のアセトン中に不溶性である画分として決定されたゲル含量を有する、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）ポリマー。成分Ｂ１中の、遊離（即ち、アセトン可溶性）の、スチレン−アクリロニトリルコポリマーは、１６５ｋｇ／ｍｏｌの平均分子量Ｍｗ（ポリスチレン標準で溶媒としてのアセトン中でＧＰＣによって測定）を有する。超遠心分離により測定したメジアンゴム粒径Ｄ５０は０．８５μｍである。１０ｋｇのラム負荷（ram loading）で２２０℃にて、ＩＳＯ１１３３（２０１２年版）に従い測定した成分Ｂ１のメルトボリュームフローレート（ＭＶＲ）は、６．７ｍｌ／１０分である。

成分Ｃ：
ＰＥＢＡに対して、５０重量％程度のポリエチレングリコールブロック、およびＰＥＢＡに対して、５０重量％程度のポリアミド１２ブロックからなるポリエーテルアミドブロックコポリマー（ＰＥＢＡ）。比表面積電気抵抗は、ＩＥＣ６００９３（１９９３年版）に従い測定して３・１０^９Ωである。

成分Ｄ１：
Ｋｒｏｎｏｓ^ＴＭ２２３３（ＫｒｏｎｏｓＴｉｔａｎＧｍｂＨ、レーヴァークーゼン、ドイツ）：
塩化プロセスで製造した、アルミニウムおよびポリシロキサン化合物の表面コーティングを有する、ルチル型構造を有する二酸化チタン顔料。ＤＩＮＥＮＩＳＯ５９１に従い決定された二酸化チタン含有量は９６重量％未満であり、ＤＩＮＥＮＩＳＯ７８７−１０に従い決定された密度は４．２ｇ／ｃｍ３であり、ＤＩＮＥＮＩＳＯ７８７−５に従い決定された油状物吸収率は１４．５ｇ／１００ｇの顔料である。

成分Ｄ２：
酸化鉄顔料：Ｂａｙｆｅｒｒｏｘ^ＴＭ１８０Ｍ（ＬａｎｘｅｓｓＡＧ、ケルン、ドイツ）

成分Ｄ３：
カーボンブラック：Ｂｌａｃｋｐｅａｒｌｓ^ＴＨ８００（ＣａｂｏｔＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）

成分Ｅ１：
テトラステアリン酸ペンタエリスリトール

成分Ｅ２：
Ｉｒｇａｆｏｓ^ＴＭ１６８（ＢＡＳＦ；ルートヴィヒスハーフェン、ドイツ）：
トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト

成分Ｅ３：
Ｉｒｇａｎｏｘ^ＴＭ１０７６（ＢＡＳＦ；ルートヴィヒスハーフェン、ドイツ）：
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（オクタデカンオキシカルボニルエチル）フェノール

本発明の成形材料の製造および試験
２６０℃の溶融温度にて、５０ｍｂａｒ（絶対圧）の大気より低い圧力を適用して、成分をＷｅｒｎｅｒ＆ＰｆｌｅｉｄｅｒｅｒＺＳＫ−２５ニ軸押出機で混合した。破壊試験用の試験片を除き、成形品は、２６０℃の溶融温度、および８０℃の成形温度にて、Ａｒｂｕｒｇ２７０Ｅ射出成形機で製造した。破壊試験用の試験片は、３００℃の溶融温度にて、他は同一の処理パラメーターで製造した。

ＩＺＯＤ切欠き衝撃強度は、ＩＳＯ１８０−１Ａ（１９８２年版）に従い、−３０℃で１０個の８０ｍｍ×１０ｍｍ×４ｍｍである試験片に対してそれぞれ決定した。個々の、３０ｋＪ／ｍ^２未満の切欠き衝撃強度は靱性な破損挙動として分類された。

加熱たわみ耐性の基準としてのビカットＢ／１２０は、ＩＳＯ３０６（２０１３年版）に従い、５０Ｎのラム負荷および１２０℃／ｈの加熱速度で、寸法が８０ｍｍ×１０ｍｍ×４ｍｍの試験片に対して決定した。

多軸破壊試験での挙動は実施に関連する衝撃／衝突試験における低温延性の基準として使用された。破壊試験は、−３０℃で、ＩＳＯ６６０３−２（２０００年版）に従い、寸法が６０ｍｍ×６０ｍｍ×２ｍｍの試験片に対して行なった。これらは特に重大な加工条件をシミュレーションするために３００℃の高い溶融温度で作製した。試験片は、ＩＳＯ６６０３−２において列挙された不具合タイプとしてのＹＤ、ＹＳ、ＹＵおよびＮＹを考慮して評価した。合計１０個の試験片の破損状態は、靱性（粉砕されていない）、または脆性（粉砕された）の破損状態が生じるか否かを決定するために評価した。ＩＳＯ６６０３−２によれば、不具合タイプとしてのＹＤ、ＹＳおよびＹＵは、靱性（粉砕されていない）の破損状態、および不具合タイプとしてのＮＹは、（粉砕された）の破損状態として定義された。

さらに、材料延性のより改良された差別化を達成するために、ＹＤおよびＹＳの等級を得る試験片の割合、即ち亀裂の形成がないか、または少なくとも発生した亀裂の形成が安定していた試験片の数を評価した。

比表面積抵抗性は、ＩＥＣ６００９３（１９９３年版）に従い、６０ｍｍの直径および２ｍｍの厚さを有している円形のシートに対して決定した。

表１中のデータは、本発明の割合で二酸化チタンを含む本発明の実施例２〜８が、二酸化チタンを含まないか、または本発明の範囲外の割合で二酸化チタンを有する、対応する組成物よりも、良好な低温靱性、電気消散的導電率（より低い比表面積電気抵抗）、および高い加熱たわみ耐性を呈することを示す。これは、不具合としての顔料の作用の下にて、特に低温で、無機顔料の添加から、ならびに化合および射出成形の間の加熱条件下でのポリカーボネートにおける顔料に起因する分子量の低下により、ＰＣ＋ＡＢＳブレンド物の材料靱性は恩恵を受けるよりもむしろ悪影響を受ける傾向があるということが当業者の通常の経験であるため、驚くべきことである。また、これらの実施例によれば、カーボンブラックまたは酸化鉄などの他の顔料では、望ましい改良がなされないことも示される。

Claims

Ａ）５０〜９０重量％の、芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステルカーボネート、および芳香族ポリエステルからなる群から選択される少なくとも１種のポリマー、
Ｂ）５〜４０重量％の、ゴムに基づくグラフトポリマーまたはゴムに基づくグラフトポリマーとゴムを含まないビニル（コ）ポリマーの混合物、
Ｃ）３〜２５重量％の、少なくとも１種のポリエーテルに基づくポリマー、またはポリエーテルブロックポリマーおよびポリエーテルに基づくポリウレタンからなる群から選択されるコポリマー、
Ｄ）０．８〜９重量％の、少なくとも１種の二酸化チタンに基づく顔料、
Ｅ）０〜２０重量％の、１種以上の追加の添加剤
を含んでなる、組成物。
成分Ａが芳香族ポリカーボネートである、請求項１に記載の組成物。
成分ＣおよびＤが、１．１〜４の重量比Ｃ／Ｄで使用される、請求項１または２に記載の組成物。
成分Ｃがポリエチレングリコールブロックおよびポリアミドブロックを含んでなるブロックコポリマーである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
成分Ｄが、少なくとも９５重量％程度のルチル修飾型における二酸化チタンからなる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
成分Ｅとして、滑剤および離型剤、安定剤、流動促進剤、相溶化剤ならびに染料および成分Ｄとは異なる顔料からなる群から選択される少なくとも１種の添加剤を含んでなる、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
成分Ａ）〜Ｅ）からなる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
成形品を製造するための、請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物の使用。
請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物より得られる、成形品。
ポリエーテルベースポリマーが付与され、かつ芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステルカーボネート、および芳香族ポリエステルからなる群から選択される少なくとも１種のポリマーを含んでなる組成物の靭性および電気表面伝導率を改善するための、二酸化チタンに基づく顔料の使用。
前記組成物が、
５０〜９０重量％の、芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステルカーボネートおよび芳香族ポリエステルからなる群から選択される少なくとも１種の代表例、
５〜４０重量％の、ゴムに基づくグラフトポリマーまたはゴムに基づくグラフトポリマーとゴムを含まないビニル（コ）ポリマーの混合物、
３〜２５重量％の、少なくとも１種のポリエーテルに基づくポリマー、またはポリエーテルブロックポリマーおよびポリエーテルに基づくポリウレタンからなる群から選択されるコポリマー、
０〜２０重量％の、１種以上の追加の添加剤
を含んでなる、請求項１０に記載の使用。
前記ポリエーテルベースポリマーが、ポリエチレングリコールブロックおよびポリアミドブロックを含んでなるブロックコポリマーである、請求項１１に記載の使用。
前記二酸化チタンに基づく顔料が、前記組成物に対して０．８〜９重量％の割合で使用される、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の使用。
前記二酸化チタンに基づく顔料が、前記組成物に対して３〜７重量％の割合で使用される、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の使用。
前記顔料が、少なくとも９５重量％程度のルチル修飾型における二酸化チタンからなる、請求項１０〜１４のいずれか一項に記載の使用。