JP2019510881A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102018114776A1 (de) 2018-06-20 2019-12-24 Khs Corpoplast Gmbh Vorrichtung zum Beschichten von Behältern mit einer Barriereschicht und Verfahren zur Heizung eines Behälters
DE102018129694A1 (de) * 2018-11-26 2020-05-28 Khs Corpoplast Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Plasmabehandlung von Behältern
DE102019126291A1 (de) * 2019-09-30 2021-04-01 Krones Ag Vorrichtung zum Beschichten von Behältnissen mit Bypass und Verfahren zum Betreiben einer solchen Vorrichtung
DE102019130303A1 (de) 2019-11-11 2021-05-12 Khs Corpoplast Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Plasmabehandlung von Behältern
DE102020105000A1 (de) 2020-02-26 2021-08-26 Khs Corpoplast Gmbh Verfahren zur Beschichtung von Behältern sowie beschichteter Behälter
DE102020130917A1 (de) 2020-11-23 2022-05-25 Khs Corpoplast Gmbh Mehrweg-Kunststoffbehälter, Verfahren zum Waschen von solchen Behältern, Verfahren zum Beschichten von solchen Behältern und Behälterbehandlungsmaschine für die Getränkeindustrie
DE102023107505A1 (de) * 2023-03-24 2024-09-26 Khs Gmbh Behälterbeschichtungsanlage, insbesondere zum Beschichten von Getränkebehältern
DE102023112961A1 (de) 2023-05-17 2024-11-21 Khs Gmbh Ventileinsatz für eine Behälterbeschichtungsanlage, Ventilanordnung und Behälterbeschichtungsanlage
DE102023112963A1 (de) 2023-05-17 2024-11-21 Khs Gmbh Ventileinsatz für eine Behälterbeschichtungsanlage, Ventilanordnung und Behälterbeschichtungsanlage
DE102023112998A1 (de) 2023-05-17 2024-11-21 Khs Gmbh Ventileinsatz für eine Behälterbeschichtungsanlage, Ventilanordnung und Behälterbeschichtungsanlage
DE102023113416A1 (de) 2023-05-23 2024-11-28 Khs Gmbh Beschichtungsanlage sowie Verfahren zum Beschichten von Behältern
DE102023132995A1 (de) 2023-11-27 2025-05-28 Khs Gmbh Verfahren zum Beschichten von Mehrwegbehältern, nach diesem Verfahren hergestellte Behälter und Behälterbeschichtungsmaschine zum Beschichten von Mehrweg-Kunststoffbehältern
DE102024102398B3 (de) 2024-01-29 2025-01-23 Khs Gmbh Verfahren zur Produktion und Qualitätsprüfung von mittels Plasma beschichteten Kunststoffflaschen
DE102024109778A1 (de) 2024-04-09 2025-10-09 Khs Gmbh Plasmabehandlungsanlage für Behälter und Verfahren zur Plasmabehandlung von Behältern

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4866346A (en) * 1987-06-22 1989-09-12 Applied Science & Technology, Inc. Microwave plasma generator
DE4120176C1 (https=) 1991-06-19 1992-02-27 Schott Glaswerke, 6500 Mainz, De
DE4233512C2 (de) * 1992-10-06 2000-07-13 Leybold Ag Verfahren zur Steuerung von Prozeßgasen für Beschichtungsanlagen und Beschichtungsanlage zu seiner Durchführung
EP0693975B2 (en) * 1994-02-16 2003-07-30 The Coca-Cola Company Hollow containers with inert or impermeable inner surface through plasma-assisted surface reaction or on-surface polymerization
WO1998037259A1 (en) * 1997-02-19 1998-08-27 Kirin Beer Kabushiki Kaisha Method and apparatus for producing plastic container having carbon film coating
TW449623B (en) * 1997-09-30 2001-08-11 Tetra Laval Holdings & Amp Fin Method and apparatus for treating the inside surface of plastic bottles in a plasma enhanced process
FR2791598B1 (fr) 1999-03-30 2001-06-22 Sidel Sa Machine a carrousel pour le traitement de corps creux comportant un circuit de distribution de pression perfectionne et distributeur pour une telle machine
FR2799994B1 (fr) * 1999-10-25 2002-06-07 Sidel Sa Dispositif pour le traitement d'un recipient a l'aide d'un plasma a basse pression comportant un circuit de vide perfectionne
JP2002129337A (ja) 2000-10-24 2002-05-09 Applied Materials Inc 気相堆積方法及び装置
DE10225609A1 (de) * 2002-06-07 2003-12-24 Sig Technology Ltd Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabehandlung von Werkstücken
US7926446B2 (en) 2002-05-24 2011-04-19 Schott Ag Multi-place coating apparatus and process for plasma coating
JP3699474B2 (ja) * 2003-02-28 2005-09-28 鹿毛 剛 プラスチック成形体のガスバリア性測定方法
DE102004020185B4 (de) * 2004-04-22 2013-01-17 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung für die Innenbeschichtung von Hohlkörpern sowie Verwendung der Vorrichtung
FR2894165B1 (fr) * 2005-12-01 2008-06-06 Sidel Sas Installation d'alimentation en gaz pour machines de depot d'une couche barriere sur recipients
JP2009076881A (ja) * 2007-08-30 2009-04-09 Tokyo Electron Ltd 処理ガス供給システム及び処理装置
WO2009144814A1 (ja) * 2008-05-30 2009-12-03 東洋製罐株式会社 蒸着装置
US9458536B2 (en) 2009-07-02 2016-10-04 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles
DE102010055155A1 (de) * 2010-12-15 2012-06-21 Khs Corpoplast Gmbh Verfahren zur Plasmabehandlung von Werkstücken sowie Werkstück mit Gasbarriereschicht

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