DE102018114776A1 - Vorrichtung zum Beschichten von Behältern mit einer Barriereschicht und Verfahren zur Heizung eines Behälters - Google Patents
Vorrichtung zum Beschichten von Behältern mit einer Barriereschicht und Verfahren zur Heizung eines Behälters Download PDFInfo
- Publication number
- DE102018114776A1 DE102018114776A1 DE102018114776.7A DE102018114776A DE102018114776A1 DE 102018114776 A1 DE102018114776 A1 DE 102018114776A1 DE 102018114776 A DE102018114776 A DE 102018114776A DE 102018114776 A1 DE102018114776 A1 DE 102018114776A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- container
- plasma
- range
- heating
- noble gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0209—Pretreatment of the material to be coated by heating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32458—Vessel
- H01J37/32477—Vessel characterised by the means for protecting vessels or internal parts, e.g. coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/045—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/401—Oxides containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45563—Gas nozzles
- C23C16/45578—Elongated nozzles, tubes with holes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/46—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/511—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using microwave discharges
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
- H01J37/32211—Means for coupling power to the plasma
- H01J37/3222—Antennas
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32394—Treating interior parts of workpieces
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3244—Gas supply means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3244—Gas supply means
- H01J37/32449—Gas control, e.g. control of the gas flow
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32458—Vessel
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D23/00—Details of bottles or jars not otherwise provided for
- B65D23/02—Linings or internal coatings
Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten von Behältern mit einer Barriereschicht mit mindestens einer Plasmakammer, die mindestens einen Behandlungsplatz umfasst, in welcher mindestens ein Behälter mit einem Behälterinnenraum an dem Behandlungsplatz einsetzbar und positionierbar ist, wobei die Plasmakammer zumindest teilweise evakuierbar ausgebildet ist und dazu eingerichtet ist, den Behälterinnenraum zumindest teilweise mit einem Plasma und einem Prozessgas zu befüllen. Erfindungsgemäß ist die Vorrichtung so ausgebildet, dass eine Vorheizung des Behälters mittels eines Plasmas, insbesondere mittels eines Mikrowellenplasmas, unter Verwendung eines Edelgases durchführbar ist.
Die vorliegende Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Heizung eines Behälters mittels einer Vorrichtung, bei dem die Heizung mittels eines Plasmas in einem Druckbereich von 1-25 mbar, bevorzugt in einem Druckbereich von 1-5 mbar oder in einem Druckbereich von 15-25 mbar, unter Verwendung eines Edelgases erfolgt.
Die vorliegende Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Heizung eines Behälters mittels einer Vorrichtung, bei dem die Heizung mittels eines Plasmas in einem Druckbereich von 1-25 mbar, bevorzugt in einem Druckbereich von 1-5 mbar oder in einem Druckbereich von 15-25 mbar, unter Verwendung eines Edelgases erfolgt.
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten von Behältern mit einer Barriereschicht mit mindestens einer Plasmakammer und ein Verfahren zur Heizung eines Behälters mittels einer solchen Vorrichtung.
- Solche Vorrichtungen werden beispielsweise bei der Vakuumsteuerung eines Siliciumoxid-Beschichtungsprozesses, insbesondere bei der Plasma-CVD-Beschichtung von Kunststoff-Behältern, wie bspw. PET-Flaschen, verwendet. Mit einer solchen Beschichtung werden Barrieresysteme für verschiedene Anwendungsformate realisiert. Bevorzugt werden O2-, CO2- und H2O-Barrieren auf PET-Flaschen aufgebracht. Dieses Verfahren findet im Vakuum statt. Mit der Marktetablierung von thermisch hochstabilen PET-Behältern (zum Beispiel für Pastasaucen) eröffnen sich neue Verfahrensschritte in der Abscheidung von Barrieren auf vorgeheizten Behältern (Substrat). Dadurch können bessere Barriereeigenschaften hinsichtlich Gasdurchlässigkeit und Dehnungseigenschaften (> 3%) erzielt werden. Beschichtungsanlagen, die dies realisieren sind beispielsweise aus der
DE 10 2016 105 548 A1 bekannt. - Der allgemeine Trend zur Beschichtung von (sehr) leichten Behältern, wie PET-Flaschen, setzt voraus, dass diese Flasche eine definierte Einlauftemperatur in die Beschichtungsanlage besitzt. Dies wurde in der
EP 0 821 079 B1 erkannt. Daher ist eine Einlaufkühlung vor der Beschichtungsanlage notwendig, um einen hochwertigen Depositionsprozess von Siliciumoxid sicher zu stellen. - Aus der
WO 98/40531 A1 WO 2012/122559 A2 - Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die Barriereeigenschaften der Beschichtung an der Innenwand des beschichteten Behälters zu verbessern und bessere Voraussetzungen für den Heißfüllungsprozess der Behälter zu ermöglichen.
- Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 1. Die Vorrichtung zum Beschichten von Behältern mit einer Barriereschicht weist mindestens eine Plasmakammer auf, die mindestens einen Behandlungsplatz umfasst, in welcher mindestens ein Behälter mit einem Behälterinnenraum an dem Behandlungsplatz einsetzbar und positionierbar ist, wobei die Plasmakammer zumindest teilweise evakuierbar ausgebildet ist und dazu eingerichtet ist, den Behälterinnenraum zumindest teilweise mit einem Plasma und einem Prozessgas zu befüllen. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Vorrichtung so ausgebildet ist, dass eine Vorheizung des Behälters mittels eines Plasmas, insbesondere mittels eines Mikrowellenplasmas, unter Verwendung eines Edelgases durchführbar ist. Durch die Verwendung eines Plasmas zur Erhitzung der Behälter kann die verwendete Energie in der Abscheidung der Barriere deutlich angehoben werden und die Barriereschicht weist dann weniger Fehlstellen auf, was zu einer besseren Barriereleistung führt. Bevorzugt wird als Behälter ein PET-Behälter, insbesondere eine PET-Flasche, verwendet. Der Behälter kann auch aus einem anderen Kunststoff, insbesondere aus PP, PE oder POC, sein.
- Eine vorteilhafte Weiterbildung der Erfindung sieht vor, dass das Edelgas aus der Gruppe Ne, Ar, Kr und/oder Xe genommen wird; bevorzugt als Edelgas nur Ar, gegebenenfalls mit Restluft, genommen wird. Durch die Verwendung eines der genannten Edelgase ergeben sich keine chemischen Veränderungen an der Oberfläche der Behälter während deren Erhitzung. Die Verwendung von reinem Ar ist am preiswertesten.
- Eine weitere vorteilhafte Weiterbildung der Erfindung sieht vor, dass im Förderweg des Behälters in die Vorrichtung vor dieser ein Heiztunnel vorhanden ist. Dadurch ist ein gekapselter Lufttransport im Transferbereich einer Blockmaschine möglich. Durch die im Heiztunnel durchgeführte Erhitzung wird eine Vordehnung des Behälters erzielt. Die nachfolgende Beschichtung erfolgt dann auf dem ausgedehnten Behälter, regelmäßig bei einer Temperatur des Behälters im Bereich von 80-200°C. Liegt die Temperatur des beschichteten Behälters oberhalb der Temperatur des Füllguts, das in ihn eingebracht wird, erfolgt nur noch ein Schrumpfprozess des Behälters, der bezüglich der Beschichtung weniger zerstörend ist als ein Dehnprozess.
- Eine weitere vorteilhafte Weiterbildung der Erfindung sieht vor, dass die Plasmakammer Teil eines Plasmarades ist, das eine Mehrzahl solcher Plasmakammern aufweist. Dadurch kann der Durchsatz der zu beschichtenden Behälter deutlich erhöht werden.
- Die Aufgabe wird auch durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruches 6 gelöst. Ein solches Verfahren zur Heizung eines Behälters wird mittels einer oben erläuterten erfindungsgemäßen Vorrichtung durchgeführt. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Heizung mittels eines Plasmas in einem Druckbereich von 1-25 mbar, bevorzugt in einem Druckbereich von 1-5 mbar oder in einem Druckbereich von 15-25 mbar, unter Verwendung eines Edelgases erfolgt. Dadurch ist es möglich, eine gut definierte Leistung und damit Wärmemenge in den Behälter einzubringen, was dazu führt, dass die erreichte Temperatur des Behälters dadurch exakt auf eine gewünschte Temperatur eingestellt werden kann, bei der die folgenden Prozesse, insbesondere bei der Aufbringung der Barriereschicht, besonders gute Ergebnisse erzielen. Wird das Verfahren im niedrigeren der beiden genannten Druckbereiche durchgeführt, wird eine schonendere Behandlung der inneren Oberfläche des Behälters ermöglicht als bei einem höheren Druck, dies nimmt jedoch mehr Zeit in Anspruch. Bei einer Durchführung des Verfahrens im höheren der beiden genannten Druckbereiche erfolgt ein stärkere lonenbeschuss der Oberfläche des Behälters, was zu einer schnelleren Erwärmung der inneren Oberfläche des Behälters führt. In beiden Druckbereichen ergibt sich gegenüber dem Stand der Technik eine bessere Oberflächenmodifikation, was zu besseren Ergebnissen hinsichtlich Erwärmung, Kontaktwinkel, Oberflächenrauhigkeit und Vorbehandlung führt. Bevorzugt werden Behälter aus PET verwendet.
- Eine vorteilhafte Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens sieht vor, dass das Edelgas aus der Gruppe Ne, Ar, Kr und/oder Xe genommen wird; bevorzugt als Edelgas nur Ar, gegebenenfalls mit Restluft, genommen wird. Hierbei ergeben sich die oben schon zur Vorrichtung erläuterten Vorteile bezüglich der verwendeten Edelgase.
- Eine weitere vorteilhafte Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens sieht vor, dass die durch das Plasma eingebrachte mittlere Leitung im Bereich von 80-670 W, insbesondere bei 500 W, liegt und/oder die Pulsleistung im Bereich von 250-2.000 W, insbesondere bei 1.500 W, liegt. Mit einer höheren mittleren Leistung in der Barriereschicht, was zu weniger Fehlstellen führt, kann man eine dünnwandigere Barriereschicht aufwachsen lassen und somit eine höhere Flexibilität bei gleicher Gasdurchlässigkeit erreicht werden.
- Eine weitere vorteilhafte Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens sieht vor, dass die Temperatur des Behälters im Bereich von 30-75°C, bevorzugt im Bereich von 33-70°C und besonders bevorzugt bei 50°C, liegt. Bei Beschichtungsversuchen hat sich gezeigt, dass der genannte Temperaturbereich verbesserte Barriereeigenschaften nach Belastung erzeugt. Durch die Erwärmung des Substrates ist die kinetische Energie der Atome im Schichtbildungsprozesses höher, sodass eine geordnete Siliciumoxid-Schicht mit weniger Fehlstellen entsteht. Die bedeutet, dass die Barriere besser ist.
- Eine weitere vorteilhafte Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens sieht vor, dass die Heizung eine Zyklusdauer im Bereich von 0-5.000 ms aufweist, insbesondere 3.000 ms, mit einer Pulsdauer im Bereich von 1-20 ms, bevorzugt 10 ms, und einer Pausendauer im Bereich von 10-50 ms, bevorzugt 20 ms.
- Eine weitere vorteilhafte Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens sieht vor, dass vor dieser Heizung eine Vorheizung des Behälters auf eine Temperatur im Bereich von 80-200°C stattfindet, insbesondere in einem Heiztunnel, der in einem Zulauf zur Plasmakammer angeordnet ist. Hierbei ergeben sich die oben schon zur Vorrichtung erläuterten Vorteile bezüglich des Heiztunnels.
- Eine weitere vorteilhafte Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens sieht vor, dass im Anschluss an die Verfahrensschritte eine Beschichtung des Behälterinnenraums mit einer Barriereschicht und danach eine Beschichtung mit Siliciumoxid erfolgt und daran anschließend eine Heißfüllung des Behälters mit einem Füllgut erfolgt, das heißer als 50°C, bevorzugt heißer als 70°C, besonders bevorzugt heißer als 90°C ist. Dadurch können auch beispielsweise Pasta-Saucen oder andere bei so hohen Temperaturen abzufüllende Füllgüter in die beschichteten Behälter eingefüllt werden.
- Alle in den Unteransprüchen angegebenen Merkmale der vorteilhaften Weiterbildungen sind sowohl für sich jeweils einzeln als auch in beliebigen Kombinationen zur Erfindung gehörig.
- Weitere Einzelheiten und Vorteile der Erfindung werden anhand eines in den Zeichnungen dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert.
- Es zeigen:
-
1 die Abhängigkeit der Temperatur einer Flasche von der Plasmaleistung; -
2 die Abhängigkeit der Reflektion von der Plasmaleistung; -
3 die Abhängigkeit der Temperatur einer Flasche von dem Druck des Plasmagases; -
4 die Abhängigkeit der Plasmaleistung bzw. der Reflektion von dem Druck des Plasmagases; -
- Tab. 1 die den
1 und2 zu Grunde liegenden Versuchsergebnisse und - Tab. 2 die den
3 und4 zu Grunde liegenden Versuchsergebnisse. - In einem mit einer erfindungsgemäßen Vorrichtung durchgeführten erfindungsgemäßen Verfahren ergaben sich die in den Tab. 1 und 2 aufgeführten Messergebnisse.
- Es wurde eine Beschichtungsanlage in Form eines Plasmarades verwendet, mittels der in einer Plasmakammer eine Barriereschicht aus Sauerstoff auf einen PET-Behälter aufgebracht werden kann, nachdem ein Siliciumoxid-Depositionsprozess stattgefunden hat. Im Anschluss kann eine Heißfüllung des PET-Behälters mit einem Füllgut heißer als 90°C durchgeführt werden. Das Vorheizen des PET-Behälters erfolgte mittels eines Plasmas aus reinem Ar (mit einem Restluftanteil), das mittels einer Mikrowelleneinheit gezündet wurde.
- Bei den Versuchen, die in der Tab. 1 dokumentiert sind, wurde eine Leistungsvariation des Argonplasmas bei einem Druck pArgon = 3,3 mbar durchgeführt. Die Ausgangstemperatur der PET-Behälter vor dem Versuch war 20°C und wird als TStart=20°C bezeichnet. Es lag ein Dutycycle von 33% vor. Unter Dutycycle wird das Verhältnis der Zeiten von Puls an zu Puls an+Puls aus verstanden - man könnte es auch Puls-Pausen-Verhältnis nennen. Die relevanten weiteren Parameter waren: Ar-Fluss = 560 sccm; Gesamtzeit der Heizphase t_plasma = 3.000 ms; Puls an-Zeit t_puls = 10 ms; Puls_aus-Zeit t_pause = 20 ms. Das angegbene Puls-Pausen-Verhältnis wurde gewählt, um eine Steuerbarkeit der Temperaturverteilung zu erhalten. Als PET-Behälter wurden Flaschen aus PET verwendet, die ein Volumen von 500 ml und ein Gewicht von 29 g aufweisen.
- Die angegebene gemessene Temperatur wurde immer ca. 5 s nach dem Erlöschen des Plasmas gemessen, da die Hülse für das Vakuum erst entfernt werden muss, um eine Temperaturmessung an dem PET-Behälter mittels des vorhandenen Infrarotsensors vornehmen zu können.
- In Tab. 1 sind neben der Pulsleistung (P_puls) auch die mittlere Leistung (P_mittel) des Energieeintrags (jeweils in Watt) in die PET-Behälter aufgrund des Ar-Plasmas angegeben. Die eingestellte Leistung P_korr (ebenfalls in Watt angegeben) ergibt sich aus dem Produkt der Pulsleistung mit dem dutycycle und dem Faktor (
1 -Reflektion). In Tab. 1 ist auch die Reflektion angegeben. Unter Reflektion wird der Anteil der eingekoppelten Leistung des Magnetrons verstanden, der nicht vom Plasma absorbiert wird; dieser Anteil wird vom PET-Behälter reflektiert und über einen Zirkulator in eine Wasserlast gelenkt, wo er in Wärme umgewandelt wird. In Tab. 1 ist außerdem noch das Verhältnis aus der Endtemperatur des PET-Behälters und seiner Ausgangstemperatur angegeben. - In
1 sind die Ergebnisse der Endtemperatur der PET-Behälter über der eingestellten Leistung dargestellt. Es kann in sehr guter Näherung eine Gerade durch die Messpunkte gelegt werden, die einen Offset von 32,783 und eine Steigung von 0,0377 aufweist bei R2 = 0,9763. Unter R2 wird der Regressionskoeffizient verstanden, der ein Bestimmtheitsmaß angibt und beschriebt, wie gut die Messpunkte auf einer Geraden liegen. Bei Werten von R2 > 0,95 wird von einem linearen Zusammenhang ausgegangen. Die Erwärmung der PET-Behälter erfolgt somit linear mit der eingebrachten Plasma-Leistung. Der Temperaturunterschied zu T_Raum = 20°C ergibt sich durch den zusätzlichen Energieeintrag durch den Zündpuls bzw. Hilfsentladungen. - In
2 ist die Abhängigkeit der Reflektion zur mittleren Leistung P_mittel dargestellt. - In Tab. 2 sind die Ergebnisse von Versuchen dokumentiert, bei denen eine Druckvariation des Ar-Plasmas bei gleichbleibender mittlerer Leistung P mittel = 500 W durchgeführt wurde. Neben den schon aus Tab. 1 bekannten Spalten für den Absolutwert der Temperatur des PET-Behälters T (in °C) und dessen Verhältnis zur Ausgangstemperatur T/TStart=20°C und der Reflektion sind noch der Absolutwert des Drucks p (in mbar) des Ar-Gases sowie der Quotient aus diesem Absolutwert und dem p_prozess (hierunter wird der Druck im PET-Behälter verstanden, der zur Normierung herangezogen wird, da Druckangaben nicht direkt ablesbar sind), der 0,5 mbar betrug, aufgeführt.
- In
3 ist die Druckabhängigkeit der Flaschentemperatur TFlasche gegenüber dem Ar-Druck unter Verwendung der Ergebnisse aus Tab. 2 dargestellt. Die Flaschentemperatur TFlasche steigt mit steigendem Druck an, da bei höheren Drücken die Anzahl an Kollisionen mit der Wand des PET-Behälters steigt und somit ein stärkerer Wärmefluss vom heißen Ar-Plasma zur kalten Wand stattfinden kann. Oberhalb eines Ar-Drucks von ca. 2 mbar ergibt sich in guter Näherung eine lineare Abhängigkeit, die durch eine Gerade mit einem Offset von 40,332 und einer Steigung von 3,0287 bei R2 = 0,98647 beschrieben werden kann. Die Abweichung vom linearen Verhalten unterhalb 2 mbar ergibt sich aufgrund zunehmender Reflektionen bei geringen Drücken. Dieser Zusammenhang zwischen Reflektion und Ar-Druck ist4 zu entnehmen, wo die Ergebnisse aus der Tab. 2 wiedergegeben sind. Dort ist es der Graph, der durch die auf der Spitze stehenden Quadrate wiedergegeben wird. - In
4 ist auch noch die Abhängigkeit der eingestellten Plasmaleistung P_korr vom Ar-Druck mittels auf der Kante stehender Quadrate dargestellt. - Eine besonders effektive Heizung des PET-Behälters wird dadurch erreicht, dass ein Ar-Plasma bei einem Druckbereich von 15-25 mbar (P1-Druckbereich) erzeugt wird. Durch den höheren Druck entsteht ein stärkerer lonenbeschuss auf der Oberfläche des PET-Behälters. Eine schnelle starke Erwärmung der inneren Oberflächen mit entsprechender Oberflächenmodifizierung (Erwärmung, Kontaktwinkel, Oberflächenrauigkeit, Vorbehandlung) ist möglich.
- Eine mittlere Heizung des PET-Behälters kann durch das Zünden eines Ar-Plasmas bei einem Druckbereich von 1-5 mbar (P2-Druckbereich) erreicht werden. Dieser Druckbereich ermöglicht eine schonendere Behandlung der Oberfläche, die jedoch mehr Zeit in Anspruch nimmt. Dabei ist eine mittlere Erwärmung der inneren Oberfläche mit entsprechender Oberflächenmodifizierung (Erwärmung, Kontaktwinkel, Oberflächenrauhigkeit, Vorbehandlung) umsetzbar.
- Die Prozessoptimierung kann insbesondere durch einen weiteren Heiztunnel vor der Beschichtungsanlage (gekapselter Lufttransport, Transferbereich Blockmaschine) erfolgen, wenn es nur um die Erwärmung des PET-Behälters geht (Vordehnung). Die Erwärmung dehnt den PET-Behälter aus, sodass die Beschichtung auf einem ausgedehnten PET-Behälter erfolgt (80-200°C). Die Barriereschicht auf dessen Innenwand dehnt sich nicht mehr aus, sondern sie zieht sich nur noch in einem an die Füllung des PET-Behälters anschießenden Abkühlprozess zusammen. Ein Schrumpf ist für die Beschichtung weniger zerstörend als eine Dehnung.
- Besonders vorteilhaft ist dies bei einer Heißabfüllung, die sich an die Heizung und Beschichtung des PET-Behälters anschließt - bspw. indem eine pasteurisierte Pasta-Sauce eingefüllt wird. Der PET-Behälter kann dabei nicht weiter gedehnt werden. Erst bei der Abkühlung des PET-Behälters zieht sich dieser zusammen, sodass nur Schrumpf auf die Beschichtung wirkt. Wie oben ausgeführt, ist der Schrumpf für die Beschichtung weniger zerstörend als eine Dehnung. Durch diese Vorgehensweise lassen sich somit bessere Barriereleistungen erreichen, da weniger Stressfaktoren auftreten.
- Für thermisch stabile PET-Behälter können andere Temperaturen in der Prozessführung verwendet werden, die die Beschichtung weniger stressen und somit zu einer besseren Barriereperformance (Gasdichtigkeit, Flexibilität) führen. Darüber hinaus können unterschiedliche Vorbehandlungen und Oberflächenmodifizierungen vorgenommen werden, die eine Optimierung zur Schichtabscheidung auf spezielle Produkte ermöglicht.
- Die Vorteile der Erfindung lassen sich wie folgt zusammenfassen.
- Durch die Erhitzung bzw. thermische Stabilität des Materials kann nachfolgendes erreicht werden:
- Die verwendet Energie (Mikrowellenenergie) in der Abscheidung der Barriere kann deutlich angehoben werden. Dadurch kann die Schicht mit weniger Fehlstellen aufwachsen und die Barriereleistung verbessert werden. Mit einer höheren mittleren Leistung in der Barriereschicht (weniger Fehlstellen) kann man eine dünnwandigere Barriereschicht aufwachsen lassen und somit eine höhere Flexibilität, bei gleicher Gasdurchlässigkeit, erreichen.
- Durch die erweiterten Prozessschritte und Verfahrensmöglichkeiten ergeben sich nachfolgende Vorteile:
- Gasdichtere bzw. gasundurchlässigere Barriereschichten bei kürzeren bzw. gleichbleibenden Beschichtungszeiten; höhere Flexibilität (im Bereich von > 3%) der Barriereschichten; Modifizierung der Oberflächeneigenschaften des PET-Behälters zum besseren aufwachsen des Beschichtungsverbundes (Anhaftung). Tab. 1
Pulsleistung (W) P_mittel (W) P_korr (W) T(°C) T/TStart=20°C Reflektion (%) 250 83 47,5 33,0 1,7 43 500 167 125,0 37,0 1,9 25 750 250 210,0 42,0 2,1 16 1000 333 300,0 45,0 2,3 10 1250 417 358,3 47,7 2,4 14 1500 500 450,0 50,0 2,5 10 1750 583 527,9 52,0 2,6 9,5 2000 667 593,3 54,0 2,7 11 p(mbar) p/p_prozess P_korr (W) T(°C) T/TStart=2°C Reflektion (%) 0,2 0,4 305 31,5 1,6 39 0,38 0,76 310 33 1,7 38 0,53 1,06 350 36 1,8 30 0,63 1,26 350 36,5 1,8 30 0,72 1,44 375 37 1,9 25 1,03 2,06 375 41 2,1 25 1,4 2,8 410 41 2,1 18 1,65 3,3 425 43,5 2,2 15 1,95 3,9 430 45,3 2,3 14 2,6 5,2 440 48,5 2,4 12 3,3 6,6 450 50 2,5 10 3,8 7,6 450 51 2,6 10 5 10 465 55,0 2,8 7 6,5 13 465 62 3,1 7 7,8 15,6 470 65 3,3 6 8,3 16,6 460 65 3,3 8 9,1 18,2 475 67 3,4 5 9,9 19,8 465 70 3,5 7 - ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- DE 102016105548 A1 [0002]
- EP 0821079 B1 [0003]
- WO 9840531 A1 [0004]
- WO 2012/122559 A2 [0004]
Claims (12)
- Vorrichtung zum Beschichten von Behältern mit einer Barriereschicht mit mindestens einer Plasmakammer, die mindestens einen Behandlungsplatz umfasst, in welcher mindestens ein Behälter mit einem Behälterinnenraum an dem Behandlungsplatz einsetzbar und positionierbar ist, wobei die Plasmakammer zumindest teilweise evakuierbar ausgebildet ist und dazu eingerichtet ist, den Behälterinnenraum zumindest teilweise mit einem Plasma und einem Prozessgas zu befüllen, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung so ausgebildet ist, dass eine Vorheizung des Behälters mittels eines Plasmas, insbesondere mittels eines Mikrowellenplasmas, unter Verwendung eines Edelgases durchführbar ist.
- Vorrichtung nach
Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass das Edelgas aus der Gruppe Ne, Ar, Kr und/oder Xe genommen wird; bevorzugt als Edelgas nur Ar, gegebenenfalls mit Restluft, genommen wird. - Vorrichtung nach
Anspruch 1 oder2 , dadurch gekennzeichnet, dass im Förderweg des Behälters in die Vorrichtung vor dieser ein Heiztunnel vorhanden ist. - Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Behälter ein Kunststoff-Behälter, insbesondere aus PP, PE, PET oder POC, ist.
- Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Plasmakammer Teil eines Plasmarades ist, das eine Mehrzahl solcher Plasmakammern aufweist.
- Verfahren zur Heizung eines Behälters mittels einer Vorrichtung gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Heizung mittels eines Plasmas in einem Druckbereich von 1-25 mbar, bevorzugt in einem Druckbereich von 1-5 mbar oder in einem Druckbereich von 15-25 mbar, unter Verwendung eines Edelgases erfolgt.
- Verfahren nach
Anspruch 6 , dadurch gekennzeichnet, dass das Edelgas aus der Gruppe Ne, Ar, Kr und/oder Xe genommen wird; bevorzugt als Edelgas nur Ar, gegebenenfalls mit Restluft, genommen wird. - Verfahren nach
Anspruch 6 oder7 , dadurch gekennzeichnet, dass die durch das Plasma eingebrachte mittlere Leitung im Bereich von 80-670 W, insbesondere bei 500 W, liegt und/oder die Pulsleistung im Bereich von 250-2.000 W, insbesondere bei 1.500 W, liegt. - Verfahren nach einem der
Ansprüche 6 bis8 , dadurch gekennzeichnet, dass die Temperatur des Behälters im Bereich von 30-75°C, bevorzugt im Bereich von 33-70°C und besonders bevorzugt bei 50°C, liegt. - Verfahren nach einem der
Ansprüche 6 bis9 , dadurch gekennzeichnet, dass die Heizung eine Zyklusdauer im Bereich von 0-5.000 ms aufweist, insbesondere 3.000 ms, mit einer Pulsdauer im Bereich von 1-20 ms, bevorzugt 10 ms, und einer Pausendauer im Bereich von 10-50 ms, bevorzugt 20 ms. - Verfahren nach einem der
Ansprüche 6 bis10 , dadurch gekennzeichnet, dass vor dieser Heizung eine Vorheizung des Behälters auf eine Temperatur im Bereich von 80-200°C stattfindet, insbesondere in einem Heiztunnel, der in einem Zulauf zur Plasmakammer angeordnet ist. - Verfahren nach einem der
Ansprüche 6 bis11 , dadurch gekennzeichnet, dass im Anschluss an die Verfahrensschritte eine Beschichtung des Behälterinnenraums mit einer Barriereschicht und danach eine Beschichtung mit Siliciumoxid erfolgt und daran anschließend eine Heißfüllung des Behälters mit einem Füllgut erfolgt, das heißer als 50°C, bevorzugt heißer als 70°C, besonders bevorzugt heißer als 90°C ist.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102018114776.7A DE102018114776A1 (de) | 2018-06-20 | 2018-06-20 | Vorrichtung zum Beschichten von Behältern mit einer Barriereschicht und Verfahren zur Heizung eines Behälters |
US17/253,365 US20220013334A1 (en) | 2018-06-20 | 2019-06-19 | Device for coating containers with a barrier layer, and method for heating a container |
EP19732336.3A EP3810826A1 (de) | 2018-06-20 | 2019-06-19 | Vorrichtung zum beschichten von behältern mit einer barriereschicht und verfahren zur heizung eines behälters |
PCT/EP2019/066112 WO2019243378A1 (de) | 2018-06-20 | 2019-06-19 | Vorrichtung zum beschichten von behältern mit einer barriereschicht und verfahren zur heizung eines behälters |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102018114776.7A DE102018114776A1 (de) | 2018-06-20 | 2018-06-20 | Vorrichtung zum Beschichten von Behältern mit einer Barriereschicht und Verfahren zur Heizung eines Behälters |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102018114776A1 true DE102018114776A1 (de) | 2019-12-24 |
Family
ID=66999830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102018114776.7A Pending DE102018114776A1 (de) | 2018-06-20 | 2018-06-20 | Vorrichtung zum Beschichten von Behältern mit einer Barriereschicht und Verfahren zur Heizung eines Behälters |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220013334A1 (de) |
EP (1) | EP3810826A1 (de) |
DE (1) | DE102018114776A1 (de) |
WO (1) | WO2019243378A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102020130917A1 (de) | 2020-11-23 | 2022-05-25 | Khs Corpoplast Gmbh | Mehrweg-Kunststoffbehälter, Verfahren zum Waschen von solchen Behältern, Verfahren zum Beschichten von solchen Behältern und Behälterbehandlungsmaschine für die Getränkeindustrie |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69117077T2 (de) * | 1990-03-06 | 1996-06-27 | Sumitomo Electric Industries | Verfahren zum Aufwachsen einer Dünnschicht aus Diamant oder c-BN |
WO1998040531A1 (en) | 1997-03-14 | 1998-09-17 | The Coca-Cola Company | Plastic containers with an external gas barrier coating |
EP0821079B1 (de) | 1996-07-24 | 1999-12-29 | Schott Glas | CVD-Verfahren und Vorrichtung zur Innenbeschichtung von Hohlkörpern |
DE102006058771A1 (de) * | 2006-12-12 | 2008-06-19 | Schott Ag | Behälter mit verbesserter Restentleerbarkeit und Verfahren zu dessen Herstellung |
WO2012122559A2 (en) | 2011-03-10 | 2012-09-13 | KaiaTech, Inc. | Method and apparatus for treating containers |
DE102012110131A1 (de) * | 2012-10-24 | 2014-04-24 | Schott Ag | Verbundmaterial für ein pharmazeutisches Packmittel, Verfahren zu dessen Herstellung und Verwendung des Verbundmaterials |
DE102016105548A1 (de) | 2016-03-24 | 2017-09-28 | Khs Plasmax Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabehandlung von Behältern |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19802333A1 (de) * | 1998-01-23 | 1999-07-29 | Leybold Systems Gmbh | Barriereschicht für Verpackungsmaterial und Verfahren zur Herstellung einer Barriereschicht für Verpackungsmaterial |
JP4595276B2 (ja) * | 2000-12-25 | 2010-12-08 | 東洋製罐株式会社 | マイクロ波プラズマ処理方法及び装置 |
EP1507885B1 (de) * | 2002-05-24 | 2016-06-29 | KHS Corpoplast GmbH | Verfahren und vorrichtung zur plasmabehandlung von werkstücken |
US9725802B2 (en) * | 2014-11-11 | 2017-08-08 | Graham Packaging Company, L.P. | Method for making pet containers with enhanced silicon dioxide barrier coating |
KR20190049881A (ko) * | 2016-09-30 | 2019-05-09 | 사빅 글로벌 테크놀러지스 비.브이. | 열가소성 물질 상의 플라스마 코팅 방법 |
-
2018
- 2018-06-20 DE DE102018114776.7A patent/DE102018114776A1/de active Pending
-
2019
- 2019-06-19 EP EP19732336.3A patent/EP3810826A1/de not_active Withdrawn
- 2019-06-19 WO PCT/EP2019/066112 patent/WO2019243378A1/de unknown
- 2019-06-19 US US17/253,365 patent/US20220013334A1/en active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69117077T2 (de) * | 1990-03-06 | 1996-06-27 | Sumitomo Electric Industries | Verfahren zum Aufwachsen einer Dünnschicht aus Diamant oder c-BN |
EP0821079B1 (de) | 1996-07-24 | 1999-12-29 | Schott Glas | CVD-Verfahren und Vorrichtung zur Innenbeschichtung von Hohlkörpern |
WO1998040531A1 (en) | 1997-03-14 | 1998-09-17 | The Coca-Cola Company | Plastic containers with an external gas barrier coating |
DE102006058771A1 (de) * | 2006-12-12 | 2008-06-19 | Schott Ag | Behälter mit verbesserter Restentleerbarkeit und Verfahren zu dessen Herstellung |
WO2012122559A2 (en) | 2011-03-10 | 2012-09-13 | KaiaTech, Inc. | Method and apparatus for treating containers |
DE102012110131A1 (de) * | 2012-10-24 | 2014-04-24 | Schott Ag | Verbundmaterial für ein pharmazeutisches Packmittel, Verfahren zu dessen Herstellung und Verwendung des Verbundmaterials |
DE102016105548A1 (de) | 2016-03-24 | 2017-09-28 | Khs Plasmax Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabehandlung von Behältern |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102020130917A1 (de) | 2020-11-23 | 2022-05-25 | Khs Corpoplast Gmbh | Mehrweg-Kunststoffbehälter, Verfahren zum Waschen von solchen Behältern, Verfahren zum Beschichten von solchen Behältern und Behälterbehandlungsmaschine für die Getränkeindustrie |
WO2022106350A1 (de) | 2020-11-23 | 2022-05-27 | Khs Gmbh | Mehrweg-kunststoffbehälter, verfahren zum waschen von solchen behältern, verfahren zum beschichten von solchen behältern und behälterbehandlungsmaschine für die getränkeindustrie |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3810826A1 (de) | 2021-04-28 |
US20220013334A1 (en) | 2022-01-13 |
WO2019243378A1 (de) | 2019-12-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2824564C2 (de) | Verfahren zum Herstellen von Halbleiterelementen wie Photodioden | |
DE69825138T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von dünnen Schichten einer Metallverbindung | |
DE19629877C1 (de) | CVD-Verfahren und Vorrichtung zur Innenbeschichtung von Hohlkörpern | |
EP1927124B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur innenseitigen plasmabehandlung von hohlkörpern | |
EP1415018A1 (de) | Verbundmaterial aus einem substratmaterial und einem barriereschichtmaterial | |
EP0778089A1 (de) | Einrichtung zum Herstellen einer polymeren Beschichtung an Kunststoff-Hohlkörpern | |
DE10202311A1 (de) | Vorrichtung zur Plasmabehandlung von dielektrischen Körpern | |
DE102006058771A1 (de) | Behälter mit verbesserter Restentleerbarkeit und Verfahren zu dessen Herstellung | |
EP1711643A2 (de) | Verfahren zur herstellung eines ultrabarriere-schichtsystems | |
DE4310286A1 (de) | Plasma-CVD-Verfahren und Vorrichtung zu dessen Durchführung | |
DE69919419T2 (de) | Vorrichtung zur Abscheidung eines Filmes und Verfahren zur Herstellung eines kristallinen Filmes aus Silizium | |
EP0948969A1 (de) | Verfahren zur Plasmabehandlung in Hohlkörpern | |
DE102018114776A1 (de) | Vorrichtung zum Beschichten von Behältern mit einer Barriereschicht und Verfahren zur Heizung eines Behälters | |
EP2630273A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur plasmabehandlung von werkstücken | |
DE4318084A1 (de) | Verfahren und Einrichtung zum Herstellen einer polymeren Deckschicht in Kunststoff-Hohlkörpern | |
DE102010056020A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Ausbilden einer dielektrischen Schicht auf einem Substrat | |
EP0739655A1 (de) | Verfahren zu plasmagestützten Herstellung multifunktionaler Schichten auf Kunststoffteilen | |
DE10006778A1 (de) | Verfahren zur Wärmebehandlung von flexiblen, bandförmigen CIS-Solarzellen und Wärmebehandlungsofen | |
DE2909804A1 (de) | Verfahren zum herstellen duenner, dotierter metallschichten durch reaktives aufstaeuben | |
EP2609619A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur prozessierung von wafern | |
DE10000663C2 (de) | Verfahren zum Beschichten eines Substrats | |
DE2624005C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen von dünnen Schichten auf ein Substrat nach dem "Ion-plating"-Verfahren. | |
DE2132796A1 (de) | Durchsichtige,elektrisch leitende Gegenstaende und Verfahren zu deren Herstellung | |
EP1655385B1 (de) | Verfahren zum Aufbringen optischer Beschichtungen | |
DE102008030677B4 (de) | Verfahen und Vorrichtung zur Diffusionsbehandlung von Werkstücken |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R082 | Change of representative |
Representative=s name: EISENFUEHR SPEISER PATENTANWAELTE RECHTSANWAEL, DE |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: KHS GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: KHS CORPOPLAST GMBH, 22145 HAMBURG, DE |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: EISENFUEHR SPEISER PATENTANWAELTE RECHTSANWAEL, DE |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: EISENFUEHR SPEISER PATENTANWAELTE RECHTSANWAEL, DE |