DE4318084A1 - Verfahren und Einrichtung zum Herstellen einer polymeren Deckschicht in Kunststoff-Hohlkörpern - Google Patents
Verfahren und Einrichtung zum Herstellen einer polymeren Deckschicht in Kunststoff-HohlkörpernInfo
- Publication number
- DE4318084A1 DE4318084A1 DE19934318084 DE4318084A DE4318084A1 DE 4318084 A1 DE4318084 A1 DE 4318084A1 DE 19934318084 DE19934318084 DE 19934318084 DE 4318084 A DE4318084 A DE 4318084A DE 4318084 A1 DE4318084 A1 DE 4318084A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- hollow body
- plasma
- vacuum chamber
- probe
- component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/12—Chemical modification
- C08J7/123—Treatment by wave energy or particle radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/62—Plasma-deposition of organic layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/52—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by electric discharge, e.g. voltolisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/045—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/505—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges
- C23C16/509—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges using internal electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
- H01J37/32211—Means for coupling power to the plasma
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D2201/00—Polymeric substrate or laminate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/22—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to internal surfaces, e.g. of tubes
- B05D7/227—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to internal surfaces, e.g. of tubes of containers, cans or the like
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Einrichtung ge
mäß dem Oberbegriff des Anspruches 1 bzw. dem des Anspruches
25.
Bei einem durch die DE-PS 36 32 748 bekannten derartigen Ver
fahren zur Bildung diffusionshemmender Schichten mittels
Plasmapolymerisation von nicht näher bezeichneten Monomeren
erfolgt die Plasmaanregung durch von außen eingekoppelte Mi
krowellen. Ein auf diese Weise angeregtes Plasma wird für
Hohlkörper kleineren Volumens geeignet sein. Bei Hohlkörpern
größeren Volumens ist jedoch ein mittels Mikrowellen angereg
tes Plasma nur bei Anwendung zusätzlicher Maßnahmen so gleich
mäßig, wie es zur Erzeugung einer Deckschicht erforderlich
ist, die auch bei größerer Flächenausdehnung, wie sie bei
einem Hohlkörper größeren Volumens, beispielsweise einem Kfz.-
Tank gegeben ist, die erforderliche Gleichmäßigkeit aufweist.
An anderer Stelle wird berichtet, daß eine polymere Deck
schicht, die durch Mikrowellen-Plasmapolymerisation von Äthy
len bzw. Äthylen/Argonmischungen auf einem Kraftstoffbehälter
aufgebracht wurde, die Permeation von methanolfreiem Prüf
kraftstoff durch Hochdruck-Polyäthylen (HDPE) auf ca. 2% des
ursprünglichen Wertes vermindert. Dabei wird der Schluß gezo
gen, daß sich eine Verbesserung speziell mit einer Plasmaanre
gung durch Mikrowellen, nicht aber durch Wechselfrequenz im
MHz-Bereich erzielen läßt (R. Ludwig, "Plasmapolymerisation -
Ein Verfahren zur Erzeugung dünner Schichten", Dissertation an
der RWTH Aachen, 1989).
In DE-OS 39 08 418 wird die Plasmapolymerisation von polaren
Barriereschichten unter Anwendung eines Plasmas beschrieben,
das durch Wechselspannungen im MHz-Bereich angeregt wird.
Nachteilig ist, daß polare Barriereschichten eine abstoßende
Wirkung auf unpolare Bestandteile von Kraftstoffen, nicht je
doch in bezug auf Methanol ausüben, so daß die erzielbare Bar
rierewirkung bei methanolhaltigen Kraftstoffen nicht aus
reicht.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren ver
fügbar zu machen, welches die wirtschaftliche Herstellung we
nigstens einer großflächigen polymeren Deckschicht auf einem
Kunststoffsubstrat, insbesondere einem Kunststoffhohlkörper,
ermöglicht, wobei die Deckschicht trotz ihrer großflächigen
Ausdehnung möglichst einheitliche Eigenschaften aufweist und
somit eine ausreichende Barrierewirkung erzielt. Dies soll
auch bei einem methanolhaltigen Füllgut, beispielsweise metha
nolhaltigem Kraftstoff, der Fall sein. Die Deckschicht soll
eine Barrierewirkung gewährleisten, die den heutigen und ggf.
in Zukunft zu erwartenden Anforderungen an die Undurchlässig
keit derartiger Hohlkörper für das Füllgut genügt.
Diese Aufgabe wird mit den Merkmalen im Kennzeichen des An
spruches 1 gelöst.
Die Verwendung einer Radiofrequenz hat einmal den Vorteil, daß
die zur Erzeugung des Plasmas erforderliche Energie merklich
geringer ist als im Falle der Plasmaerzeugung durch Mikrowel
len. Dadurch ist das durch Radiofrequenz erzeugte Plasma weni
ger "scharf", welche Tatsache - unabhängig von der Menge der
zugeführten Schicht bildenden Komponenten - zu einem langsame
ren Reaktionsablauf führt mit der Folge, daß die durch Plasma
polymerisation aufgebrachte Deckschicht - bei sonst bei glei
chen Bedingungen - eine bessere Qualität als bei Verwendung
von Mikrowellen aufweist. Ein weiterer Vorteil besteht darin,
daß in einem durch Radiofrequenz angeregten Plasma die negativ
geladenen Elementarteilchen, die Elektronen, einen größeren
Bewegungsbereich aufweisen mit der Folge, daß aufgrund der da
durch bedingten Ausbildung der Randschichten des Plasmas Be
dingungen für die Bildung der Deckschicht durch Polymerisation
vorhanden sind, die bei Anwendung von Mikrowellen nicht er
reicht werden können.
Um die Durchlässigkeit der Deckschicht für Alkohol, insbeson
dere Methanol, zu minimieren, müssen die die Deckschicht bil
denden Substanzen möglichst unpolar sein. Dazu werden im we
sentlichen unpolare Ausgangssubstanzen verwendet, da letztere
diese Eigenschaft auch bei ihrer Polymerisation nicht verlie
ren und somit eine Deckschicht aus zumindest überwiegend unpo
laren Substanzen bilden. Bei den Ausgangssubstanzen kann es
sich erfindungsgemäß z. B. um gas- oder dampfförmige Kohlen
stoff- und Siliziumverbindungen handeln, die die Bildung hoch
vernetzter Polymerschichten erwarten lassen und zu einer per
meationsdichten Barriereschicht führen. Geeignete unpolare
Ausgangssubstanzen sind z. B. Kohlenwasserstoffe oder Siloxane.
In der praktischen Anwendung des Verfahrens gemäß der Erfin
dung wird es aus wirtschaftlichen Gründen auch darauf ankom
men, eine wirksame Abdeckschicht in möglichst kurzer Zeit her
zustellen. Als schichtbildende Komponenten können dabei Ver
bindungen eingesetzt werden, die unter Plasmabedingungen rela
tiv schnell eine polymere Deckschicht bilden. Dazu gehören
beispielsweise Olefine, z. B. Ethylen, gespannte Zykloalkane,
z. B. Zyklopropan, Aromaten, Heteroaromaten, z. B. Pyrrol oder
Thiophen. Im allgemeinen gilt dabei jedoch, daß mit zunehmen
der Geschwindigkeit der Schichtbildung der Vernetzungsgrad ab
nimmt, also überwiegend Ketten gebildet werden.
Da mit abnehmendem Vernetzungsgrad im allgemeinen auch die
Sperrwirkung abnimmt, kann es gemäß einem weiteren Vorschlag
der Erfindung zweckmäßig sein, neben dem Reaktionsgas, welches
die überwiegend kettenbildende Komponente schichtbildende Kom
ponente enthält, eine zusätzliche Komponente darstellende Mo
leküle in der das Plasma bildenden Gasatmosphäre vorzusehen,
die unter Plasmabedingungen innerhalb der sich bildenden poly
meren Deckschicht überwiegend Verzweigungsstellen in den Poly
merketten, insbesondere Vernetzungsstellen zwischen Polymer
ketten, erzeugen. Dafür haben sich hoch ungesättigte Kohlen
wasserstoffverbindungen, z. B. Acetylene oder Allene oder Ver
bindungen, die unter Plasmabedingungen solche hochgesättigten
Kohlenstoff-Verbindungen bilden, z. B. Cyclobuten, als beson
ders geeignet erwiesen.
Die Verzweigungs- bzw. Vernetzungsstellen ausbildende Kompo
nente kann zusätzlich zu der überwiegend kettenbildenden Kom
ponente in die das Plasma bildende Gasatmosphäre eingeführt
werden. Es besteht aber auch die Möglichkeit, daß beide
schichtbildenden Komponenten als Strukturelemente desselben
Moleküls in das Plasma eingeführt werden, wobei die Moleküle
dieser Ausgangssubstanz unter den Bedingungen des Plasmas in
Strukturen gespalten werden, die die beiden genannten Kompo
nenten bilden.
Die Geschwindigkeit der Bildung der Deckschicht hängt im all
gemeinen auch ab von der Menge der pro Zeiteinheit dem Plasma
zugeführten polymerisierbaren Substanzen, wobei mit zunehmen
der Menge pro Zeiteinheit auch die Geschwindigkeit, mit wel
cher die Deckschicht gebildet wird, zunimmt. Allerdings werden
hierbei im allgemeinen gewisse Grenzen einzuhalten sein, da es
sonst zur Bildung eines staubigen Niederschlages auf der Sub
stratoberfläche bzw. der sich bildenden Deckschicht kommen
kann. Die Bildung von derartigen Staubpartikeln ist insbeson
dere darauf zurückzuführen, daß Teile der schichtbildenden
Komponenten bereits vor Erreichen der Oberfläche des Sub
strates bzw. der sich bildenden Deckschicht "kondensieren",
also von der gas- oder dampfförmigen Phase in die flüssige und
schließlich in die feste Phase übergehen. Der Nachteil der
Bildung derartiger Staubpartikel besteht darin, daß sie sich
auf der Oberfläche des Substrates bzw. der sich bildenden
Deckschicht absetzen mit der Folge, daß sich an diesen Stellen
keine porenfreie Deckschicht bildet und nach späterem Ablösen
der Staubpartikel von der Oberfläche an diesen Stellen die Be
schichtigung nicht die notwendige Undurchlässigkeit aufweist.
Außerdem ist die Bildung von Staub innerhalb von Behältern,
insbesondere von Kraftstoffbehältern, generell unerwünscht.
Es kann somit bei Vorliegen bestimmter Betriebsbedingungen
zweckmäßig sein, der in das Plasma einzuführenden Ausgangssub
stanz noch eine der Bildung von Staub entgegenwirkende Kompo
nente hinzuzufügen. Dabei kann es sich um inerte Gase oder
Dämpfe handeln, die das Reaktionsgas verdünnen, so daß die Po
lymerisation in der Gasphase verlangsamt wird. Dies wird al
lerdings nur dann zweckmäßig sein, wenn dadurch die Ge
schwindigkeit, mit welcher die Deckschicht gebildet wird, die
Wirtschaftlichkeit des Verfahrens nicht beeinträchtigt. Eine
Vermeidung oder zumindest Verringerung der Staubbildung kann
aber auch dadurch erreicht werden, daß als Staubverhinderer
solche Substanzen hinzugefügt werden, die im Plasma reaktive
Teilchen, z. B. Monoradikale bilden, die die Entstehung großer
Aggregate in der Gasphase hemmen. Derartige die Staubbildung
hemmende Substanzen wirken im wesentlichen in der Weise, daß
einige der Valenzen der schichtbildenden Komponenten gesättigt
werden, wodurch die Teilchen der letzteren weniger reaktiv
sind. Dies hat zur Folge, daß die Polymerisation erst auf der
Oberfläche des Substrats bzw. der in der Bildung befindlichen
Deckschicht erfolgt, so daß eine bereits in der Gasphase
stattfindende Polymerisation, die letzten Endes, abgesehen von
der möglichen Porenbildung, die Effizienz der Schichtbildung
herabsetzt, vermieden wird.
Als inerter Staubverhinderer, die die Konzentration der poly
merisierenden Teilchen verringern, können Argon oder Helium
eingesetzt werden. Als Bildner von reaktiven Teilchen, deren
Reaktion mit den schichtbildenden Komponenten hingegen die Ge
schwindigkeit der Bildung der Abdeckschicht kaum verringert,
kommen H₂, CH₄, N₂, Ethan und andere niedere Alkane in Frage.
In der Zeichnung sind einige Ausführungsbeispiele im Schema
dargestellt. Es zeigen:
Fig. 1 eine erste Ausführungsform einer Einrichtung zum
Aufbringen einer polymeren Deckschicht auf der in
neren Oberfläche eines Hohlkörpers aus Kunststoff,
Fig. 2 eine der Fig. 1 entsprechende Darstellung einer
zweiten Ausführungsform,
Fig. 3 die Darstellung einer dritten Ausführungsform,
Fig. 4 eine Einrichtung zum gleichzeitigen Behandeln
mehrerer Hohlkörper,
Fig. 5 eine Einzelheit in größerem Maßstab.
Beim Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 1 ist eine Vakuumkammer 10
vorhanden, innerhalb derer Kraftstoff-Tanks aus thermoplasti
schem Kunststoff mit einer Innenbeschichtung in Form einer
polymeren Deckschicht zu versehen sind. In Abhängigkeit von
der Größe des jeweils zu behandelnden Tanks 12 kann die Vaku
umkammer ein Volumen von beispielsweise 300 l aufweisen. Die
Vakuumkammer 10 ist vorzugsweise an einer ihrer Stirnseiten
mit einer verschließbaren Öffnung versehen, durch die der je
weils mit der Beschichtung zu versehende Tank 12 in die Vaku
umkammer 10 eingebracht werden kann. Die Vakuumkammer wird an
schließend verschlossen und danach gemeinsam mit dem Tank 12
durch eine Vakuumpump-Einrichtung 14 evakuiert. Die Verbindung
zwischen Vakuumpump-Einrichtung 14 und dem Innenraum 16 der
Vakuumkammer 10 wird über eine Leitung 18 hergestellt, die mit
einem Ventil 20 versehen ist.
Das Innere des Tanks 12 ist über eine Leitung 22 mit der Vaku
umpump-Einrichtung 14 verbunden. In der Leitung 22 ist ein
Ventil 24 angeordnet. Die Öffnung des Tankes 12, durch welche
die Evakuierung erfolgt, ist durch einen lösbaren Schnellver
schluß 26 in Form einer Kappe oder dgl. verschlossen, die mit
tels beispielsweise eines Bajonettverschlusses am Stutzen 28
des Tanks angebracht werden kann. Die Leitung 22 für die Eva
kuierung des Tanks 12 ist mit einer Öffnung in diesem Deckel
dicht verbunden. Eventuell weitere noch am Tank 12 vorhandene
Öffnungen, die beispielsweise herstellungsbedingt sein können,
sind zuvor verschlossen worden. Es kann aber auch zweckmäßig
sein, solche weiteren Öffnungen, die bei Verwendung des Tanks
beispielsweise in einem Kfz. erforderlich sind, nach der Be
schichtung mittels Plasmapolymerisation anzubringen.
Innerhalb des Tankes 12 ist in der üblichen Weise eine Sonde
30 angeordnet, die der Zuführung der Ausgangssubstanz(en) zur
Bildung der polymeren Deckschicht dient. Die Sonde 30 ist
ebenfalls mit der Kappe oder dgl. des Schnellverschlusses 26
dicht verbunden, die dazu mit einer weiteren Öffnung versehen
ist, an welcher eine Zuleitung 32 angeschlossen ist. Die Zu
leitung 32 stellt eine Sammelleitung dar, in welche unter Zwi
schenschaltung jeweils eines Absperrorgans 34 Leitungen 36,
38, 40 münden, die jeweils mit nicht dargestellten Vorratsbe
hältern oder dgl. für mindestens eine Ausgangssubstanz und
ggf. weitere Substanzen(en) verbunden sind. So kann beispiels
weise über die Leitung 36 die Ausgangssubstanz für die über
wiegend kettenbildende Komponente zugeführt werden. Die Lei
tung 38 kann der Zuführung der Ausgangssubstanz(en) für die
überwiegend die Verzweigungs- bzw. Vernetzungsstellen ausbil
dende Komponente dienen. Über die Leitung 40 kann die Kompo
nente zugeführt werden, die die Staubbildung innerhalb des
Tankes 12 hemmt.
Die Evakuierung des Innenraums 16 der Vakuumkammer 10 und des
Tanks 12 erfolgt zunächst gemeinsam. Bei Erreichen eines
Druckes von ca. 1000 Pa wird das Ventil 20 geschlossen, so daß
der Druck innerhalb des Raumes 16 nicht unter 1000 Pa fällt.
Das Innere des Tanks 12 wird weiter bis zu einem Druck von ca.
1 Pa evakuiert. Anschließend wird über Leitung 32 und Sonde
ein Gasgemisch aus z. B. 50% Ethylen, 30% Acetylen und 20% Me
than in den Tank 12 geben. Mit Hilfe des Drosselventils 24
wird bei laufender Pumpe ein Druck von 6 Pa eingestellt. Die
Durchflußraten für die vorgenannten Gase betragen jeweils 25
bzw. 15 bzw. 10 cm³/min, d. h., daß der größte Anteil im Gas
gemisch auf die überwiegend kettenbildende und der geringste
Anteil auf die Staub hemmende Komponente entfällt.
Danach wird eine innerhalb der Vakuumkammer in einem geringen
Abstand vom Tank 12 oberhalb desselben angeordnete Flächen
elektrode 44 an eine Hochfrequenzspannung von 13,56 MHz mit
einer Leistung von 100 W angelegt. Dies führt zur Zündung
eines Plasmas innerhalb des Tankes 12, welches während etwa 30
min aufrechterhalten wird. Außerhalb des Tanks 12 im Innenraum
16 entsteht kein Plasma, da dazu der Druck im Innenraum 16 zu
hoch ist. Außerdem wirkt die Positionierung der Elektrode 44
der Zündung eines Plasmas im Innenraum 16 entgegen. Der Tank
12 liegt innerhalb der Vakuumkammer 10 auf einer geerdeten Auf
lage 46, die die zweite Elektrode darstellt.
Während des Beschichtungsvorganges wird das Plasma mit einem
optischen Sensor, der die Helligkeit des Plasmas integral im
Wellenbereich von 300 bis 900 nm detektiert. Diese Maßnahme
dient insbesondere der Konstanthaltung des Plasmas, um so die
Bildung einer Deckschicht mit reproduzierbaren Eigenschaften zu
erhalten.
Anschließend wird die Hochfrequenzspannung abgeschaltet, der
Gaszufluß unterbrochen und erneut auf 1 Pa evakuiert. Nach
Beendigung des Evakuierens werden Kammer 10 und Tank 12 belüf
tet. Schnellverschluß 26 und Sonde 30 werden entfernt. Auf der
gesamten Innenfläche des Tanks 12 hat sich eine dichte Schicht
mit einer Dicke von 0,1 bis 0,4 µm gebildet, die die Durchläs
sigkeit der Wandung des Tankes 12 für einen Testkraftstoff,
der aus 85% n-Pentan und 15% Methanol besteht nach ECE 34 auf
0,4 g/d vermindert. Bei unbehandelten Tanks beträgt die Durch
lässigkeit etwa 20 g/d.
Das Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 2 stimmt in wesentlichen
Teilen mit dem gemäß Fig. 1 überein, so daß gleiche Teile mit
gleichen, jedoch um 100 höheren Bezugszeichen versehen sind.
Der wesentliche Unterschied besteht darin, daß bei der Ein
richtung gemäß Fig. 2 die innerhalb des Tanks 112 angeordnete
Sonde 130 als Elektrode dient, an welcher eine Wechselspannung
von 125 KHz und mit einer Leistung von 150 W angelegt wird.
Die auch hier verwendete Flächenelektrode 144 ist geerdet. Die
Konstanz des sich innerhalb des Tankes 112 ausbildenden Plas
mas wird mit einer speziellen Ionenstrom- oder einer Langmuir-
Sonde, die an der Sonde 130 angebracht ist, überwacht. Das Re
aktionsgas besteht in diesem Fall aus 50% Ethylen und 50% Aze
thylen. Es wurde festgestellt, daß bei diesen Betriebsbe
dingungen auf die Zuführung einer staubhemmenden Komponente
verzichtet werden kann. D. h., daß die Ausgangssubstanzen in
diesem Fall lediglich über die Leitungen 136, 138 zugeführt
werden.
In der Ausführungsform gemäß Fig. 3 sind ebenfalls jene Teile,
die denen des Ausführungsbeispiels gemäß Fig. 1 entsprechen,
mit gleichen, jedoch um 200 höheren Bezugszeichen versehen.
Der wesentliche Vorteil des Ausführungsbeispiels gemäß Fig. 3
besteht in der Verwendung einer Vakuumkammer 210, deren Wan
dung weitgehend an die Gestalt des in der Vakuumkammer zu be
handelnden Kunststofftankes 212 angepaßt ist. D.h., daß die
innere Begrenzung der Vakuumkammer 210 im wesentlichen der
äußeren Begrenzung des Tankes 212 entspricht. Ein wesentlicher
Vorteil dieser Anordnung besteht in dem geringen Volumen des
vom Tank 212 nicht ausgefüllten Innenraums 216 der Vakuumkam
mer, wodurch die für die Evakuierung dieses Innenraumes 216
erforderliche Zeit erheblich reduziert und die Übertragung der
Radiofrequenzspannung in das Innere des Tankes 212 optimiert
wird. Dies führt zu einer merklichen Verkürzung der für das
Aufbringen einer Beschichtung mit bestimmten Qualitäten erfor
derlichen Behandlungsdauer im Vergleich zu den Aus
führungsbeispielen gemäß Fig. 1 und 2. Insgesamt wird auch der
Investitionsaufwand für die Einrichtung reduziert.
Zur Erleichterung der Handhabung der Einrichtung ist die Vaku
umkammer 220 etwa hälftig unterteilt derart, daß eine untere
Hälfte 210a und eine obere Hälfte 210b entstehen, von denen
die obere Hälfte 210b als Deckel ausgebildet ist, der von der
unteren, stationären Hälfte 210a abgenommen werden kann. Die
beiden Teile 210a, 210b sind durch eine Dichtung 248 aus gum
mielastischem Material gegeneinander elektrisch isoliert.
Diese Dichtung bewirkt in geschlossenem Zustand der Kammer 210
zugleich deren Abdichtung gegenüber der Außenatmosphäre.
Von der Vakuumpumpeinrichtung 214 geht eine Leitung 218 für
die Evakuierung der Vakuumkammer 210 ab. Die andere Sauglei
tung 222 ist so ausgebildet und angeordnet, daß sie mit einem
an ihrem Endbereich angebrachten Flansch 250, der konisch aus
gebildet ist, unter Zwischenschaltung eines Dichtringes 252,
an dem eine Öffnung 254 der Vakuumkammer 210 begrenzenden
Wandteil der Kammer anliegt, so daß die Öffnung 252 durch den
Flansch 250 der Saugleitung 222 verschlossen wird. Die Öffnung
des Tanks 212 ist auch hier durch die Kappe eines Schnellver
schlusses 216 verschlossen, der mit einer zusätzlichen Öffnung
für das Vakuum versehen ist. Die Anordnung kann aber auch so
getroffen sein, daß die Saugleitung 252 mit ihrem freien Ende
in den Stutzen 228 des Tanks 212 eingreift und diesen dabei
nach außen abdichtet. Dazu könnte die Saugleitung mit einem
Abschnitt kleineren Durchmesser versehen sein, der über den
Flansch 250 in Richtung auf den Tank vorsteht.
Auch hier ist eine innerhalb des Tankes 212 angeordnete Sonde
230 vorgesehen, durch die die für die Bildung der polymeren
Deckschicht erforderlichen Substanzen und ggf. auch die die
Bildung von Staub hemmende Komponente eingeführt werden. Der
Sonde können darüberhinaus auch die anderen Einrichtungen für
Überwachung des Plasmas usw. zugeordnet sein. Saugleitung 222
und Sonde 230 sowie weitere zugeordnete Teile können so ange
ordnet sein, daß beim Einlegen des Tanks 212 in die Vakuumkam
mer Saugleitung 222 und Sonde 230 mit zugeordneten Teilen
zwangsläufig in die richtige Lage zum Tank 212 gebracht wer
den. Beim Schließen der Vakuumkammer 210 durch entsprechende
Positionierung der oberen Hälfte 210b erfolgt dann die endgül
tige Abdichtung der Vakuumkammer gegen die Außenatmosphäre und
die Abdichtung des in der Kammer 210 befindlichen Tanks 212
gegenüber dem Innenraum 216 der Vakuumkammer.
Zur Erzeugung des Plasmas kann eine Radiofrequenz im Bereich
von 30 bis ca. 500 KHz bzw. 6,78, 13,56 oder 40,68 MHz ange
legt werden. Fig. 3 zeigt eine Ausführungsform, bei welcher
die Radiofrequenz potentialfrei kapazitiv an beiden Teilen
210a, 210b angelegt ist. Es besteht aber auch die Möglichkeit,
analog der Ausführungsform gemäß Fig. 2 die Sonde 230 als
Elektrode zu verwenden, wobei beide Hälften 210a, 210b geerdet
sind. Eine andere Möglichkeit besteht darin, die Radiofrequenz
an eine der beiden Hälften 210a, 210b anzulegen und die je
weils andere Hälfte zu erden.
Das Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 4, in welcher dem Ausfüh
rungsbeispiel gemäß Fig. 1 entsprechende Teile mit gleichen,
jedoch um 300 höheren Bezugszeichen versehen sind, ist mit
einer Vakuumkammer 310 versehen, die so groß ist, daß sie die
gleichzeitige Behandlung mehrerer, z. B. zehn auf einem Be
schickungswagen 360 angeordneter Tanks 312 ermöglicht. Dabei
ist in Übereinstimmung mit dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig.
2 eine oberhalb der Gesamtheit aller Tanks 312 angeordnete
Flächenelektrode 344 vorgesehen, die entsprechend dimensio
niert und geerdet ist. In jeden der Tanks 312 wird eine Sonde
eingeführt. Die einzelnen Tanks 312 sind in der bereits im Zu
sammenhang mit den Fig. 1 und 2 beschriebenen Weise mit
einem Schnellverschluß 326 versehen, der die Sonde trägt und
gleichzeitig auch mit einem Durchlaß für die Ausgangssub
stanz(en) für die polymere Deckschicht versehen ist. Die Zu
leitungen 332 sämtlicher Tanks 312 sind an eine gemeinsame
Versorgungsleitung 362 angeschlossen, die wiederum in geeigne
ter Weise mit Vorratsbehältern für die einzelnen Komponenten
verbunden ist, wie dies im Zusammenhang mit Fig. 1 beschrie
ben wird. Ferner sind die Saugleitungen 322 sämtlicher Tanks
312 an eine gemeinsame zentrale Saugleitung 364 angeschlossen.
Über die elektrische Leitung 315 wird die Wechselspannung an
die Sonden 330 angelegt. Diese Wechselspannung kann z. B. 13.56
MHz betragen.
Die zu behandelnden Tanks 312 können außerhalb der Vakuumkam
mer 310 auf den Beschickungswagen 360 gelegt werden, der dann
in die Vakuumkammer 310 eingefahren wird. Über eine Schnell
kupplung ggf. auch über eine gemeinsame Schnellkupplung für
alle Leitungen, können dann die Verbindungen für die Gaszu
fuhrleitungen und die Leitung zum Evakuieren der einzelnen
Tanks 312 und für den Anschluß der Wechselspannung herge
stellt werden.
Fig. 5 zeigt einige Einzelheiten einer möglichen Ausgestaltung
der Absaugleitung für den Tank und die in den Tank einzufüh
rende Sonde mit weiteren Teilen und Einrichtungen. Im folgen
den werden dazu die Bezugszeichen des Ausführungsbeispiels ge
mäß Fig. 3 verwendet, wenngleich die in Fig. 5 dargestellte
Anordnung auch mit geringfügigen Änderungen bei den anderen
Ausführungsbeispielen verwendet werden kann. Die Zuleitung 232
wird durch die Wandung des Saugrohres 222 in dieses einge
führt. Es erstreckt sich nach einer rechtwinkeligen Abbiegung
im wesentlichen koaxial durch das Saugrohr 222 hindurch in
Richtung auf den Tank, in den hinein es sich als Sonde 220
fortsetzt. Die Sonde ist mit Bohrungen 270 für den Austritt
der gas- bzw. dampfförmigen Ausgangssubstanz(en) versehen.
Ferner ist eine Lichtleitfaser 272 vorgesehen, die im wesent
lichen parallel zur Leitung 232 verläuft und etwa am Übergang
von dieser zur Sonde 230 endet, so daß in der Betriebslage der
Teile eine Beobachtung des Plasmas im Tank möglich ist. An
diesem Ende ist die Lichtleitfaser 272 durch ein Fenster 274
verschlossen, durch welches die Beobachtung des im Tank 212
gezündeten Plasmas erfolgt. Dem Fenster 274 ist eine Wider
standsheizung 276 zugeordnet, durch die das Fenster 274 auf
eine Temperatur erwärmt wird, die das Absetzen einer Deck
schicht auf diesem Fenster vermeidet, so daß es durchsichtig
bleibt. Die elektrischen Zuleitungen für die Heizung 276 sind
mit 278 bezeichnet.
Im Falle der Ausführungsform gemäß den Fig. 1 und 2 wurde
das Saugrohr am Schnellverschluß 26 bzw. 126 enden können,
während die Zuleitung 232 für die Ausgangssubstanz durch eine
Durchbrechung in der Kappe oder dergleichen des Schnellver
schlusses hindurchgeführt wäre. Letzteres gilt auch für die
Lichtleitfaser und die elektrischen Zuleitungen für die dem
Fenster zugeordnete Widerstandsheizung.
Abweichend von sämtlichen in der Zeichnung dargestellten Aus
führungsbeispielen besteht auch die Möglichkeit, mehr als eine
Sonde innerhalb desselben Hohlkörpers vorzusehen. Dabei sollte
die Anordnung nach Möglichkeit so getroffen sein, daß die Son
den unterschiedlichen Bereichen des Inneren des Hohlkörpers
zugeordnet sind. Die Sonden können durch unterschiedliche Öffnungen
in der Wandung des Hohlkörpers in diesen eingeführt
sein. Dies bereitet im allgemeine keine Schwierigkeiten, da,
wie bereits an anderer Stelle erwähnt, insbesondere Kfz.-Tanks
ohnehin mit zwei oder sogar mehr Öffnungen zu versehen sind.
Die Verwendung von zwei oder mehr Sonden in einem Hohlkörper
wird insbesondere dann vorteilhaft sein, wenn dieser Hohlkör
per sehr unregelmäßig ausgebildet ist, beispielsweise in Form
eines sogenannten Satteltanks, bei welchem zwei größere Teil
bereiche des Innenraums des Hohlkörpers durch einen Zwischen
bereich mit geringen Querschnittsabmessungen miteinander ver
bunden sind. Insbesondere in solchen Fällen kann es
zweckmäßig sein, in jedem Teilbereich eine Sonde vorzusehen,
um so ein im gesamten Innenraum des Tanks möglichst gleich
mäßiges Plasmas zu erzeugen, da ein über das Innere des Hohl
körpers verteiltes gleichmäßiges Plasma auch zur Ausbildung
einer uniformen polymeren Deckschicht an der gesamten Innen
wandung des Hohlkörpers führt. Bei Verwendung von mehr als
einer Sonde innerhalb eines Hohlkörpers können die Ausgangs
substanz(en) auch durch mehr als eine Sonde zugeführt werden.
Andererseits besteht auch die Möglichkeit, eine der Sonden le
diglich als Elektrode auszubilden. Wie dabei im einzelnen Ver
fahren wird, hängt von den Umständen des Einzelfalles ab. Im
allgemeinen wird eine Zuführung der Ausgangssubstanz(en) durch
mehrere Sonden ebenfalls zur Gleichmäßigkeit des Plasmas und
damit zur Uniformität der herzustellenden Deckschicht beitra
gen. Selbstverständlich ist bei Verwendung von mehr als einer
Sonde bzw. mehr als einer innerhalb des Hohlkörpers angeordne
ten Elektrode dafür zu sorgen, daß alle Öffnungen verschlossen
sind, um die für die Bildung des Plasmas erforderlichen
Bedingungen innerhalb des Hohlkörpers schaffen zu können.
Claims (40)
1. Verfahren zum Herstellen wenigstens einer polymeren Deck
schicht auf wenigstens einem Teilbereich der inneren Oberflä
che eines teilweise aus Kunststoff bestehenden Hohlkörpers un
ter Anwendung der Niederdruck-Plasmapolymerisation, dadurch
gekennzeichnet, daß die das von einer Radiofrequenz erzeugte
Plasma bildende Gasatmosphäre wenigstens eine unter den jewei
ligen Plasmabedingungen polymerisierbare, im wesentlichen un
polare gas- und/oder dampfförmige Ausgangssubstanz enthält.
2. Verfahren insbesondere nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß die das Plasma bildende Gasatmosphäre eine mit
ausreichender Geschwindigkeit überwiegend kettenbildende Kom
ponente und eine überwiegend Verzweigungs- bzw. Vernetzungs
stellen ausbildende Komponente enthält.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
das Plasma bildende Gasatmosphäre eine der Bildung von Staub
entgegenwirkende Komponente enthält.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als
der Bildung von Staub entgegenwirkende Komponente inerte Gase
oder Dämpfe dem Plasma zugesetzt werden.
5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als
der Bildung von Staub entgegenwirkende Komponente solche Sub
stanzen hinzugefügt werden, die im Plasma reaktive Teilchen,
z. B. Monoradikale bilden, die die Bildung großer Aggregate in
der Gasphase hemmen.
6. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet,
daß wenigstens zwei der Komponenten aus voneinander verschie
denen Gasen und/oder Dämpfen bestehen.
7. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet,
daß wenigstens zwei der Komponenten als Strukturelemente des
selben Moleküls in das Plasma eingeführt werden.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß der mit wenigstens einer Deckschicht zu
versehende Bereich des Substrates einer Vorbehandlung und/oder
Nachbehandlung mit einem nicht beschichtenden Plasma unterzo
gen wird.
9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das
Aufbringen der wenigstens einen Deckschicht auf die innere
Oberfläche des Behälters innerhalb einer Vakuumkammer erfolgt.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der
Druck innerhalb des Hohlkörpers 1-150 Pa beträgt.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß
der Druck innerhalb des Hohlkörpers 3-20 Pa beträgt.
12. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der
Druck außerhalb des Hohlkörpers innerhalb der Vakuumkammer so
gewählt ist, daß das Entstehen eines Plasmas ausgeschlossen
ist.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß
der Druck außerhalb des Hohlkörpers in der Vakuumkammer höher
als der Druck innerhalb des Hohlkörpers und so gewählt ist,
daß eine unzulässige Verformung des Hohlkörpers unter der Ein
wirkung des Druckunterschiedes vermieden wird.
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß
der Druck in der Vakuumkammer außerhalb des darin befindli
chen Hohlkörpers größer als 5 mbar ist.
15. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß das Plasma mit einer Radiofrequenz von
30 KHz-100 MHz erzeugt wird.
16. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß die Radiofrequenz-Leistungsdichte 0,25-
20 W/dm³, vorzugsweise 0,5-10 W/dm³ Volumen innerhalb des
Hohlkörpers beträgt.
17. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß die Durchflußrate aller wirksamen Kompo
nenten der das Plasma bildenden Gasatmosphäre 5 cm³/min-1000
cm³/min, vorzugsweise 10 cm³/min-150 cm³/min beträgt.
18. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
überwiegend kettenbildende Komponente aus wenigstens einer
unter Plasmabedingungen leicht polymerisierenden Verbindung,
z. B. einem Monoolefin, Cycloalkan, Nitril, Aromat oder Hete
roaromat, vorzugsweise Ethylen, Propen, Buten, Isobuten, Cy
clopropan, Pyrrol, Thiophen besteht.
19. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
überwiegend vernetzende Komponente aus einer Verbindung mit
wenigstens einer C=C-Dreifachbindung, vorzugsweise Acetylen
oder mit kumulierten C=C-Doppelbindungen, bevorzugt Allen, be
steht.
20. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß als
überwiegend vernetzende Komponente eine hoch ungesättigte
Kohlenstoffverbindung, z. B. ein Diolefin, bevorzugt Butadien,
oder Isopren, ein Alkenin, z. B. Vinylacetylen, ein Al
kenylaromat, insbesondere Styrol, ein Alkinylaromat oder ein
Alkenylnitril, z. B. Acrylnitril, verwendet wird.
21. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß als
sowohl kettenbildende als auch vernetzende Komponenten lie
fernde Substanz ein Siloxan, z. B. Hexamethyldisiloxan, ein Si
lazan, z. B. Hexamethyldisilazan, oder ein organisch substitu
iertes Silan, vorzugsweise ein Alkenyl- oder Alkoxylsilan,
z. B. Vinyltrimethylsilan, oder Triethoxyvinylsilan verwendet
werden.
22. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als
staubverhindernde Komponente ein Edelgas, vorzugsweise, Argon,
verwendet wird.
23. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als
staubverhindernde Komponente eine Verbindung, die im Plasma
Monoradikale bildet, z. B. H₂, N₂, NH₃ oder ein niederes
Alkan, vorzugsweise CH₄, verwendet wird.
24. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
mehrere Hohlkörper gleichzeitig innerhalb einer Vakuumkammer
behandelt werden.
25. Einrichtung zum Herstellen wenigstens einer polymeren
Deckschicht auf wenigstens einem Teilbereich der inneren Ober
fläche eines zumindest teilweise aus Kunststoff bestehenden
Hohlkörpers (12; 112; 212; 312) unter Anwendung der Nieder
druckplasmapolymerisation mit einer den Hohlkörper aufnehmen
den Vakuumkammer (10; 110; 210; 310) und mindestens zwei Elek
troden (17, 44; 130, 144; 210a, 210b; 330, 344), zwischen denen
eine hochfrequente Spannung zur Erzeugung des Plasmas anliegt,
dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens eine der Elektroden in
nerhalb der Vakuumkammer außerhalb des Hohlkörpers in unmit
telbarer Nähe desselben angeordnet ist.
26. Einrichtung nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß
die zweite Elektrode (130; 330) innerhalb des Hohlkörpers
(112; 312) angeordnet ist.
27. Einrichtung nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, daß
die zweite Elektrode innerhalb der Vakuumkammer (10) eine Auf
lage (17) für den Hohlkörper (12) bildet.
28. Einrichtung nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß
die wenigstens eine in unmittelbarer Nähe des Hohlkörpers
(212), jedoch außerhalb desselben angeordnete Elektrode (210a,
210b) an ihrer dem Hohlkörper zugekehrten Seite eine Topogra
phie aufweist, die der Topographie zumindest eines Teilberei
ches des Hohlkörpers (212) angepaßt ist.
29. Einrichtung nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß
zumindest die innere Begrenzung der Vakuumkammer (210) der äu
ßeren Gestalt des Hohlkörpers (212) angepaßt ist.
30. Einrichtung nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, daß
die Vakuumkammer (210) in zwei gegeneinander elektrisch iso
lierte Teile (210a, 210b) unterteilt ist, von denen jedes eine
der Elektroden bildet.
31. Einrichtung nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß
die wenigstens eine Öffnung des Hohlkörpers (12; 112) durch
einen Schnellverschluß verschließbar ist, durch den die Sonde
(30; 130) sich in den Hohlkörper erstreckt.
32. Einrichtung nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß
der gegenüber dem Innenraum (16; 116; 216) der Vakuumkammer
(10; 110; 210) verschlossene Hohlkörper (12; 112; 212) und der
Bereich der Vakuumkammer außerhalb des Hohlkörpers getrennt
voneinander evakuierbar sind.
33. Einrichtung nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß
innerhalb des Hohlkörpers (212) ein Sensor (272) zur Beobach
tung des Betriebszustandes im Bereich des Plasmas angeordnet
ist.
34. Einrichtung nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet, daß
der Sensor (272) der Sonde (230) zugeordnet ist.
35. Einrichtung nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet, daß
der optische Sensor als Lichtleitfaser (272) ausgebildet ist,
die an ihrem im Inneren des Hohlkörpers (212) befindlichen
Ende durch ein Fenster (274) verschlossen ist.
36. Einrichtung nach Anspruch 35, dadurch gekennzeichnet, daß
dem Fenster (274) eine Heizeinrichtung (276) zugeordnet ist,
die das Ablagern einer polymeren Deckschicht auf dem Fenster
verhindert.
37. Einrichtung nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß
sie zur Beobachtung des Plasmas mit einer Ionenstromsonde ver
sehen ist.
38. Einrichtung nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß
sie zur Beobachtung des Plasmas mit einer Langmiur-Sonde ver
sehen ist.
39. Einrichtung nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß
bei gleichzeitiger Behandlung mehrerer Hohlkörper (312) jedem
der Hohlkörper eine innerhalb desselben befindliche Sonde
(330) zugeordnet ist und Gaseinlaßrohre und Pumprohre der ein
zelnen Sonden jeweils an eine zentrale Gaszuführungs-Leitung
und eine zentrale Evakuierungsleitung angeschlossen sind.
40. Einrichtung nach Anspruch 39, dadurch gekennzeichnet, daß
die Hohlkörper (312) auf einem ein die Vakuumkammer (310) ein
führbaren Wagen angeordnet sind, an welchem die Sonden bzw.
das gemeinsame Gaszuführungsrohr und/oder die gemeinsame Eva
kuierungsleitung angebracht sind.
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19934318084 DE4318084A1 (de) | 1993-06-01 | 1993-06-01 | Verfahren und Einrichtung zum Herstellen einer polymeren Deckschicht in Kunststoff-Hohlkörpern |
US08/553,614 US5677010A (en) | 1993-06-01 | 1994-05-31 | Method for producing a polymer coating inside hollow plastic articles |
ES94916150T ES2117789T3 (es) | 1993-06-01 | 1994-05-31 | Procedimiento para producir un recubrimiento polimero en cuerpos huecos de materia plastica. |
EP94916150A EP0705149B1 (de) | 1993-06-01 | 1994-05-31 | Verfahren zum herstellen einer polymeren beschichtung an kunststoff-hohlkörpern |
EP97100404A EP0778089A1 (de) | 1993-06-01 | 1994-05-31 | Einrichtung zum Herstellen einer polymeren Beschichtung an Kunststoff-Hohlkörpern |
DE59406143T DE59406143D1 (de) | 1993-06-01 | 1994-05-31 | Verfahren zum herstellen einer polymeren beschichtung an kunststoff-hohlkörpern |
PCT/DE1994/000622 WO1994027745A1 (de) | 1993-06-01 | 1994-05-31 | Verfahren und einrichtung zum herstellen einer polymeren beschichtung an kunststoff-hohlkörpern |
CA002164223A CA2164223A1 (en) | 1993-06-01 | 1994-05-31 | A procedure and a device for producing a plastic coating on hollow plastic articles |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19934318084 DE4318084A1 (de) | 1993-06-01 | 1993-06-01 | Verfahren und Einrichtung zum Herstellen einer polymeren Deckschicht in Kunststoff-Hohlkörpern |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4318084A1 true DE4318084A1 (de) | 1994-12-08 |
Family
ID=6489305
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19934318084 Withdrawn DE4318084A1 (de) | 1993-06-01 | 1993-06-01 | Verfahren und Einrichtung zum Herstellen einer polymeren Deckschicht in Kunststoff-Hohlkörpern |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4318084A1 (de) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0708185A1 (de) * | 1994-10-17 | 1996-04-24 | Leybold Aktiengesellschaft | Vorrichtung zum Behandeln von Oberflächen, insbesondere von Innenflächen von Kraftstofftanks |
EP0787828A3 (de) * | 1996-01-30 | 1997-08-13 | Becton, Dickinson and Company | Anlage und Verfahren zur Plasmaverarbeitung |
DE19608158C1 (de) * | 1996-03-04 | 1997-08-28 | Dresden Vakuumtech Gmbh | Verfahren und Einrichtung zur Hochfrequenz-Plasmapolymerisation |
WO1997044503A1 (en) * | 1996-05-22 | 1997-11-27 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | Method and apparatus for treating inside surfaces of containers |
DE19640528A1 (de) * | 1996-10-01 | 1998-04-02 | Roland Dr Gesche | Verfahren, Vorrichtung und Behälter für die Behandlung von Teilen mit vakuumtechnischen Prozessen |
DE19722205A1 (de) * | 1997-05-27 | 1998-12-03 | Leybold Systems Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Kunststoff- oder Glasbehältern mittels eines PCVD-Beschichtungsverfahrens |
WO2000020130A1 (en) * | 1998-10-01 | 2000-04-13 | The Secretary Of State For Defence | Surface coatings |
DE19957744A1 (de) * | 1999-12-01 | 2001-06-07 | Tetra Laval Holdings & Finance | Vorrichtung zum Abdichten des Stirnrandes eines Behälterhalses |
FR2824002A1 (fr) * | 2001-04-27 | 2002-10-31 | Inergy Automotive Systems | Procede de fabrication d'un reservoir a carburant faisant intervenir la decomposition d'un gaz de reaction sur l'enveloppe du reservoir |
FR2880027A1 (fr) * | 2004-12-23 | 2006-06-30 | Innovative Systems & Technolog | Procede de traitement d'un materiau polymere, dispositif pour la mise en oeuvre de ce procede et utilisation de ce dispositif au traitement de corps creux |
WO2008006856A1 (de) * | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Stein, Ralf | Verfahren und vorrichtung zur plasmagestützten chemischen gasphasenabscheidung an der innenwand eines hohlkörpers |
DE102007010238A1 (de) * | 2007-03-02 | 2008-09-04 | Behr Gmbh & Co. Kg | Wärmeübertragerbauteil |
US8852693B2 (en) | 2011-05-19 | 2014-10-07 | Liquipel Ip Llc | Coated electronic devices and associated methods |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3521625A1 (de) * | 1985-06-15 | 1986-12-18 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verfahren zum beschichten von substraten durch niederdruck-plasmapolymerisation von monomeren |
DE3908418A1 (de) * | 1989-03-15 | 1990-09-20 | Plasma Electronic Gmbh | Verfahren zum innenbeschichten von kunststoff-behaeltern und vorrichtung zum beschichten |
-
1993
- 1993-06-01 DE DE19934318084 patent/DE4318084A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3521625A1 (de) * | 1985-06-15 | 1986-12-18 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verfahren zum beschichten von substraten durch niederdruck-plasmapolymerisation von monomeren |
DE3908418A1 (de) * | 1989-03-15 | 1990-09-20 | Plasma Electronic Gmbh | Verfahren zum innenbeschichten von kunststoff-behaeltern und vorrichtung zum beschichten |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JP 3-1 07 458 A in Patents Abstracts of Japan, C 853, Jily 25, 1991, Col. 15/No.293 * |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0708185A1 (de) * | 1994-10-17 | 1996-04-24 | Leybold Aktiengesellschaft | Vorrichtung zum Behandeln von Oberflächen, insbesondere von Innenflächen von Kraftstofftanks |
EP0787828A3 (de) * | 1996-01-30 | 1997-08-13 | Becton, Dickinson and Company | Anlage und Verfahren zur Plasmaverarbeitung |
DE19608158C1 (de) * | 1996-03-04 | 1997-08-28 | Dresden Vakuumtech Gmbh | Verfahren und Einrichtung zur Hochfrequenz-Plasmapolymerisation |
EP0794014A1 (de) * | 1996-03-04 | 1997-09-10 | VTD Vakuumtechnik Dresden GmbH | Verfahren und Einrichtung zur Hochfrequenz-Plasmapolymerisation |
WO1997044503A1 (en) * | 1996-05-22 | 1997-11-27 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | Method and apparatus for treating inside surfaces of containers |
DE19640528A1 (de) * | 1996-10-01 | 1998-04-02 | Roland Dr Gesche | Verfahren, Vorrichtung und Behälter für die Behandlung von Teilen mit vakuumtechnischen Prozessen |
DE19722205A1 (de) * | 1997-05-27 | 1998-12-03 | Leybold Systems Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Kunststoff- oder Glasbehältern mittels eines PCVD-Beschichtungsverfahrens |
WO2000020130A1 (en) * | 1998-10-01 | 2000-04-13 | The Secretary Of State For Defence | Surface coatings |
GB2365437A (en) * | 1998-10-01 | 2002-02-20 | Secr Defence | Surface coatings |
DE19957744A1 (de) * | 1999-12-01 | 2001-06-07 | Tetra Laval Holdings & Finance | Vorrichtung zum Abdichten des Stirnrandes eines Behälterhalses |
FR2824002A1 (fr) * | 2001-04-27 | 2002-10-31 | Inergy Automotive Systems | Procede de fabrication d'un reservoir a carburant faisant intervenir la decomposition d'un gaz de reaction sur l'enveloppe du reservoir |
WO2002087788A2 (en) * | 2001-04-27 | 2002-11-07 | Inergy Automotive Systems Research (Société Anonyme) | Method of manufacturing a tank |
WO2002087788A3 (en) * | 2001-04-27 | 2002-12-19 | Inergy Automotive Systems Res | Method of manufacturing a tank |
FR2880027A1 (fr) * | 2004-12-23 | 2006-06-30 | Innovative Systems & Technolog | Procede de traitement d'un materiau polymere, dispositif pour la mise en oeuvre de ce procede et utilisation de ce dispositif au traitement de corps creux |
WO2006070136A1 (fr) * | 2004-12-23 | 2006-07-06 | Innovative Systems & Technologies | Procede de traitement d'un materiau polymere, dispositif pour ia mise en œuvre de ce procede et utilisation de ce dispositif au traitement de corps creux |
WO2008006856A1 (de) * | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Stein, Ralf | Verfahren und vorrichtung zur plasmagestützten chemischen gasphasenabscheidung an der innenwand eines hohlkörpers |
RU2446230C2 (ru) * | 2006-07-12 | 2012-03-27 | ШТАЙН Ральф | Способ плазменно-химического осаждения из газовой фазы на внутреннюю поверхность полого изделия |
US8227052B2 (en) | 2006-07-12 | 2012-07-24 | Ralf Stein | Method and device for plasma-assisted chemical vapour deposition on the inner wall of a hollow body |
DE102007010238A1 (de) * | 2007-03-02 | 2008-09-04 | Behr Gmbh & Co. Kg | Wärmeübertragerbauteil |
US8852693B2 (en) | 2011-05-19 | 2014-10-07 | Liquipel Ip Llc | Coated electronic devices and associated methods |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0705149B1 (de) | Verfahren zum herstellen einer polymeren beschichtung an kunststoff-hohlkörpern | |
DE3908418C2 (de) | Verfahren zum Innenbeschichten von Kunststoff-Behältern und Vorrichtung zum Beschichten | |
DE69509597T3 (de) | Hohler behälter mit inerter oder undurchlässiger innerer oberfläche durch plasmaunterstütze oberflächereaktion oder in situ polymerisation | |
DE19731181C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von polymeren Grundwerkstoffen mit dünnen SiC-Schichten | |
DE4318084A1 (de) | Verfahren und Einrichtung zum Herstellen einer polymeren Deckschicht in Kunststoff-Hohlkörpern | |
DE69737837T2 (de) | Verfahren zum Auftragen einer Sperrbeschichtung auf ein Kunststoffsubstrat | |
EP1412101B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum gleichzeitigen beschichten und formen eines körpers | |
DE10139305A1 (de) | Verbundmaterial aus einem Substratmaterial und einem Barriereschichtmaterial | |
DE102011009057A1 (de) | Plasma-Behandlungsvorrichtung zur Herstellung von Beschichtungen | |
DE4316349A1 (de) | Verfahren zur Innenbeschichtung von Hohlkörpern mit organischen Deckschichten durch Plasmapolymerisation, sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
US4536271A (en) | Method of plasma treating a polymer film to change its properties | |
DE4318086A1 (de) | Verfahren und Einrichtung zum Herstellen einer polymeren Deckschicht in Kunststoff-Hohlkörpern | |
EP2626445A1 (de) | Hohlkathoden-Gaslanze für die Innenbeschichtung von Behältern | |
EP0739655B1 (de) | Verfahren zu plasmagestützten Herstellung multifunktionaler Schichten auf Kunststoffteilen | |
EP1230042B1 (de) | Schicht mit selektiv funktionalisierter oberfläche | |
EP0376141B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Kunststoffbeschichtung von Strangprofilen | |
EP1994198A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum beschichten einer innenflaeche einer hohlen endlosgeometrie, insbesondere eines rohres | |
EP1273676A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von gas- und flüssigkeitsundurchlässigen Schichten auf einem Substrat | |
DE102008044024A1 (de) | Beschichtungsverfahren sowie Beschichtungsvorrichtung | |
DE10323453B4 (de) | Verfahren zur Erzeugung von Gradientenschichten im Inneren von polymeren Rohren und Vorrichtung zu dessen Durchführung | |
WO2019243378A1 (de) | Vorrichtung zum beschichten von behältern mit einer barriereschicht und verfahren zur heizung eines behälters | |
EP1018532B1 (de) | Verfahren zur Herstellung multifunktionaler plasmapolymerisierter Schichten auf Kunststoffteilen, insbesondere auf der Innenoberfläche von Kunststoffkraftstoffbehältern (KKB) aus Polyethylen | |
DE2537416A1 (de) | Beschichtung, insbesondere gegen korrosionseinfluesse wirksame schutzschicht, verfahren zu ihrer herstellung und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens | |
DE102020105000A1 (de) | Verfahren zur Beschichtung von Behältern sowie beschichteter Behälter | |
EP1462183A1 (de) | Verfahren zur oberflächenbehandlung eines substrats sowie mit einem solchen verfahren behandeltes substrat |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: KAUTEX WERKE REINOLD HAGEN AG, 53229 BONN, DE BUCK |
|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: BUCK WERKE GMBH & CO., 73337 BAD UEBERKINGEN, DE K |
|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |