DE2537416A1

DE2537416A1 - Beschichtung, insbesondere gegen korrosionseinfluesse wirksame schutzschicht, verfahren zu ihrer herstellung und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens

Info

Publication number: DE2537416A1
Application number: DE19752537416
Authority: DE
Inventors: Bernhard Dipl Chem Dr Blaich; Karl Dipl Phys Kerner; Helmut Dipl Phys Dr Stein; Ernst Dr Ing Zehender
Original assignee: Robert Bosch GmbH
Current assignee: Robert Bosch GmbH
Priority date: 1975-08-22
Filing date: 1975-08-22
Publication date: 1977-03-10
Also published as: DE2537416B2

Description

Anlage 7Ur Patentanmeldung Beschichtung, insbesondere gegen Korrosionseinflüsse wirksame Schutzschicht Verfahren zu ihrer Herstellung und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens Die Erfindung betrifft eine Beschichtung, insbesondere eine gegen Korrosionseinflüsse wirksame Schutzschicht, vorzugsweise für nietallbedampfte Substrate wie z. B. aluminiumbedampfte Reflektoren von Kraftfahrzeugleuchten; weiterhin betrifft sie das Verfahren zur Herstellung einer erfindungsgemäßen, hydrophoben Schutzschicht auf einem metallbedampften Substrat sowie die Vorrichtung zur Durchführung des jeweiligen Verfahrens.
Bekannte Schutzschichten gegen Korrosionseinflüsse, wie sie bisher z. B. bei Reflektoren für Kraftfahrzeugleuchten benutzt worden sind, wurden durch Verdämpfen anorganischer Substanzen erzeugt. Das angewandte Verfahren sah so aus, daß sich in der Bedampfungsanlage außer dem Verdampfer zum Aufbringen der hochreflektierenden Metallschicht ein weiterer Verdampfer zum Aufbringen der Schutzschicht befand. Diese kann z. B. aus aufgedampftem Magnesiumfluorid (MgF2) bestehen oder durch reaktives Verdampfen von SiO in Sauerstoffathmosphäre erzeugt werden, wobei sich auf den Substraten ein Siliziumoxid höheren Oxidationsgrades (SiOx) bildet. Schutzschichten dieser Art sind erhöhten Qualitätsanforderungen nicht gewachsen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine neue Beschichtung mit guten korrosionsschützenden, optischen und elektrischen Eigenschaften zu schaffen, insbesondere die Schutzwirkung dünner Schichten zu verbessern, und zwar speziell die Korrosionsschutzwirkung auf mit Aluninium bedampften Scheinwerferreflektoren. Die neuartigen Schutzschichten sollen eine hohe Lebensdauer des geschützten Teils gewährleisten, wobei für die Anwendung bei optisch wirksamen Geräten zusätzlich die Forderung nach möglichst vollständiger optischer j'teutralität zu stellen ist. Ferner soll ein Verfahren zur Erzeugung der. Beschichtung angegeben werden, welches mit wenigen Arbeitsschritten und geringen Kosten die Erzeugung einer beständigen und hochwertigen Schicht gewährleistet; die Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens s11 betriebssicher und einfach gestaltet werden, so daß Fehlerquellen durch die Bedienung und im Betrieb weitestgehend atlsgeschlossen werden und der Fertigungsaussenul3 auf eir, Mindestmaß reduzierbar ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemãß dadurch gelöst, daß die Beschichtung aus einer hydrophoben, organischen Substanz besteht, welche durch PoLrlnerisa-tion aus der Gasphase abgeschieden ist. Als besonders vorteilhaft sowohl hinsichtlich der Herstellungsbedingungen wie auch hinsichtlich der Schutzwirkung haben sich als Ausgangssubstanzen siliziumorganische Verbindungen bewahrt, jedoch versprechen auch rein organische Verbindungen, vorzu£sweise ungesättigte, niedermolekulare Kohlenwasserstoffe bei Polymerisation aus der Gasphase gute, gegen Korrosionseinflüsse wirksame Schutzschichten. Solche Verbindungen sind z. 3.
Olefine: Äthylen, Propylen und deren höhere Homologe, Aromate: Benzol, Toluol, Xylol usw.
Vinylverbindungen: Styrol, Acrylsäureester, Vinylhalogenide, Vinylalkoholester und Fluor-substituierte Kohlenwasserstoffe wie Tetrafluoräthylen.
Die siliziumorganischen Schichten haben dabei den Vorteil, daß sie gegen Einflüsse wie Alterung und Verfärbung wenig empfindlich sind und außerdem besonders hydrophobe Eigenschaften besitzen. Ferner ist die Geruchsbelästigung gegenüber den meisten rein organischen Substanzen erheblich geringer, während diese hinw ederum zum Teil höhere Polymerisationsgeschwindigkeiten aufweisen.
Neben ihrer Eigenschaft als Schutzschicht für metallbedampfte Substrate eignet sich die erfindungsgemäße Polymerschicht beispielsweise auch zur Herstellung pinhole-freier Dielektrika mit hoher Durchschlagfeldstärke und optischer Schichten geringer Absorption, sowie zur Herabsetzung der Gleitreibung fester Körper.
Die Beschichtung wird vorteilhafterweise gebildet durch Polymerisation niedermolekularer methyl-, vinyl- oder phenylgruppenhaltiger Siloxane, vorzugsweise Xexamethyldisiloxan (HMDS), oder durch Polymerisation von Methyl-, Vinyl-, Chlor- oder Alkocysilanen,vorzugsweise durch die Polymerisation von Vinyltrimethylsilan (VTMS).
Die beiden vorzugsweise benutzten Monomere SAD-S tmd VTMS sind farblose, brennbare Flüssigkeiten niedriger Viskosität-mit Molekulargewichten von 162 (ID{DS) und 100 (VTMS). HMDS ist schwach riechend, besitzt- eine Viskosität von 0,6 cSt und hat bei 200 C einen Dampfdruck von 40 mbar.
VrMS dagegen riecht intensiver, hat eine niedrigere Viskosität, einen höheren Dampfdruck und ist auf Grund der relativ leicht aufzubrechenden Doppelbindung der Vinylgruppe chemisch aktiver. Es läßt sich gegenüber ER4DS leichter polymerisieren, was zu höheren Aufwachsraten führt. Die aus beiden Substanzen gebildeten Polymerschichten haben vergleichbare Eigenschaften, wobei jedoch die VTMS-Schicht zu Nachreaktionen mit Sauerstoff neigt, wogegen die HMDS-Schicht kaum noch freie Radikale enthält. Schließlich ist das Silikonöl HMDS im Handel leichter zu beschaffen und billiger als VTMS.
Ein besonders wirtschaftliches Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen Beschichtung, insbesondere der hydrophoben Schutzschicht; auf einem metallbedampften Substrat besteht darin, daß die Polymerisation im gleichen Rezipienten wie die Metallbedampfung erfolgt, wobei vorteilhafterweise nach der Durchführung der Metallbedampfung über ein Dosierventil monomeres Gas aus einem Vorratsbehalter eingelassen wird, in dem sich die polymerisierbare Substanz in flüssiger Form befindet. Die zu schützenden Teile sonnen an ihrem Ort im Rezipienten verbleiben und es entfallen aufwendige und zeitraubende Maßnahmen zum Umrüsten oder zum Bestücken einer getrennten Anlage. Zweckmäßigerweise wird der Rezipient vor dem Einlassen des monomeren Gases auf einen Druck unter 10 7 bar abgepumpt und anschließend mit monomerem Gas beflutet. Das Verfahren wird beschleunigt und die Schutzschicht wird besonders gleichmäßig wenn eine dauernde Durchströmung des Rezipienten mit monomerem Gas erzielt wird, beispielsweise indem der durch den Anschluß des Rezipienten an eine Vakuumpumpe entstehende Druckabfall durch Öffnen eines Dosierventils für ein monomeres Gas ausgeglichen wird.
Die Polymerisation der hydrophoben Schicht kann mit Vorteil bewirkt werden durch eine Glimmpolymerlsation oder durch eine durch Gliihemissions-Elektronen ausgelöste, gasverstärkte Entladung, im folgenden kurz"Elektronen-Glühemission" genannt. Im Falle einer Glimmpolymerisation verwendet man zweckmäßigerweise als Speisespannung 50 Hz-Wechselspannung, welche mit einem Vorwiderstand zwischen einem Hochspannungstransformator und einer Glimmelektrode stabilisiert wird; alternativ hierzu kann jedoch auch eine Hochfrequenz-Glimmentladung erzeugt werden. Eine Anlage mit 50 Hz-Glimmentladung ist preiswerter, ermöglicht jedoch nur eine kleinere Aufwachsrate der Schutzschicht als eine Hochfrequenz-Glimaentladung.
Der Vorteil bei der Erzielung der hydrophoben Schutzschicht durch Elektronen-Glühemission besteht darin, daß die Anlage noch weiter vereinfacht werden kann durch Wegfall der Glimmelektrode und einer in der Regel notwendigen Blende zur Abschirmung der Glimmelektrode gegen den Metalldampf bzw. zur Unterdrückung der Glimmentladung auf der den Substraten abgewandten Seite der Elektrode. Zusätzlich wird bei der Elel-tronen-Gluhemission gegenüber einer Glimmentladung das Auftreten von Überschlägen zwischen der Hochspannungselektrode und den Substraten ausgeschlossen, wodurch die Zahl der fehlerhaften Teile bei der Produktion stark reduziert werden kann. Der in der Anlage notwendige Druck liegt bei der Glühemission um etwa zwei Zehnerpotenzen niedriger als bei einer Glimmpolymerisation, weshalb auch der Durchsatz an monomerem Gas reduziert und damit eine betrachtliche Einsparung an monomerem Gas erzielt wird. Neben den bereits genannten Vorteilen hat die Glühemission weiterhin den Vorteil, daß eine gleichmäßige Beschichtung rund um die Glühkathode, d. h. unter einem Winkel von fast 360 Grad erzeugt wird, während bei Verwendung einer Glimmelektrode die Beschichtung im wesentlichen auf den Bereich der räumlichen Ausdehnung der Elektrode beschränkt ist.
Eine hinsichtlich des Investitionaufwandes besonders vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung besteht bei Verwendung der Elektronen-Glühemission zur Erzeugung der Schicht darin, daß die Polymerisation durch einen als Glühkathode arbeitenden Verdampferdraht bewirkt wird, der nach Abschluß des Metallverdampfungsvorganges zum Aufbringen der Schutzschicht auf eine höhrere, für die Glühemission von Elektronen ausreichende Temperatur erhitzt und an eine gegenüber den Substraten negative Spannung gelegt wird. So sind zur Erzeugung der Schutzschicht keine besonderen Vorrichtungen innerhalb des Rezipienten mehr notwendig, wodurch die Anlage stark vereinfacht wird. Die Temperatur, auf welche z. B. ein Wolfram-oder Tantal-Verdampferdraht vor dem Einlassen des monomeren Gases erhitzt wird, liegt zweckmäßigerweise bei 1.8000 Celsius, der Gasdruck unter 10 T bar; anschließend wird der Rezipient mit monomerem Gas auf einen Druck von ca. 5 . 10 bar beflutet, was angesichts des hohen Dampfdruckes über der Monomer-Flüssigkeit ohne zusätzliche technische Mittel möglich ist. Bei Anwendung der Glilrmpolymerisation wird der Rezipient auf einen Druck von 5 . 10 5 bis 1 . 10 3 bar beflutet. Im Ergebnis sind die Schutzschichten, die wahlweise mit Glimmpolymerisation oder Glühemission erzeugt werden, praktisch gleichwertig, jedoch ergeben sich verfahrensmãßig einige Vorteile bei Anwendung einer Glükemission zur Erzielung der polymeren Schicht.
Weitere Einzelheiten und Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen; in der folgenden Beschreibung ist die -Erfindung anhand der Abbildungen naher erläutert.
Es zeigen: Fig. 1 einen Querschnitt durch eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Erzeugung der neuen Schutzschicht und Fig. 2 einen vereinfachten Schaltplan für eine Vorrichtung mit Elektronen-Glühemission zur Erzielung der polymeren Schicht.
In Fig. 1 ist mit 10 ein Rezipient bezeichnet, der einerseits über einen Stutzen 11 an eine Hochvakuumpumpe sowie über einen Stutzen 12 an eine VorpluEpe angeschlossen ist. Gegenüber der Absaugvorrichtung ist ein Dosierventil 13 vorgesehen, durch welches monomeres Gas aus einem nicht dargestellten Behalter eingelassen werden kann; in dem Vorratsbehälter befindet sich das monomere Gas als polymerisierbare Substanz in flüssiger Form, wobei wegen des hohen Dampfdruckes ständig ausreichend Gas zur Beflutung der Anlage auf den gewünschten Druck zur Verfügung steht.
Innerhalb des Rezipienten 10 sind Substratträger 14 angeordnet, welche zylinderförmige Gestalt haben und sich einerseits-um die Achse des Rezipienten und andererseits um ihreeigenen Achsen drehen. Auf den Trägern 14 sitzen Substrate 15, die mit einer gegen Korrosionseinflüsse wirksamen Schutzschicht bedeckt werden sollen. Bei demin Fig. 1 dargestellten Ausführungsbeispiel handelt es sich bei den Substraten um Reflektoren von Kraftfahrzeugleuchten, die zu nächst mit einer spiegelnden Schicht aus Aluminium bedampft werden und anschließend zum Schutz der Aluminiumschicht eine Schutzschicht erhalten.
Zur Aluminiuaverdampfung ist ein Verdampferaraht 16 vorgesehen, der aus Wolfram besteht und zunachst auf eine für die Verdampfung des Aluminiums ausreichende Temperatur erhitzt wird.
In dem Rezipienten ist weiterhin eine Elektrode 17 vorgesehen, an die eine 50 Hz-Hochspannung zur Erzeugung einer Glimmentladung angelegt wird, welche sich zwischen der Elektrode 17 und den auf Masse liegenden Substraten 15 im räumlichen Ausdehnungsbereich der Elektrode ausbildet. Zwischen dem Verdampferdraht 16 und der Elektrode 17 ist eine Blende 18 angeordnet, die einen Niederschlag des Metalldampfes auf der Elektrode verhindert und so ausgeführt werden kann, daß sie eine Glimmentladung auf der den Substraten abgewandten Seite unterdrückt.
Die durch die Glimmentladung erzeugte Schicht besteht aus einer hydrophoben organischen Substanz, welche durch Polymerisation aus der Gasphase abgeschieden wird. Hierbei wird vorzugsweise eine siliziumorganische Substanz als Beschichtung aufgebracht, die durch Polymerisation niedermolekularer methyl-, vinyl- oder phenylgruppenhaltiger Siloxane, vorzugsweise durch Polymerisation von Hexamethyldisiloxan gebildet wird. Wahlweise können jedoch auch Methyl-, Vinyl-, Chlor- oder Alkoxysilane, vorzugsweise Vinyltrimethylsilan, aus der Gasphase abgeschieden werden.
Die so erzeugte .siliziumorganische Schicht ist chemisch inaktiv, temperaturbeständig und schwer löslich; insbesondere ist sie resistent gegen die beispielsweise durch Streusalz im Straßenverkehr auftretenden Korrosionseinflüsse, weshalb sie sich besonders gut als Schutzschicht eignet füraluminlumbedampfte Reflektoren von Kraftfahrzeugen. Die Schutzschicht ist außerdem klar, farbbeständig und mechanisch fest, was ihre Eignung für Kraftfahrzeugleuchten weiter steigert, da sie somit einerseits optisch neutral ist und andererseits auch bei einer Reinigung nicht beschädigt wird. Niedermolekulare Substanzen eignen sich besonders gut wegen ihres hohen Dampfdruckes, der für die Beflutung der Anlage über das Dosierventil 13 ohne zusätzliche Hilfsmittel ausreichend ist. Die zuvodgenannten Stoffe Hexamethyldisiloxan und Vinyltriemethylsilan sind besonders niedermolekular und daher besonders gut geeignet. Dabei ergibt Hexamethyldisiloxan eine chemisch etwas stabilere Schicht als Vinyltrimethylsilan , während letzteres den Vorteil besitzt, daß die Polymerisation wesentlich schneller abläuft, so daß man eine höhere Aufwachsrate und somit größere Produktionsziffern erreichen kann.
Das Aufbringen der durch Polymerisation erzeugten Schutzschicht erfolgt im gleichen Rezipienten 10 wie die Metallbedampfung. Dabei wird eine dauernde Durchströmung des Rezipienten 10 mit monomerem Gas erzielt, indem der durch den Anschluß des Rezipienten an eine Vakuumpumpe entstehende Druckabfall über das Dosierventil 13 für das monomere Gas ausgeglichen wird. Die Vakuumpumpe ist dabei zweckmäßigerweise eine Vorpumpe, welche über ein Vorvakuumventil angeschlossen ist.
Zur Herstellung von Reflektoren für Kraftfahrzeugleuchten mit hydrophoben, organischen Schutzschichten in Bedampfungsanlagenwird wie folgt vorgegangen: Nachdem die Anlage über den Pumpstutzen 11 auf Hochvakuum gebracht ist, kann die Aluminlumbedampfung durch Heizen des Verdampferdrahtes 16 durchgeführt werden.
Dabei bewegen sich die zu bedampfenden Substrate 15 auf den planetenförmig beweglichen Trägern 14 um den Verdampferdraht 16 herum, wobei sich die Träger 1l; zusätzlich um ihre eigenen Achsen drehen. mach Durchführung der Aluminiumbedampfung wird ein Hochvakuumventil 19 geschlossen und mit dem Dosierventil 13 das monomere Gas eingelassen. Dieses wird einem nicht dargestellten Vorratsbehälter entnommen, in dem sich die polymerisierbare Substanz in flüssiger Form befindet.
ihr Dampfdruck von 40 mbar bei 20° Celsius reicht zur Beflutung der Anlage. auf den für dieses Verfahren optimalen Druck von 5 . 10 5 bis 1.10 3 bar aus. Um eine dauernde Durchströmung der Anlage mit Monomergas zu erreichen, wird ein Vorvakuumventil 20 geöffnet und der dadurch entstehende Druckverlust mit dem Dosierventil 13 ausgeglichen. Zur gleichmaßigen Verteilung des Gases ist das Dosierventil 13 dem Pumpstutzen 11 gegenüber angeordnet.
Sodann kann die 50 Hz-Wechselspannung von etwa 1 kV an die eingebaute Elektrode 17 gelegt werden, die durch die Blende 18 vor einem Bedampfen mit Aluminium geschützt ist. Es bildet sich im Bedampfungsraum eine Glimmentladung aus, in der das auf den Oberflachen adsorbierte Gas polymerisiert, während sich die Substrate 15 auf den Trägern 14 an der Elektrode 17 vorbeibewegen. Will man die Ausbildung der Glimmentladung auf der den Substraten abgewendeten Seite vermeiden, so ordnet man die auf Masse liegende Blende 18 so an, daß sie sich parallel zur Elektrode 17 im Abstand von einigen mm befindet. (Erster Dunkeiraum.) Die bei dieser Glinapolymerisation erreichbaren Aufwachsraten liegen bei ca.
20 A/min. Besonders hohe Aufwachsraten erhält man in den Gebieten hoher Feldstärken, d. h. an Spitzen, Kanten usw. Um den meist nur kurzzeitig auftretenden Übergang von der Glimmentladung zu einer Bogenentladung. zu vermeiden, was zu Beschädigungen der Substrate führen würde, wird zweckmäßigerweise in die Eochspannungszui-Whrutrg der Elektrode 17 ein Stabilisierungswiderstand von ca. 1 k eingeschaltet.
Als Monomere kommen vorzugsweise Hexamethyldisiloxan oder Vinyltrimethylsilan in Frage. Der Druck, auf den der Rezipient vor dem Einlassen des monomeren Gases abgepumpt wird, soll unter 10 7bar liegen, bevor anschließend eine Beflutung des Rezipienten mit monomerem Gas auf den genannten Druck von 5 . 1O5 bis 1 . 10 3 bar erfolgt. Die Elektrode 17, die entsprechend der inneren Einhüllenden der Planetenbahnen gekrümmt ist, besitzt in dieser Richtung eine Länge, die mindestens derjenigen Strecke entspricht, die ein Planet 14 bei einer Umdrehung auf der inneren Einhüllenden zurücklegt.
Eine besonders vorteilhafte Vereinfachung der erfindungsgemäßen Vorrichtung und des erfindungsgemäßen Beschichtungsverfahrens erhält man, wenn nan anstelle einer Glimmentladung eine Glühkathode benutzt. In diesem Fall werden die Elektrode 17 und die Blende 18 aus Fig. 1 nicht mehr benötigt. In dem Rezipienten ist nur noch der Wolfram-Verdampferdraht 16 vorhanden, der während des Aufbringens der hydrophoben Schutzschicht als Glühkathode geschaltet wird.
Dies geschieht entsprechend dem in Fig. 2 dargestellten Prinzipschaltplan derart, daß der Verdampferdraht 16 einerseits an die isolierte Sekundärwicklung eines regelbaren Hochstromtransformators 21 und andererseits während des Aufbringens der Schutzschicht über einen Begrenzungswiderstand Rv anden negativen Pol einer Gleichspannungsquelle Ug gelegt wird, deren positiver Pol auf Masse liegt. Die Spannung an der Primärseite des Transformators 21 ist mit Up, die Spannung auf seiner Sekundärselte mit Us bezeichnet. Durch ein Hochregeln des Transformators wird nach dem Abschluß der Aluminiumbedampfung der isoliert eingebaute Wolfram-Verdampfer 16 auf eine Temperatur von ca. 1.8000 C erhitzt, bei der eine Glühelektronen-Emission erfolgt. Dann wird das monomere Gas in die Anlage eingelassen und ein Druck von ca. 5 . l06 bar eingestellt. Um die den Glühdraht umgebende Raumladung abzubauen und die Elektronen in Richtung der auf Masse liegenden Substrate 15 zu- beschleunigen, wird zusätzlich der Verdampferdraht 16 über einen Schalter S an die Gleichspannun-gsquelle Ug angeschlossen und so auf ein negatives Potential von etwa 300 Volt gegen Masse gelegt; Zur Stabilisierung gegen Bogenentladungen ist zusätzlich ein Vorwiderstand Rv geeigneter Größe zugeschaltet. Die Größe des Vorwiderstandes und der Gleichspannung müssen der jeweiligen Anlage angepaßt werden.
Die erzeugten und beschleunigten Elektronen erfahren im Gasraum eine Vervielfachung durch ionisierende Stöße, so daß ein verstärkter Elektronenstrahl die Substrate 15 trifft und seine Energie die Vernetzung der adsorbierten Gasmoleküle ermöglicht. Die in einer Betriebsanlage erreichten Aufwachsraten lagen unter den geschilderten Bedingungen bei 20 bis 80 A/min. Es ist selbstverständlich, daß das erfindungsgemäße Verfahren auch dahin abgewandelt werden kann, aaß zur Erzeugung der Glühelektronen-Emission ein separater Druck verwendet wird oder daß die freien Elektronen auf andere Weise; beispielsweise durch einen Elektronenstrahlkanone, erzeugt werden.
Das Glühemissions-Verfahren hat gegenüber der Verwendung einer Glimmpolymerisation einige beachtliche Vorteile: Es ergibt sich eine höhere Aufwachsrate bei gleichzeitiger Kostensenkung, die durch eine Vereinfachung der Anlage, einen geringeren Ausschuß wegen nicht mehr auftretender Überschläge und einen geringeren Durchsatz an monomerem Gas erzielt wird. Durch die Beseitigung der Gefahr von Entladungen aufgrund der beim Glimmen notwendigen Hochspelnung tritt insofern kein Ausschuß in der Produktion mehr auf.

Claims

Ansprüche:

Ç eschichtung, insbesondere gegen Korrossionseinflüsse wirksame Schutzschicht, vorzugsweise für metallbedampfte Substrate wie aluminiumbedampfte Reflektoren von Kraftfahrzeugleuchten, dadurch gekennzeichnet, daß sie aus einer hydrophoben, organischen Substanz besteht, welche durch Polymerisation aus der Gasphase abgeschieden wird.
2. Beschichürng nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie aus einer siliziumorganischen Substanz besteht.
3. Beschichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß sie durch Polymerisation niedermolekularer methyl-, vinyl- oder pllellylgruppenhaltiger Siloxane, vorzugsweise Hexamethyldisiloxan, gebildet ist.
4. Beschichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß sie durch Polymerisation von Methyl, Vinyl-, Chlor- oder Alkoxysilanen, vorzugsweSse Vinyltrimethylsilan, gebildet ist.
5. Verfahren zur Herstellung einer hydrophoben Schutzschicht auf einem metallbedampften Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Polymerisation im gleichen Rezipienten wie die Metallbedampfung erfolgt.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß nach der Durchführung der Metallbedampfung über ein Dosierventil monomeres Gas aus einem Vorratsbehälter eingelassen wird, in dem sich die polymerisierbare Substanz in flüssiger Form befindet.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine dauernde Durchströmung des Rezipienten mit monomerem Gas erzielt wird, indem der durch den Anschluß des Rezipienten an eine Vakuumpumpe entstehende Druckabfall durch Öffnen wenigstens eines Dosierventils für ein monomeres Gas ausgeglichen wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Polymerisation der hydrophoben Schutzschicht durch Glimmpolymerisation bewirkt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Glimmentladung nit 50 Hz-Wechselspannung betrieben und mit einem Vorwiderstand zwischen einem Hochspannungstransformator und einer Glimmelektrode stabilisiert wird.
10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß dar Rezipient vor dem Einlassen des monomeren Gases auf einen Druck unter 10 T bar abgepumpt und anschließend mit monomerem Gas auf einen Druck von 5 . 10 5 bis 1 . 10 3 bar beflutet wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Polymerisation der hydrophoben Schutzschicht durch eine durch Glühemissions-Elektronen ausgelöste, gasverstärkte Entladung bewirkt wird.
12. Verfahren nach Anspruch 11 dadurch gekennzeichnet, daß die Polymerisation durch einen als Glühkathode arbeitenden Verdampferdraht bewirkt wird, der nach Abschluß des Verdampfungsvorganges während des Aufbringens der Schutzschicht auf eine höhere, für die Glühemission von Elektronen ausreichende Temperatur erhitzt und an eine gegenüber den Substraten negative Gleichspannung angelegt wird.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß vor dem Einlassen des monomeren Gases und nach Abschluß der titallbedampfung ein Verdampferdraht auf eine Temperatur von ca. 1 600° bis 2 000° C, vorzugsweise auf ca.

1 8000 C erhitzt wird.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Rezipient vor dem Einlassen des monomeren Gases auf einen Druck unter 10 7 bar abgepumpt und anschließend mit monomerem Gas auf einen Druck von ca. 10 6 bis 10 5 bar, vorzugsweise von 5 . 10 6 bar beflutet wird.
15 Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Verdampferdraht an eine negative Spannung von ca. 100 Volt bis 500 Volt, vorzugsweise von ca. 300 Volt gegenüber den Substraten gelegt wird.
16. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche -5 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Einlaß (13) für das monomere Gas sich auf der dem Abpumpstutzen (11, 12) gegenüberliegenden Seite des Rezipienten (10) befindet.
17 Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 5 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Substrate (15)auf planetenförmig in dem Rezipienten (10) rotierenden Trägern (14) sitzen.
18. Vorrichtung zur Durchftihrung des Verfahrens nach Angruch 8, 9 oder 1G, dadurch gekennzeichnet, daß zur Ausbildung der Glimmentladung nur eine Elektrode (17) vorgesehen ist, und daß als Gegenelektrode die auf Masse liegenden Substrate (15) dienen.
19. Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrode (17) entsprechend der innneren Einhuilenden der Plantetenbahnen gekrümmt ist und in Richtung der Planetenbahnen eine Länge besitzt, die mindestens der Strecke entspricht, die der Planet (14) bei einer Umdrehung auf der inneren Einhüllenden zurücklegt.
20. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der Elektrode (17) und einem Metallverdampfer (16) eine Blende (18) für den Metalldampf angeordnet ist.
21. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 11 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß ein zur Metallverdampfung dienender Verdsnpferdraht (16) während des Aufbringens der Schutzschicht als Glühkathode schaltbar ist.
22. Vorrichtung nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß der Verdampferdraht einerseits an die isolierte Sekundärwicklung eines regelbaren Transformators (21) und andererseits während des Aufbringens der Schutzschicht über einen Begrenzwlgswiderstand (Rv) an den negativen Pol einer Gleichspannungsquelle (Ug) angeschlossen ist, deren positiver Pol ebenso wie die zu beschichtenden Substrate (15) auf Masse liegt. 1