JP2019502813A - 移動ターゲットの成膜装置及び成膜方法 - Google Patents

移動ターゲットの成膜装置及び成膜方法 Download PDF

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Abstract

移動ターゲットの成膜装置を提供する。該移動ターゲットの成膜装置は、ターゲット源と、前記ターゲット源を載置してその運動を駆動するように配置されるターゲット源載置部と、前記ターゲット源の表面温度を検出するように配置される赤外線温度検出部と、前記ターゲット源を加熱するように配置される赤外線加熱部と、前記赤外線温度検出部の検出信号を受信し前記ターゲット源の表面温度が均一であるか否かを判断するように配置される制御部と、を備え、前記制御部はさらに、ターゲット源の表面温度の低い部分を加熱し、前記ターゲット源の表面温度が均一になると加熱を停止するように、前記赤外線加熱部を制御する。

Description

本発明は、移動ターゲットの成膜装置及び成膜方法に関し、特に赤外線温度検出部と赤外線加熱部を備えた移動ターゲットの成膜装置及び成膜方法に関する。
ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ、有機発光ダイオード）表示素子は、自己発光が可能で、コントラストが高く、厚みが薄く、視野角が広く、応答速度が速く、フレキシブルパネルに適用でき、使用温度範囲が広く、構造及びプロセスが簡単である等の利点を有し、現在の平面ディスプレイ技術の主要動向の１つとなる。有機発光素子の製造では、移動ターゲットによる成膜はターゲット使用率の向上する方法の１種である。
本発明の実施例は、ターゲット源と、前記ターゲット源を載置してその運動を駆動するように配置されるターゲット源載置部と、前記ターゲット源の表面温度を検出するように配置される赤外線温度検出部と、前記ターゲット源を加熱するように配置される赤外線加熱部と、前記赤外線温度検出部の検出信号を受信し前記ターゲット源の表面温度が均一であるか否かを判断するように配置される制御部と、を備える移動ターゲットの成膜装置であって、前記制御部はさらに、ターゲット源の表面温度の低い部分を加熱し、前記ターゲット源の表面温度が均一になると加熱を停止するように、前記赤外線加熱部を制御する
移動ターゲットの成膜装置を提供する。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記赤外線温度検出部および前記赤外線加熱部は、前記ターゲット源載置部に連結されるとともに、前記ターゲット源載置部と同期して移動する。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記ターゲット源の表面は、前記赤外線加熱部の表面にほぼ平行であり、前記ターゲット源と前記赤外線加熱部との同一平面における正投影は、少なくとも部分的に重なる。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記ターゲット源の面積は、前記赤外線加熱部の面積以下である。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記赤外線温度検出部は、前記ターゲット源の表面と前記赤外線加熱部の表面との間に位置する。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記ターゲット源の表面は、一体構造である。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記ターゲット源の表面は、複数の個別のサブターゲット源からなる。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記複数の個別のサブターゲット源は、環状に配列される。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記赤外線加熱部は、複数の赤外線加熱放射板を備え、前記制御部はさらに、前記ターゲット源表面におけるある部分の温度がほかの部分の温度より低く、かつ、温度差が設定値を超えると判断すると、ターゲット源表面の前記温度の低い部分に対応する赤外線加熱放射板をオンにさせて、ターゲット源表面の前記温度の低い部分を加熱し、前記ターゲット源の表面温度が均一になると加熱を停止する。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記赤外線加熱放射板は、それぞれ放射集中構造を有する。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記赤外線加熱部は、１つの赤外線加熱放射板を含み、前記制御部は、前記ターゲット源表面のある部分の温度がほかの部分の温度より低く、かつ、温度差が設定値を超えると判断すると、前記赤外線加熱放射板の向きを変えてターゲット源表面の前記温度の低い部分を加熱し、前記ターゲット源の表面温度が均一になると加熱を停止するように、前記赤外線加熱放射板を制御する。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記ターゲット源載置部は、ガイドレールとターゲット源支持部材を備え、前記ターゲット源支持部材は、前記ターゲット源を移動させる必要があると、前記ガイドレール上で移動するように配置される。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記ガイドレールは、磁気浮上式レールであり、前記磁気浮上式レールと前記ターゲット源支持部材との間には電磁反発力が発生して前記ターゲット源支持部材を浮上状態に持ち上げる。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記ガイドレールは、空気式レールであり、前記エアレールには、高速ガスを噴出させて前記ターゲット源支持部材を浮上状態に持ち上げる複数の気孔が前記ターゲット源支持部材に向けて設けられる。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記ターゲット源は、地面にほぼ平行して設けられる。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記赤外線加熱部は、前記ターゲット源の上方に設けられる。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記赤外線加熱部は、地面に略平行して設けられる。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記ターゲット源は、前記赤外線加熱部の上方に設けられる。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記ターゲット源と前記赤外線加熱部は、いずれも地面にほぼ直交して設けられる。
本発明の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置では、たとえば、前記赤外線温度検出部は、赤外線撮像管を含む。
本発明の実施例は、移動ターゲットの成膜装置を用いた成膜方法をさらに提供し、前記移動ターゲットの成膜装置はターゲット源と、ターゲット源載置部と、ターゲット源の表面温度を検出するための赤外線温度検出部と、ターゲット源を加熱するための赤外線加熱部と、制御部と、を備え、前記ターゲット源載置部は前記ターゲット源を載置しかつ前記ターゲット源を三次元方向に自在に移動できるように駆動し、前記赤外線温度検出部および前記赤外線加熱部は前記制御部に信号的に接続され、前記方法は、前記制御部にて前記赤外線温度検出部の検出信号を受信し、前記ターゲット源の表面温度が均一であるか否かを判断するステップと、前記制御部にて前記ターゲット源表面のある部分の温度がほかの部分の温度より低く、かつ、温度差が設定値を超えると判断すると、ターゲット源表面の前記温度の低い部分を加熱し、前記ターゲット源の表面温度が均一になると加熱を停止するように、前記赤外線加熱部を制御するステップと、を含む。
以下、本発明の実施例に係る技術思想をより明確に説明するため、実施例の図面について簡単に説明する。下で述べる図面は勿論、単なる本発明の実施例の一部に触れており、本発明はこれらに限定するものではない。
図１は本発明の一実施例に係る移動ターゲットの成膜装置の構造模式図である。 図２は本発明の別の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置の構造模式図である。 図３は本発明の一実施例に係る移動ターゲットの成膜装置におけるターゲット源及び赤外線加熱部の平面図である。 図４は本発明の別の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置におけるターゲット源及び赤外線加熱部の平面図である。 図５は本発明の一実施例に係る移動ターゲットの成膜装置における赤外線加熱放射板、回転モータの構造模式図である。
以下、本発明の目的、技術手段、およびメリットをより明白にするため、本発明の実施例に係る技術思想について本発明の実施例の図面を参照しながら全体として明確に説明する。説明された実施例が本発明の一部の実施例のみであり、本発明の全ての実施例ではないことは明白であろう。当業者には、開示された本発明の実施例に基づき、容易に成し遂げることができた他の実施例の全ては本発明の精神から逸脱しない。
特に定義しない限り、本開示に使用された技術用語または科学用語は、当業者に理解される一般的な意味である。本発明に係る特許出願の明細書及び特許請求の範囲に使用される「第１」「第２」のような用語は順序、数量または重要性を示すものではなく、異なる構成要素を区別するものにすぎない。同様に、「１つ」や「一」等のような用語は数量を制限するものではなく、少なくとも１つあることを意味する。「接続」や「連結」等のような用語は物理的または機械的接続に限定されなく、直接的や間接的にかかわらず電気的接続を含む。
たとえば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）や太陽（ＰＶ）電池のような有機オプトエレクトロニクス素子は、過去１０年間で研究者から相当な注目を集めている。有機半導体は、各種の基板上に堆積可能であり、無機半導体に比べると、製造を簡略化し製造コストを低減させる見込みがある。上記長所を持っているが、有機半導体の独特な加工要件によってその応用を制限するおそれがある。たとえば、発光素子と太陽（ＰＶ）電池は典型的に、導電電極間に介在する共役ポリマーまたはモノマーの薄膜からなる。フルカラーディスプレイとマルチトランジスタ回路にとっては、活性有機層自体の横方向パターニングが求められる。しかし、典型的な有機層は脆性が低すぎ、通常の半導体加工方法、たとえばフォトリソグラフィ法、プラズマ加工や反応性イオンエッチング等に耐えられない。従って、研究者は、有機材質の独特な性質に適応させるために多くの製造やパターニング技術を開発しており、これらの技術は主に加工容易性と低コスト化を強調する。
有機発光素子の製造では、移動ターゲットによる成膜は、ターゲット使用率の向上する方法の１種である。ただし、従来の方法では、膜結晶温度の変化によって成膜の均一性が低下してしまう。本発明の実施例によれば、赤外線加熱部と赤外線温度検出部を利用することで、移動ターゲット源の表面温度の安定性を確保し、成膜の全工程に温度異常が発生せず、成膜の均一性を確保する。
本発明の実施例は、ターゲット源と、ターゲット源載置部と、ターゲット源の表面温度を検出するための赤外線温度検出部と、ターゲット源を加熱するための赤外線加熱部と、制御部と、を備える移動ターゲットの成膜装置を提供する。ターゲット源載置部はターゲット源を載置しその運動を駆動する。前記ターゲット源の運動への駆動は、たとえば前記ターゲット源載置部によって前記ターゲット源を載置し、かつ両方が同期して運動することである。赤外線温度検出部および赤外線加熱部は、制御部に信号的に接続されており、制御部は、赤外線温度検出部の検出信号を受信し、ターゲット源の表面温度が均一であるか否かを判断してから、ターゲット源表面のある部分の温度がほかの部分の温度より低く、かつ、温度差が設定値を超えると判断すると、ターゲット源表面の温度の低い部分を過熱し、ターゲット源の表面温度が均一になると加熱を停止するように、赤外線加熱部を制御する。
図１は、本発明の一実施例に係る移動ターゲットの成膜装置の模式図である。該移動ターゲットの成膜装置は、図示するように、ターゲット源１と、ターゲット源載置部２と、ターゲット源の表面温度を検出するための赤外線温度検出部３と、ターゲット源を加熱するための赤外線加熱部４と、制御部１０と、を備え、制御部１０は信号接続部５、及び信号処理部６を含む。一例として、該制御部１０は実行部７をさらに備える。
ターゲット源載置部２は、その載置面にターゲット源１が載置され、がたとえば移動ターゲットの成膜装置の内部空間内における三次元方向に自在に移動できるようにターゲット源１を駆動する。図示する実施例では、成膜対象である基板８は、ターゲット源１と赤外線加熱部４との間に、ターゲット源１に平行して設けられる。基板８の面積は一般的にターゲット源１の面積以上である。ほかの例では、たとえば、図２に示すように、赤外線加熱部４は成膜対象である基板８とターゲット源１との間に設けられ、成膜対象である基板８上へのターゲット源１からスパッタリングされた物質の堆積を遮らなければ特に限定されない。
該移動ターゲットの成膜装置の成膜中には、２種の方式が用いられる。第１方式では、ターゲット源１をある部位に固定しかつ対応する位置での基板８を成膜し、該対応する位置での基板８の膜厚が所定の厚さに到達すると、ターゲット源載置部２によって、ターゲット源１を、別の部位に移動して上記過程を繰り返すように駆動する。第２種の方式では、ターゲット源載置部２によってターゲット源１を連続的に移動するように駆動し、基板８の異なる位置を走査して成膜する。ターゲット源載置部２の駆動動力は、たとえばステッピングモータに提供されるものであり、駆動機構は、ガイドレール、スクリュー、歯車等の部材をさらに含んでもよい。
ターゲット源載置部２は、低抵抗のレールを採用してもよい。たとえば、ターゲット源載置部２は、図１に示すように、磁気浮上式レール２２とターゲット源支持部材２１を備える。ターゲット源１を移動させるが必要場合、磁気浮上式レール２２とターゲット源支持部材２１との間には電磁反発力が発生して、ターゲット源支持部材２１を浮上状態に持ち上げる。この状態では、ターゲット源支持部材２１をＸ軸および／またはＹ軸方向に運動するように駆動できる。ターゲット源支持部材２１は、たとえばスクリュー方式、またはラックアンドピニオン方式等によって、昇降可能に設けられる。
図２は、本発明の別の実施例に係る移動ターゲットの成膜装置の模式図である。図１に示す実施例に比べると、図２に示す実施例において、ターゲット源載置部２は、空気式レール２４とターゲット源支持部材２３を備え、空気式レール２４上には、複数の気孔２５がターゲット源支持部材２３に向けて設けられる。ターゲット源１を移動させる必要がある場合、空気式レール２４における複数の気孔が高速ガスを噴出することで、ターゲット源支持部材２３を浮上状態に持ち上げる。この状態では、ターゲット源支持部材２３をＸ軸及び／又はＹ軸方向に運動するように駆動できる。ターゲット源支持部材２３は、たとえばスクリュー方式、またはラックアンドピニオン方式等によって、昇降可能に設けられる。
ターゲット源載置部２の動作速度および加速度は、ターゲット源載置部２の動作効率を左右するパラメータであり、より高い動作速度およびより大きい加速度によって、１回あたりの移動時間を効果的に低減可能にさせる。ターゲット源支持部材２１／２３と上記磁気浮上式レールまたは空気式レール２２／２４が離間することで、動作速度を効果的に高める。また、図１及び図２の実施例において、ターゲット源載置部２の動作時に働く摩擦力が小さく、ターゲット源載置部２の速度がより迅速且つ容易に向上できる。これに対して、既存していた普通のターゲット源載置システムのレールの抵抗が大きくなり、ターゲット源を搬送する負担が大きい場合、ターゲット源載置システム自体がしばしば停止したりし、この時、高すぎる速度や大きすぎる加速度が部材の摩耗を促進してしまう。しかし、本発明の実施例に係る磁気浮上式レールシステムまたは空気式レールシステムはこのような問題を克服する。磁気浮上式レールシステムまたは空気式レールシステムは、レールとターゲット源支持部材が離間しているので、機械的摩擦を無くし、ノイズを低減させ、装置の機械的摩耗を減少させる。
赤外線温度検出部３および赤外線加熱部４は、たとえば、ターゲット源載置部２に連結されており、この状態でターゲット源載置部２が移動する場合、赤外線温度検出部３および赤外線加熱部４がターゲット源載置部２につれて同期して移動する。このようにして、赤外線温度検出部３がターゲット源１の表面温度を正確に検出可能、赤外線加熱部４がターゲット源１の表面の特定位置を正確に加熱可能になることを確保する。勿論、赤外線温度検出部３および赤外線加熱部４はターゲット源載置部２と離間して設けられてもよく、この状態でターゲット源載置部２が移動する場合、それと同期して赤外線温度検出部３および赤外線加熱部４が移動し、または検出角度や加熱角度等を相応に調整する。
信号接続部５は、赤外線温度検出部３と信号処理部６に接続（結合）される。信号接続部５は、さらに信号処理部６と実行部７に接続（結合）される。信号接続部５は、たとえば電気信号または光信号を伝達できるものであり、たとえば導線またが光ファイバー等である。信号接続部５は、赤外線温度検出部３により検出されたターゲット源１の表面温度情報を信号処理部６に伝送し、信号処理部６が該温度情報を処理した後で、信号処理部６による命令情報を実行部７に送信する。実行部７は、赤外線加熱部４を制御／駆動する。
信号処理部６は、赤外線温度検出部３から受信した検出結果に基づき、ターゲット源１の表面温度が均一であるか否かを判断する。信号処理部６は、ターゲット源１の表面のある部分の温度がほかの部分の温度より低く、かつ、温度差が設定値を超えると判断すると、実行部７に命令を送信する。実行部７は、ターゲット源表面の温度の低い部分を加熱し、ターゲット源１の表面温度が均一になると加熱を停止するように、赤外線加熱部４を制御する。上記温度差の設定値は、実際の所要精度に応じて設定可能で、たとえば５℃、１℃、０．５℃、０．１℃等と設定される。ターゲット源の表面温度が均一であるか否かを判断する基準も実要求に応じて設定可能である。たとえば、ターゲット源表面の各部分間の温度差が５℃、１℃、０．５℃または０．１℃未満である時、ターゲット源の表面温度が均一であると考えられる。
たとえば、ターゲット源１はほぼ平坦なターゲット源表面を有し、赤外線加熱部４もほぼ平坦な赤外線加熱部表面を有し、この時、ターゲット源表面と赤外線加熱部表面を平行させる。ターゲット源と赤外線加熱部の同一平面（例えば、ターゲット源の所在する平面、赤外線加熱部の所在する平面、あるいは基板の所在する平面等）への正投影は少なくとも部分的に重なり、または、赤外線加熱部とターゲット源の同一平面への正投影が少なくとも部分的に重なる。赤外線温度検出部３は、ターゲット源１の表面と赤外線加熱部４の表面との間に設けられる。
たとえば、ターゲット源１の面積は赤外線加熱部４の面積以下である。図３、４は、ターゲット源１及び赤外線加熱部４の平面図を示す。図３に示すように、ターゲット源１と赤外線加熱部４とは面積が等しく、対向して設けられる。従って、平面図において、ターゲット源１と赤外線加熱部４は重なる。図４に示すように、ターゲット源１の面積は赤外線加熱部４の面積より小さく、赤外線加熱部４と互いに対向して設けられる。従って、平面図おいて、ターゲット源１は、赤外線加熱部４の範囲内において位置する。
たとえば、赤外線加熱部４は、複数の赤外線加熱放射板を含む。図３、４に示すように、赤外線加熱部４はＡ１〜Ｅ５計２５個の赤外線加熱放射板を含むが、本発明は図示する赤外線加熱放射板の形状や配列に限定されない。信号処理部６は、ターゲット源１の表面のある部分の温度がほかの部分の温度より低く、かつ、温度差が設定値を超えると判断すると、実行部７に命令を送信する。実行部７は、ターゲット源表面の温度の低い部分に対応する赤外線加熱放射板をオンにさせ、ターゲット源１の表面の温度の低い部分を加熱し、ターゲット源１の表面温度が均一になると加熱を停止する。たとえば、信号処理部６は、ターゲット源１の左上隅の温度がほかの部分の温度より低く、かつ、温度差が設定値を超えると検出すると、図３に示すように、実行部７に命令を送信する。実行部７は、ターゲット源１の左上隅に対応する赤外線加熱放射板、すなわち赤外線加熱放射板Ａ１をオンにさせ、ターゲット源の温度の低い左上隅を加熱し、ターゲット源の表面温度が均一になると加熱を停止する。一例において、ターゲット源１の局所をよりよく加熱できるように、赤外線加熱部４の各赤外線加熱放射板の表面には放射集中構造（たとえば、レンズまたは反射部）がさらに設けられてもよい。
たとえば、図５に示すように、赤外線加熱部４は、１つの赤外線加熱放射板４１を含んでもよい。実行部７は、赤外線加熱放射板４１に接続されている１つの回転モータ７１を備える。信号処理部６は、ターゲット源の表面温度が均一であるか否かを判断するように構成され、ターゲット源表面の部分Ｐの温度がほかの部分の温度より低く、かつ、温度差が設定値を超えると判断すると、実行部７に命令を送信する。回転モータ７１は、それに接続される赤外線加熱放射板４１の向きを変えて、ターゲット源表面の温度の低い部分Ｐを加熱し、ターゲット源の表面温度が均一になると加熱を停止するように、該赤外線加熱放射板４１を制御する。
上記実施例では、赤外線加熱部４と協働して温度の均一性を促進するために、たとえばファン等がさらに設けられてもよい。
たとえば、ターゲット源１の表面は一体構造であってもよく、または、複数の個別のサブターゲット源からなってもよい。また、たとえば、これらのサブターゲット源を環状駆動ベルトに配列させることで、これらのサブターゲット源を相互に用いて堆積の均一性をさらに確保する。
たとえば、図１、２に示すように、ターゲット源１が地面に平行して設けられ、赤外線加熱部４がターゲット源１の上方に設けられることが可能である。または、赤外線加熱部４は地面に平行して設けられ、ターゲット源１は赤外線加熱部４の上方に設けられてもよい。さらに、ターゲット源１と赤外線加熱部４はいずれも地面に直交して設けられてもよい。
たとえば、赤外線温度検出部３は赤外線撮像管等を含む。
たとえば、信号処理部６は、中央処理ユニット（ＣＰＵ）、グラフィックスプロセッシングユニット（ＧＰＵ）、デジタル信号プロセッサ（ＤＳＰ）、プログラマブルロジックコントローラ等を含み、必要に応じて、メモリ、入力／出力装置（たとえば、ディスプレイ、タッチパネル、タッチパッド、キーボード、マウス等）等を含んでもよい。
たとえば、実行部７はリレー、駆動電極等を備える。
本発明の上記実施例に係る移動ターゲットの成膜装置は、各種の成膜方式に適用でき、例としてマグネトロンスパッタリング法、真空蒸着法等が挙げられるが、それらに限定されない。該移動ターゲットの成膜装置は、各種の材質薄膜、たとえば陽極膜の製造にも適用でき、例として酸化インジウム錫膜（ＩＴＯ）、酸化亜鉛錫膜（ＩＺＯ）等が挙げられるが、それらに限定されない。本発明の上記実施例に係る移動ターゲットの成膜装置において、赤外線温度検出部３はターゲット源１の表面温度をリアルタイムに検出し、赤外線加熱部４は検出された温度分布情報に応じて、ターゲット源１の表面の温度の低い部分を適時に加熱し、それによって成膜過程におけるターゲット源１の表面温度の均一性を確保し、全体的に抵抗分布が均一な陽極膜が得られる。本発明の一実施例において、陽極膜は抵抗率が２×１０−４Ω／ｃｍ、透過率が９０％以上と高く、作業効率、陽極膜の製品品質を大幅に向上させ、製造コストを削減させ、耐用年数を２倍以上延ばし、省エネで環境にやさしい。
以上、本発明の例示的な実施形態を説明したが、本発明の保護範囲は、これに限れず、特許請求の範囲によって決められる。
本願は、２０１６年１月２６日に出願された中国特許出願第２０１６１００５３３６９．８号の優先権を主張し、上記出願の全ての内容は参照により本明細書の一部として組み込まれた。
１ ターゲット源
２ ターゲット源載置部
３ 赤外線温度検出部
４ 赤外線加熱部
５ 信号接続部
６ 信号処理部
７ 実行部
８ 基板
１０ 制御部
２１ ターゲット源支持部材
２２ 磁気浮上式レール
２３ ターゲット源支持部材
２４ 空気式レール
２５ 気孔
４１ 赤外線加熱放射板
７１ 回転モータ

Claims (21)

  1. ターゲット源と、
    前記ターゲット源を載置してその運動を駆動するように配置されるターゲット源載置部と、
    前記ターゲット源の表面温度を検出するように配置される赤外線温度検出部と、
    前記ターゲット源を加熱するように配置される赤外線加熱部と、
    前記赤外線温度検出部の検出信号を受信し前記ターゲット源の表面温度が均一であるか否かを判断するように配置される制御部と、を備える移動ターゲットの成膜装置であって、
    前記制御部はさらに、ターゲット源の表面温度の低い部分を加熱し、前記ターゲット源の表面温度が均一になると加熱を停止するように、前記赤外線加熱部を制御する
    移動ターゲットの成膜装置。
  2. 前記赤外線温度検出部および前記赤外線加熱部は、前記ターゲット源載置部に連結されるとともに、前記ターゲット源載置部と同期して移動する
    請求項１に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  3. 前記ターゲット源の表面は、前記赤外線加熱部の表面にほぼ平行であり、
    前記ターゲット源と前記赤外線加熱部との同一平面における正投影は、少なくとも部分的に重なる
    請求項１に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  4. 前記ターゲット源の面積は、前記赤外線加熱部の面積以下である
    請求項３に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  5. 前記赤外線温度検出部は、前記ターゲット源の表面と前記赤外線加熱部の表面との間に位置する
    請求項１に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  6. 前記ターゲット源の表面は、一体構造である
    請求項１〜５のいずれか１項に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  7. 前記ターゲット源の表面は、複数の個別のサブターゲット源からなる
    請求項１〜５のいずれか１項に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  8. 前記複数の個別のサブターゲット源は、環状に配列される
    請求項７に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  9. 前記赤外線加熱部は、複数の赤外線加熱放射板を備え、
    前記制御部はさらに、前記ターゲット源表面におけるある部分の温度がほかの部分の温度より低く、かつ、温度差が設定値を超えると判断すると、ターゲット源表面の前記温度の低い部分に対応する赤外線加熱放射板をオンにさせて、ターゲット源表面の前記温度の低い部分を加熱し、前記ターゲット源の表面温度が均一になると加熱を停止する
    請求項１〜５のいずれか１項に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  10. 前記赤外線加熱放射板は、それぞれ放射集中構造を有する
    請求項９に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  11. 前記赤外線加熱部は、１つの赤外線加熱放射板を含み、
    前記制御部は、前記ターゲット源表面のある部分の温度がほかの部分の温度より低く、かつ、温度差が設定値を超えると判断すると、前記赤外線加熱放射板の向きを変えてターゲット源表面の前記温度の低い部分を加熱し、前記ターゲット源の表面温度が均一になると加熱を停止するように、前記赤外線加熱放射板を制御する
    請求項１〜５のいずれか１項に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  12. 前記ターゲット源載置部は、ガイドレールとターゲット源支持部材を備え、
    前記ターゲット源支持部材は、前記ターゲット源を移動させる必要があると、前記ガイドレール上で移動するように配置される
    請求項１〜５のいずれか１項に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  13. 前記ガイドレールは、磁気浮上式レールであり、
    前記磁気浮上式レールと前記ターゲット源支持部材との間には電磁反発力が発生して前記ターゲット源支持部材を浮上状態に持ち上げる
    請求項１２に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  14. 前記ガイドレールは、空気式レールであり、
    前記エアレールには、高速ガスを噴出させて前記ターゲット源支持部材を浮上状態に持ち上げる複数の気孔が前記ターゲット源支持部材に向けて設けられる
    請求項１２に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  15. 前記ターゲット源は、地面にほぼ平行して設けられる
    請求項１〜５のいずれか１項に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  16. 前記赤外線加熱部は、前記ターゲット源の上方に設けられる
    請求項１〜５のいずれか１項に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  17. 前記赤外線加熱部は、地面にほぼ平行して設けられる
    請求項１〜５のいずれか１項に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  18. 前記ターゲット源は、前記赤外線加熱部の上方に設けられる
    請求項１〜５のいずれか１項に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  19. 前記ターゲット源と前記赤外線加熱部は、いずれも地面にほぼ直交して設けられる
    請求項１〜５のいずれか１項に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  20. 前記赤外線温度検出部は、赤外線撮像管を含む
    請求項１〜５のいずれか１項に記載の移動ターゲットの成膜装置。
  21. ターゲット源と、ターゲット源載置部と、ターゲット源の表面温度を検出するための赤外線温度検出部と、ターゲット源を加熱するための赤外線加熱部と、制御部と、を備え、前記ターゲット源載置部は前記ターゲット源を載置しかつ前記ターゲット源を三次元方向に自在に移動できるように駆動し、前記赤外線温度検出部および前記赤外線加熱部は前記制御部に信号的に接続される移動ターゲットの成膜装置を用いた成膜方法であって、
    前記制御部にて前記赤外線温度検出部の検出信号を受信し、前記ターゲット源の表面温度が均一であるか否かを判断するステップと、
    前記制御部にて前記ターゲット源表面のある部分の温度がほかの部分の温度より低く、かつ、温度差が設定値を超えると判断すると、ターゲット源表面の前記温度の低い部分を加熱し、前記ターゲット源の表面温度が均一になると加熱を停止するように、前記赤外線加熱部を制御するステップと、
    を含む移動ターゲットの成膜装置を用いた成膜方法。
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