JP2019179186A - リソグラフィ装置、パターン形成方法及び物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本実施形態では、基板にパターンを形成するリソグラフィ装置の一例として、フラットパネルディスプレイ(FPD)製造用の露光装置を説明する。露光装置は、マスク(原版、レチクル)を照明し、マスクのパターンを基板(ウエハ、ガラス基板等)に露光する装置である。露光装置は、例えば、投影光学系を用いてマスクのパターンを、感光剤(レジスト)が塗布された基板に投影して、感光剤に潜像パターンを形成する。
次に、図6に基づいて第2実施形態のアライメントマークMの形成について説明する。図6は、第2実施形態のマーク形成手段190と基板22を示す。第1実施形態と同様の構成、方法については説明を省略する。本実施形態のマーク形成手段190は、第1実施形態と同じ場所に配置される。
物品の製造方法について説明する。物品は半導体デバイス、表示デバイス、カラーフィルタ、光学部品、MEMS等である。例えば、半導体デバイスは、基板に回路パターンを作る前工程と、前工程で作られた回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布された基板を露光する工程と、感光剤を現像する工程を含む。現像された感光剤のパターンをマスクとしてエッチング工程やイオン注入工程等が行われ、ウエハ上に回路パターンが形成される。これらの露光、現像、エッチング等の工程を繰り返して、基板上に複数の層からなる回路パターンが形成される。後工程で、回路パターンが形成された基板に対してダイシングを行い、チップのマウンティング、ボンディング、検査工程を行う。表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、露光された感光剤を現像する工程を含む。本実施形態の製造方法によれば、従来よりも高品位の物品を製造することができる。
Claims (14)
- 基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
第1材料と前記第1材料上に塗布された感光剤を含む基板に光を照射して前記基板に位置合せ用マークを形成する形成部と、
前記形成部によって形成された位置合せ用マークの位置に基づいて前記基板の位置合せを行い、前記感光剤に露光光を照明して前記基板にパターンを転写する転写部と、を有し、
前記形成部は、前記露光光とは異なる波長の照射光を前記第1材料に照射し、前記照射光のエネルギーで前記第1材料を加工して前記第1材料に位置合せ用マークを形成する、ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記形成部は、前記感光剤を介して前記第1材料に光を照射することによって前記第1材料に位置合せ用マークを形成することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記材料を照射する光は、前記感光剤を透過する波長の光であることを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記波長に対する前記感光剤の吸収率は、前記波長に対する前記感光剤の下地の材料の吸収率よりも小さいことを特徴とする請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1材料は金属膜を含み、
前記形成部は、前記金属膜に位置合せ用マークを形成することを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1材料はガラスを含み、
前記形成部は、前記ガラスに位置合せ用マークを形成することを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記形成部は、前記感光剤を介さないで前記第1材料に光を照射することによって前記第1材料に位置合せ用マークを形成することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置合せ用マークは、前記形成部が前記第1材料を照射したときの熱によって変質した前記感光剤のマークを含むことを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記感光剤の情報及び前記マークが形成される前記第1材料の情報の少なくとも一方の情報を取得し、取得した情報に基づいて、前記形成部が照射する光の強度及び照射時間の少なくとも一方を設定する制御部、を有することを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記形成部は、照射する光の強度及び照射時間の少なくとも一方を変えながら基板の第1材料を照射して前記第1材料に複数のマークを形成し、
前記リソグラフィ装置は、形成された前記複数のマークを計測した結果に基づいて、前記形成部が照射する光の強度及び照射時間の少なくとも一方を決定する制御部を有することを特徴とする請求項1乃至8の何れか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 基板にパターンを形成するパターン形成方法であって、
第1材料と前記第1材料上に塗布された感光剤を含む基板に光を照射して前記基板に位置合せ用マークを形成する形成工程と、
形成された位置合せ用マークの位置に基づいて前記基板の位置合せを行い、前記感光剤に露光光を照明して前記基板にパターンを転写する工程と、を有し、
前記形成工程において、前記露光光とは異なる波長の照射光を前記感光剤を介して前記第1材料に照射し、前記照射光のエネルギーで前記第1材料を加工して前記第1材料に位置合せ用マークを形成する、ことを特徴とするパターン形成方法。 - 基板にパターンを形成するパターン形成方法であって、
基板の第1材料上において、位置合せ用マークを形成すべき領域に感光剤を塗布せず、パターンを転写すべき領域に感光剤を塗布する工程と、
前記感光剤が塗布された基板のうち前記位置合せ用マークを形成すべき領域において、前記感光剤を介さずに照射光を前記第1材料に照射し、前記照射光のエネルギーで前記第1材料を加工して前記第1材料に位置合せ用マークを形成する形成工程と、
形成された位置合せ用マークの位置に基づいて前記基板の位置合せを行い、前記感光剤を照明して前記基板にパターンを転写する工程と、を有することを特徴とするパターン形成方法。 - 請求項11又は12に記載のパターン形成方法を用いて基板にパターンを形成する工程と、
パターンが形成された基板を加工することによって物品を製造する工程と、を有することを特徴とする物品の製造方法。 - 請求項1乃至10の何れか1項に記載のリソグラフィ装置の形成部を用いて基板の第1材料に位置合せ用マークを形成して、前記位置合せ用マークの位置に基づいて前記基板の位置合せを行った後、前記基板にパターンを形成する工程と、
パターンが形成された基板を加工することによって物品を製造する工程と、を有することを特徴とする物品の製造方法。
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