KR100911020B1 - 마스크, 이를 구비한 노광장치 및 전사방법 - Google Patents

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Abstract

마스크가 개시된다. 회로패턴에 상응하는 전사패턴이 형성되는 복수의 단위 마스크와, 복수의 단위 마스크 사이에 개재되는 탄성부재를 포함하는 마스크는, 기판과 마스크 간의 정합 능력을 향상시킬 수 있다.
노광, 회로패턴, 마스크, 변형수단, 정렬마크, 홀더

Description

마스크, 이를 구비한 노광장치 및 전사방법{Mask, exposure apparatus having the same and exposure method}
본 발명은 마스크, 이를 구비한 노광장치 및 전사방법에 관한 것이다.
최근 휴대용 전화기와 같은 전자 장치가 소형화 및 고효율화, 고 직접화 되어감에 따라 기판은 보다 정확한 층간 정합을 요구하고 있다. 이에 따라 인쇄회로기판에서 비아홀과 패드의 정밀한 정합을 하기 위해 노광 공정에서 다양한 기판의 스케일 변화에 대응할 수 있는 기술이 필요하게 되었다.
도 1은 종래기술에 따른 노광장치를 나타낸 단면도이다. 도1에 도시된 바와 같이, 현재의 접촉 노광 방식은 노광용 마스크(10)가 홀더 프레임(300)에 고정되어 있다. 마스크(10)의 재질은 평탄도가 우수한 유리로서, 한쪽 면에 크롬 혹은 에멀젼 잉크로 패턴이 형성되어 있다. 마스크(10)를 잡아주는 홀더 프레임(300)은 보통 SUS 재질이며, 이 재질은 메이커에 따라 조금씩 다를 수 있다.
현재의 방식은 강하게 고정된 마스크(10)와 플레이트(308) 사이의 공간을 진 공 흡착시켜 기판(100)과 마스크(10)를 밀착시킨 후 UV를 조사하여 노광을 하는 방식으로, 기판(100)과 마스크(10)의 패턴 정합을 위하여 기판(10)의 스케일 변화를 측정한다. 다음으로, 스케일의 평균 변화량을 보정하여 마스크(10)와 기판(100)을 정합한다.
그러나, 이 경우 기판의 스케일 변화 산포가 크게 발생되거나, 10um 이하의 고 정합력이 요구되는 경우 대응이 불가능하여, 다양한 기판의 스케일 변화에 대응할 수 있는 새로운 노광 방식이 필요하다.
본 발명은, 노광 정합 능력을 향상시킬 수 있는 마스크 및 이를 구비한 노광장치를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명은 노광 정합 능력을 향상시킬 수 있는 전사방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 회로패턴에 상응하는 전사패턴이 형성되는 복수의 단위 마스크와, 복수의 단위 마스크 사이에 개재되는 탄성부재를 포함하는 마스크가 제공된다.
여기서, 복수의 단위 마스크는 병렬 또는 격자로 배치될 수 있고, 탄성부재 는 에폭시 글루(epoxy glue)일 수 있다.
또한, 본 발명의 다른 측면에 따르면, 회로패턴에 상응하는 전사패턴을 기판에 전사시키는 장치로서, 전사패턴이 형성되며, 탄성변형이 가능한 마스크와, 마스크의 외주연을 지지하는 홀더 프레임 및 홀더 프레임에 결합되며 전사패턴의 형상과 기판의 형상이 정합되도록 마스크를 변형시키는 변형수단을 포함하는 노광장치가 제공된다.
여기서, 마스크는 복수의 단위 마스크와, 복수의 단위 마스크 사이에 개재되는 탄성부재를 포함할 수 있고, 복수의 단위 마스크는 병렬 또는 격자로 배치될 수 있으며, 탄성부재는 에폭시 글루(epoxy glue)일 수 있다. 그리고, 변형수단은 마스크를 내측 또는 외측으로 가압하여 마스크를 변형시킬 수 있다.
한편, 본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 마스크에 형성되며, 회로패턴과 상응하는 전사패턴을 기판에 전사시키는 방법으로서, 기판의 크기를 측정하는 단계, 기판의 형상과 전사패턴의 크기의 차이를 산출하는 단계 및 기판 및 전사패턴의 형상이 정합되도록 마스크를 변형시키는 단계를 포함하는 전사방법이 제공된다. 즉, 측정하는 단계는 기판의 형상을 측정하는 단계일 수 있고, 산출하는 단계는 기판의 크기와 전사패턴의 형상의 차이를 산출하는 단계일 수 있다.
여기서, 측정하는 단계는, 기판에 형성되는 제1 정렬마크를 인식하는 단계 및 제1 정렬마크의 위치에 상응하는 제1 좌표 데이터를 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
그리고, 산출하는 단계 이전에, 마스크에 형성되는 제2 정렬마크를 인식하는 단계 및 제2 정렬마크의 위치에 상응하는 제2 좌표 데이터를 생성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
또한, 산출하는 단계는 제1 및 제2 좌표 데이터 간의 오차에 상응하는 위치 보정 데이터를 생성하여 형상의 차이를 산출할 수 있다.
변형시키는 단계는, 위치 보정 데이터에 상응하여 기판 및 전사패턴의 형상이 정합되도록 마스크를 변형시킬 수 있고, 마스크의 외주연을 내측 또는 외측으로 가압하여 변형시킬 수 있다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 기판과 마스크의 정합 능력을 향상시키고, 고해상도의 패턴을 기판에 전사시킬 수 있다.
본 발명의 특징, 이점이 이하의 도면과 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.
이하, 본 발명에 따른 마스크, 이를 구비한 노광장치 및 전사방법의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광장치용 마스크를 나타낸 평면도이 고, 도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 변형 전 노광장치용 마스크를 나타낸 개략도이며, 도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 변형 전 노광장치용 마스크를 나타낸 단면도이다.
그리고, 도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 변형 후 노광장치용 마스크를 나타낸 개략도이고, 도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 변형 후 노광장치용 마스크를 나타낸 단면도이다. 도 2 내지 도6을 참고하면, 마스크(200), 단위 마스크(202), 탄성부재(204), 제2 정렬마크(206), 전사패턴(208)이 도시되어 있다.
본 발명의 제1 실시예에 따른 마스크(200)는, 회로패턴에 상응하는 전사패턴(208)이 형성되는 복수의 단위 마스크(202)와, 복수의 단위 마스크(202) 사이에 개재되는 탄성부재(204)를 포함하여 기판(100)과 마스크(200) 간의 정합 능력을 향상시킬 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 단위 마스크(202)의 일면에는 전사패턴(208)이 형성된다. 전사패턴(208)은 기판(100)에 형성되는 회로패턴에 상응한다. 즉, 전사패턴(208)은 회로패턴을 형성하는 방법에 따라, 회로패턴과 동일한 형태로 형성되는 포지티브 패턴(positive pattern)과 그 반대로 회로패턴이 형성되는 부분을 제외한 부분을 커버하도록 형성되는 네거티브 패턴(negative pattern)의 형태를 가질 수 있다.
한편, 마스크(200)의 표면에는 복수의 제2 정렬마크(206)가 형성된다. 제2 정렬마크(206)는 기판(100)에 형성되는 제1 정렬마크(102)와 함께 기판(100)과 마스크(200)의 형상을 비교하는데 사용된다.
복수의 단위 마스크(202)는, 그 사이에 탄성부재(204)가 개재된다. 탄성부재(204)와 단위 마스크(202)는 그 사이에 별도의 접착층이 개재되어 결합될 수도 있고, 탄성부재(204) 자체가 접착력을 가질 수 있다. 탄성부재(204)는 예를 들면, 에폭시 글루(epoxy glue)일 수 있다. 에폭시 글루는 유리 전용 씰런트(sealant)로서, 고형 성분이 70% 함유될 수 있고, 사용온도 범위는 -29℃~121℃일 수 있다. 에폭시 글루는 우수한 접착성과 금속에 대해 부식되지 않는 특징을 갖는다.
마스크(200)는 탄성부재(204)에 의해 결합되는 복수의 단위 마스크(202)로 이루어져, 탄성부재(204)의 변형에 의해, 전체적으로 변형이 가능한 특성을 가지게 된다. 도 2에 도시된 바와 같이, 복수의 단위 마스크(202)는 격자로 배치될 수 있다. 즉, 단위 마스크(202)가 매트릭스 형태(matrix form)로 결합되어 마스크(200) 전체는 종 방향과 횡 방향으로 변형이 가능하게 된다. 마스크(200) 전체에서 탄성부재(204)가 차지하는 면적이 넓을 수록 마스크(200)의 변형 가능한 양은 증가하게 되고, 이는 마스크(200)의 사용 사양에 따라 조절될 수 있다.
도 3, 4에 도시된 바와 같이, 마스크(200)는 외력을 받기 전에는 원래의 형태를 가지고 있다. 마스크(200)의 단면도 평평한 형태를 유지하고 있다. 그러나, 도 5, 6에 도시된 바와 같이, 기판(100)의 형태에 대응하여 마스크(200)에 외력을 가하게 되면, 단위 마스크(202) 사이의 탄성부재(204)가 수축 또는 이완되면서, 마스크(200) 전체가 변형된다. 마스크(200)의 외주연에서 외력을 가하게 되면 변형된 마스크(200)의 단면은 전체적으로 굽어지는 형태가 될 수 있다. 도 3 내지 도 6은 본 실시예를 설명하기 위해, 실제보다 과장되게 도시되었으나, 기판(100)에 요구되 는 정밀도에 따라 그 변형량은 크지 않을 수 있다.
결국, 본 실시예는 기판(100)의 형상에 대응하여 마스크(200)의 형상을 물리적으로 변형시킴으로써, 기판(100)과 마스크(200) 간의 정합도를 향상시킬 수 있게 된다.
도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 노광장치용 마스크(200)를 나타낸 평면도이고, 도 8은 본 발명의 제3 실시예에 따른 노광장치용 마스크(200)를 나타낸 평면도이다. 도 7, 8은 노광과정에서 요구되는 기판(100)과 마스크(200) 간의 정합도, 기판(100)의 형상에 따라 병렬 또는 격자로 단위 마스크(202)가 결합된 형태를 보여주고 있다.
도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예는 두 개의 단위 마스크(202)가 나란히 결합되어 있다. 이 때, 마스크(200)의 변형은 단위 마스크(202) 사이에 세로로 개재된 탄성부재(204)의 변형에 따라 가로로 변형될 수 있다.
또한, 도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3 실시예는 네 개의 단위 마스크(202)가 격자, 즉 매트릭스 형태로 결합되어 가로와 세로로 변형될 수 있다.
도 9는 본 발명의 제4 실시예에 따른 노광장치를 나타낸 단면도이고, 도 10은 본 발명의 제4 실시예에 따른 노광장치를 나타낸 평면도이다. 도 9, 10을 참고하면, 기판(100), 마스크(200), 홀더 프레임(300), 자동 압력 실린더(302), 압력 게이지(304), 지지 용수철(306), 플레이트(308), 스페이서(310), 패킹(312)이 도시되어 있다.
본 실시예에 따른 노광장치는, 회로패턴에 상응하는 전사패턴(208)을 기 판(100)에 전사시키는 장치로서, 전사패턴(208)이 형성되며, 탄성변형이 가능한 마스크(200)와, 마스크(200)의 외주연을 지지하는 홀더 프레임(300) 및 홀더 프레임(300)에 결합되며 전사패턴(208)의 형상과 기판(100)의 형상이 정합되도록 마스크(200)를 변형시키는 변형수단을 포함하여, 기판(100)과 마스크(200)의 정합 능력을 향상시키고, 고해상도의 패턴을 기판(100)에 전사시킬 수 있다.
기판(100)의 형상과 전사패턴(208)의 형상이 정합한다고 함은 기판(100)의 회로패턴이 형성되는 부분에 마스크(200)의 전사패턴(208)이 정확하게 위치함을 의미한다.
노광장치는 감광재가 코팅된 기판(100)에 전사패턴(208)이 형성된 마스크(200)를 밀착시킨 후 자외선을 조사하여, 감광재가 빛에 반응하도록 하는 장치이다.
도 9에 도시된 바와 같이, 마스크(200)는 일면에 전사패턴(208)이 형성되며, 탄성변형이 가능한 마스크(200)이다. 마스크(200)는 전체가 탄성부재(204)로 이루어져 탄성변형 될 수도 있고, 단위 마스크(202) 사이에 탄성부재(204)가 개재되어 전체적으로 탄성변형 될 수도 있다. 본 실시예의 마스크(200)는 상술한 제1 실시예의 마스크(200)와 동일할 수 있다.
도 10에 도시된 바와 같이, 홀더 프레임(300)은 마스크(200)의 외주연을 지지한다. 홀더프레임은 마스크(200)의 변형과 함께 변형될 수 있는 탄성을 가지는 재질로 이루어 질 수 있다. 홀더 프레임(300)은 마스크(200)를 지지하고, 자동 압력 실린더(302)에 의해 마스크(200)에 가해지는 외력을 마스크(200)의 외주연 전체 에 고르게 전달한다.
변형수단은 홀더 프레임(300)에 결합되며, 전사패턴(208)의 형상과 기판(100)의 형상이 정합되도록 마스크(200)를 변형시키는 수단으로써, 예를 들어 자동 압력 실린더(302)일 수 있다. 자동 압력 실린더(302)는 홀더 프레임(300)의 외주연에 결합된다. 자동 압력 실린더(302)는 마스크(200)의 변형 정도와 그 형태에 따라 그 결합 위치와 개수가 결정될 수 있고, 본 실시예에서는 홀더 프레임(300)의 일측에 두 개씩 결합되어 총 8개가 결합된 형태를 예시하고 있다.
자동 압력 실린더(302)는 마스크(200)를 내측 또는 외측으로 가압할 수 있다. 즉, 자동 압력 실린더(302)는 마스크(200)를 수축 또는 이완시켜 마스크(200)의 형태를 변형시키게 된다. 노광장치는, 기판(100)에 노광장치에 제공되면, 기판(100)을 정렬하는 과정에 기판(100)의 형상과 마스크(200)에 형성된 전사패턴(208)의 형상을 비교하여 이들 간에 부정합이 발견되는 경우, 자동 압력 실린더(302)에 의해 마스크(200)를 변형시킨다. 마스크(200)가 전사패턴(208)의 형상과 기판(100)의 형상이 정합되도록 변형되어, 기판(100)과 전사패턴(208) 간에 정합력을 높일 수 있고, 보다 고 해상도의 전사를 구현할 수 있다.
자동 압력 실린더(302)는 가해진 외력의 크기를 측정할 수 있는 센서, 예를 들면 압력 게이지(304)를 더 포함할 수 있다. 압력 게이지(304)는 자동 압력 실린더(302)에 의해 가해진 압력의 크기를 측정하여 그 정보를 제어장치(미도시)에 제공할 수 있다.
도 9에 도시된 바와 같이, 노광장치는 홀더 프레임(300)을 지지하는 지지 용 수철(306)을 더 포함할 수 있다. 또한, 마스크(200)의 하측에 기판(100)을 지지하는 플레이트(308)와 기판(100)과 마스크(200) 사이에 일정한 공간을 확보하도록 하는 스페이서(310) 및 기판(100)이 마스크(200)에 흡착될 수 있도록 하는 패킹(312)을 포함할 수 있다.
도 11은 본 발명의 제5 실시예에 따른 전사방법을 나타낸 순서도이고, 도 12는 본 발명의 제5 실시예에 따른 전사방법을 나타낸 사시도이며, 도 13은 본 발명의 제5 실시예에 따른 변형 전 노광장치용 마스크(200)를 나타낸 평면도이다. 도 12 내지 도 15를 참고하면, 인식장치(400), 연산부(402), 제어부(404), 변형수단(406)이 도시되어 있다.
그리고, 도 14는 본 발명의 제5 실시예에 따른 위치 보정 전 제1 및 제2 좌표 데이터를 나타낸 개략도이고, 도 15는 본 발명의 제5 실시예에 따른 위치 보정 후 제1 및 제2 좌표 데이터를 나타낸 개략도이며, 도 16은 본 발명의 제5 실시예에 따른 변형 후 노광장치용 마스크(200)를 나타낸 평면도이다.
본 실시예에 따른 전사방법은 탄성변형 가능한 마스크(200)와 인식장치(400), 연산부(402), 제어부(404), 변형수단(406)을 포함하는 장치로 구현될 수 있으며, 마스크(200)와 변형수단(406)은 상술한 본 발명의 제4 실시예에 따른 노광장치의 일부를 예로 들어 설명하나, 이에 한정되는 장치로만 구현될 수 있는 것은 아니다.
본 실시예에 따른 전사방법은, 마스크(200)에 형성되며, 회로패턴과 상응하는 전사패턴(208)을 기판(100)에 전사시키는 방법으로서, 기판(100)의 형상을 측정 하는 단계, 기판(100)의 형상과 전사패턴(208)의 형상의 차이를 산출하는 단계 및 기판(100) 및 전사패턴(208)의 형상이 정합되도록 마스크(200)를 변형시키는 단계를 포함하여, 기판(100)과 마스크(200)의 정합 능력을 향상시키고, 고해상도의 패턴을 기판(100)에 전사시킬 수 있다.
먼저, 기판(100)의 형상을 측정한다. (S100) 노광장치에 기판(100)이 제공되면, 노광장치는 제공된 기판(100)의 형상을 인식할 수 있는 인식장치(400)을 포함할 수 있다. 인식장치(400)은 예를 들면, CCD일 수 있다.
기판(100)의 형상을 측정하기 위해, 먼저 인식장치(400)는 기판(100)에 형성되는 제1 정렬마크(102)를 인식한다. (S110) 도 12에 도시된 바와 같이, 제1 정렬마크(102)는 기판(100)의 일면에 형성되며, 복수로 형성될 수 있다. CCD와 같은 인식장치(400)는 픽셀 데이터로 제1 정렬마크(102)의 위치를 인식할 수 있다. 인식장치(400)는 복수의 제1 정렬마크(102)의 위치를 인식하여 기판(100)의 형상을 인식한다. 즉, 기판의 형상은 기판의 크기뿐만 아니라 그 형태를 포함하는 것으로 이해될 수 있을 것이다.
다음으로, 제1 정렬마크(102)의 위치에 상응하는 제1 좌표 데이터를 생성한다. (S120) 인식장치(400)는 픽셀 데이터로 인식된 제1 정렬마크(102)의 위치를 통해 평면직교좌표(x-y)데이터로 생성할 수 있게 된다. 도 14에 도시된 바와 같이, 제1 좌표 데이터는 (x1, y1)이다.
다음으로, 마스크(200)에 형성되는 제2 정렬마크(206)를 인식한다. (S200) 본 실시예에서 제1 정렬마크(102)를 인식하는 단계와 제2 정렬마크(206)를 인식하 는 단계를 분리하여 표현 하였으나, 이 두 단계는 도 12에 도시된 것과 같이 매우 짧은 시간 간격을 두고 이루어 질 수 있다. 제2 정렬마크(206)는 마스크(200)에 복수로 형성될 수 있다.
다음으로, 제2 정렬마크(206)의 위치에 상응하는 제2 좌표 데이터를 생성한다. (S300) 제2 정렬마크(206)를 인식하는 단계와 제2 좌표 데이터를 생성하는 단계는 상술한 바와 같이, 제1 정렬마크(102)에 대해 이루어지는 과정과 동일하게 이루어 질 수 있다.
다만, 도 12, 13에 도시된 바와 같이, 제2 정렬마크(206)는 일정한 넓이를 가지는 형태로 형성될 수 있다. 제2 정렬마크(206)의 크기는 기판(100)의 형상과 마스크(200)에 형성된 전사패턴(208)의 형상 간의 정합도가 가질 수 있는 허용오차만큼의 크기를 가질 수 있다.
따라서, 제1 정렬마크(102)가 제2 정렬마크(206)의 크기 내에서 인식되면, 이는 기판(100)과 마스크(200)의 정합도가 허용오차범위에 있는 경우로 볼 수 있다. 그러나, 도 13에 도시된 바와 같이, 제1 정렬마크(102)가 제2 정렬마크(206)의 크기 내에서 인식되지 못 하는 경우라면, 이는 기판(100)과 마스크(200)의 정합도가 허용오차범위를 벗어나는 경우로 마스크(200)의 보정이 필요한 경우로 볼 수 있다.
한편, 본 실시예에서와 같이, 제2 정렬마크(206)가 일정한 넓이를 가지는 경우에 제2 정렬마크(206)의 위치를 인식하는 단계는, 제2 정렬마크(206)의 중앙의 위치를 기준으로 위치를 인식한다. 도 14에 도시된 바와 같이, 제2 좌표 데이터는 (x2, y2)이다.
다음으로, 제1 및 제2 좌표 데이터 간의 오차에 상응하는 위치 보정 데이터를 생성한다. (S400) 전사패턴(208)의 형상과 기판(100)의 형상은 미리 형성된 제1 및 제2 정렬마크(102, 206)의 위치가 일치하게 되면, 기판(100)의 형상과 전사패턴의 형상이 정합하고 있는 것으로 인정될 수 있다. 그리고, 도 15에 도시된 바와 같이, 제2 정렬마크(206)가 일정한 넓이를 가지는 경우에는 제1 정렬마크(102)가 제2 정렬마크(206)의 크기 내에 인식되는 경우에 그 정합도가 허용범위 내로 인정될 수 있다.
도 14에 도시된 바와 같이, 연산부(402)는 제2 좌표 데이터를 제1 좌표 데이터에 일치시키기 위해서, 각 좌표의 성분(x, y)의 차이를 연산하여, 각 좌표 데이터 간의 차이 값(
Figure 112007077618314-pat00001
,
Figure 112007077618314-pat00002
)을 계산한다. 각각 네 개의 제1 및 제2 정렬마크(102, 206)로부터 얻어지는 네 개의 좌표 데이터의 차이 값(
Figure 112007077618314-pat00003
,
Figure 112007077618314-pat00004
)은 기판(100)의 형상과 전사패턴(208)의 형상의 차이를 나타내는 값이 될 수 있다.
또한, 각 좌표 데이터 간의 차이 값(
Figure 112007077618314-pat00005
,
Figure 112007077618314-pat00006
)은 위치 보정 데이터로서, 마스크(200)가 변형되어야 할 양을 나타낸다. 도 14에 도시된 바와 같이, 마스크(200)는 각 변이
Figure 112007077618314-pat00007
와
Figure 112007077618314-pat00008
만큼 더 내측으로 수축되어야 한다.
다음으로, 위치 보정 데이터에 상응하여 기판(100) 및 전사패턴(208)의 형상이 정합하도록 마스크(200)를 변형한다. (S500) 상술한 바와 같이, 연산부(402)는 위치 보정 데이터를 제어부(404)에 전달한다. 제어부(404)는 위치 보정 데이터만큼 마스크(200)가 변형되도록 변형수단(406)에 동작신호를 인가한다. 도 16에 도시된 바와 같이, 마스크(200)가 사각형인 경우, 변형수단(406)은 각 변에 결합될 수 있고, 제어부(404)는 각 변에 위치한 변형수단(406)에 동작신호를 인가하여, 제1 및 제2 정렬마크(102, 206)가 일치되도록 마스크(200)를 변형시킨다. 이 때, 변형수단(406)은 마스크(200)의 외주연을 내측 또는 외측으로 가압하여 변형시킬 수 있다.
도 15에 도시된 바와 같이, 마스크(200)의 변형에 의해 제1 및 제2 정렬마크(102, 206)의 위치가 일치하고 있다. 따라서, 기판(100)의 형상과 전사패턴(208)의 형상은 일치하게 되고, 기판(100)과 마스크(200)의 정합도가 향상됨으로써 형상을 전사할 수 있게 된다.
한편, 본 실시예에서와 같이, 제2 정렬마크(206)가 일정한 크기를 가지는 경우 제1 및 제2 정렬마크(102, 206)의 위치가 정확히 일치할 필요 없이, 제2 정렬마크(206)의 크기 내에 제1 정렬마크(102)가 위치하도록 하여, 설계상 허용범위 내에서 기판(100)과 마스크(200)를 정합시킬 수도 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
도 1은 종래기술에 따른 노광장치를 나타낸 단면도.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광장치용 마스크를 나타낸 평면도.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 변형 전 노광장치용 마스크를 나타낸 개략도.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 변형 전 노광장치용 마스크를 나타낸 단면도.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 변형 후 노광장치용 마스크를 나타낸 개략도.
도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 변형 후 노광장치용 마스크를 나타낸 단면도.
도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 노광장치용 마스크를 나타낸 평면도.
도 8은 본 발명의 제3 실시예에 따른 노광장치용 마스크를 나타낸 평면도.
도 9는 본 발명의 제4 실시예에 따른 노광장치를 나타낸 단면도.
도 10은 본 발명의 제4 실시예에 따른 노광장치를 나타낸 평면도.
도 11은 본 발명의 제5 실시예에 따른 전사방법을 나타낸 순서도.
도 12는 본 발명의 제5 실시예에 따른 전사방법을 나타낸 사시도.
도 13은 본 발명의 제5 실시예에 따른 변형 전 노광장치용 마스크를 나타낸 평면도.
도 14는 본 발명의 제5 실시예에 따른 위치 보정 전 제1 및 제2 좌표 데이터 를 나타낸 개략도.
도 15는 본 발명의 제5 실시예에 따른 위치 보정 후 제1 및 제2 좌표 데이터를 나타낸 개략도.
도 16은 본 발명의 제5 실시예에 따른 변형 후 노광장치용 마스크를 나타낸 평면도.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
100 : 기판 200 : 마스크
202 : 단위 마스크 204 : 탄성부재
206 : 제2 정렬마크 208 : 전사패턴
300 : 홀더 프레임 302 : 자동 압력 실린더
304 : 압력 게이지 306 : 지지 용수철
308 : 플레이트 400 : 인식장치
402 : 연산부 404 : 제어부

Claims (17)

  1. 회로패턴에 상응하는 전사패턴이 형성되며, 병렬로 배치되는 복수의 단위 마스크와;
    상기 복수의 단위 마스크 사이에 개재되는 탄성부재를 포함하는 마스크.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 단위 마스크는 격자로 배치되는 것을 특징으로 하는 마스크.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 탄성부재는 에폭시 글루(epoxy glue)인 것을 특징으로 하는 마스크.
  5. 회로패턴에 상응하는 전사패턴을 기판에 전사시키는 장치로서,
    상기 전사패턴이 형성되며, 탄성변형이 가능한 마스크와;
    상기 마스크의 외주연을 지지하는 홀더 프레임; 및
    상기 홀더 프레임에 결합되며, 상기 전사패턴의 형상과 상기 기판의 형상이 정합되도록 상기 마스크를 변형시키는 변형수단을 포함하며,
    상기 마스크는
    복수의 단위 마스크와;
    상기 복수의 단위 마스크 사이에 개재되는 탄성부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  6. 삭제
  7. 제5항에 있어서,
    상기 복수의 단위 마스크는 병렬로 배치되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 복수의 단위 마스크는 격자로 배치되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  9. 제5항에 있어서,
    상기 탄성부재는 에폭시 글루(epoxy glue)인 것을 특징으로 하는 노광장치.
  10. 제5항에 있어서,
    상기 변형수단은 상기 마스크를 내측 또는 외측으로 가압하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 변형수단은 자동 압력 실린더인 것을 특징으로 하는 노광장치.
  12. 마스크에 형성되며, 회로패턴과 상응하는 전사패턴을 기판에 전사시키는 방법으로서,
    상기 기판의 형상을 측정하는 단계;
    상기 기판의 형상과 상기 전사패턴의 형상의 차이를 산출하는 단계; 및
    상기 기판 및 전사패턴의 형상이 정합되도록 상기 마스크를 변형시키는 단계를 포함하는 전사방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 측정하는 단계는
    상기 기판에 형성되는 제1 정렬마크를 인식하는 단계; 및
    상기 제1 정렬마크의 위치에 상응하는 제1 좌표 데이터를 생성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전사방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 산출하는 단계 이전에,
    상기 마스크에 형성되는 제2 정렬마크를 인식하는 단계; 및
    상기 제2 정렬마크의 위치에 상응하는 제2 좌표 데이터를 생성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전사방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 산출하는 단계는
    상기 제1 및 제2 좌표 데이터 간의 오차에 상응하는 위치 보정 데이터를 생성하여 상기 형상의 차이를 산출하는 것을 특징으로 하는 전사방법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 변형시키는 단계는
    상기 위치 보정 데이터에 상응하여 상기 기판 및 전사패턴의 형상이 정합되도록 상기 마스크를 변형시키는 것을 특징으로 하는 전사방법.
  17. 제12항에 있어서,
    상기 변형시키는 단계는
    상기 마스크의 외주연을 내측 또는 외측으로 가압하여 변형시키는 것을 특징으로 하는 전사방법.
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