JP6317620B2 - インプリント方法、インプリント装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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- 基板上のインプリント材を、パターンが形成されたパターン領域を有するモールドで成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント方法であって、
前記パターン領域の実形状と前記パターン領域の設計形状との第1ずれ量を取得する第1工程と、
前記基板に形成されている基板パターンの実形状と前記基板パターンの設計形状との第2ずれ量を取得する第2工程と、
設計形状に対して実形状の拡大方向のずれ量を正とし、前記第1ずれ量と前記第2ずれ量との大小関係を判定する第3工程と、
前記第3工程で前記第2ずれ量が前記第1ずれ量よりも大きいと判定した場合に、前記モールドと前記基板との熱膨張係数差による前記モールドと前記基板との変形量差によって前記パターン領域の実形状と前記基板パターンの実形状との差が低減するように、前記モールド、前記基板及び前記モールドと前記基板との間の空間の少なくとも1つの温度を調整する第4工程と、
を有することを特徴とするインプリント方法。 - 前記第3工程で前記第1ずれ量が前記第2ずれ量よりも大きいと判定した場合に、前記モールドを圧縮することによる前記パターン領域の変形の制限量と前記第1ずれ量と前記第2ずれ量との差との大小関係を判定する第5工程と、
前記第5工程で前記第1ずれ量と前記第2ずれ量との差が前記制限量よりも大きいと判定した場合に、前記熱膨張係数差による前記モールドと前記基板との変形量差によって前記パターン領域の実形状と前記基板パターンの実形状との差が低減するように、前記モールドと前記基板との間の空間の温度を調整する第6工程と、
を更に有することを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。 - 前記第6工程の後、前記パターン領域の実形状と前記基板パターンの実形状との差が低減するように、前記モールドを圧縮して前記パターン領域を変形させる工程を更に有することを特徴とする請求項2に記載のインプリント方法。
- 前記第5工程で前記制限量が前記第1ずれ量と前記第2ずれ量との差よりも大きいと判定した場合に、前記モールドを圧縮して前記パターン領域を変形させる工程を更に有することを特徴とする請求項2に記載のインプリント方法。
- 前記モールドと前記基板との間の空間の温度に基づいて、前記インプリント材の温度を調整する工程を更に有することを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載のインプリント方法。
- 基板上のインプリント材を、パターンが形成されたパターン領域を有するモールドで成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記パターン領域の実形状と前記パターン領域の設計形状との第1ずれ量、及び、前記基板に形成されている基板パターンの実形状と前記基板パターンの設計形状との第2ずれ量を取得する取得部と、
前記モールド、前記基板及び前記モールドと前記基板との間の空間の少なくとも1つの温度を調整する調整部と、
設計形状に対する実形状の拡大方向のずれ量を正とし、前記第2ずれ量が前記第1ずれ量よりも大きい場合に、前記モールドと前記基板との熱膨張係数差による前記モールドと前記基板との変形量差によって前記パターン領域の実形状と前記基板パターンの実形状との差が低減するように、前記調整部による温度の調整を制御する制御部と、
を有することを特徴とするインプリント装置。 - 前記モールドを圧縮して前記パターン領域を変形させる変形部を更に有し、
前記制御部は、前記第1ずれ量が前記第2ずれ量よりも大きく、且つ、前記第1ずれ量と前記第2ずれ量との差が前記変形部による前記パターン領域の変形の制限量よりも大きい場合に、前記パターン領域の実形状と前記基板パターンの実形状との差が低減するように、前記調整部による温度の調整、及び、前記変形部による前記パターン領域の変形を制御することを特徴とする請求項6に記載のインプリント装置。 - 前記取得部は、前記モールドに設けられたマークを検出して前記パターン領域の実形状を計測し、前記基板に設けられたマークを検出して前記基板パターンの実形状を計測するマーク検出系を含むことを特徴とする請求項6又は7に記載のインプリント装置。
- 前記取得部は、前記インプリント装置の外部の装置で求められた前記第1ずれ量及び前記第2ずれ量を取得することを特徴とする請求項6又は7に記載のインプリント装置。
- 請求項6乃至9のうちいずれか1項に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014095501A JP6317620B2 (ja) | 2014-05-02 | 2014-05-02 | インプリント方法、インプリント装置及び物品の製造方法 |
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ID=54697244
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2014095501A Active JP6317620B2 (ja) | 2014-05-02 | 2014-05-02 | インプリント方法、インプリント装置及び物品の製造方法 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6317620B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20170210036A1 (en) * | 2016-01-22 | 2017-07-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Mold replicating method, imprint apparatus, and article manufacturing method |
JP7027037B2 (ja) * | 2016-01-22 | 2022-03-01 | キヤノン株式会社 | モールドの複製方法、インプリント装置、および物品の製造方法 |
JP6768409B2 (ja) * | 2016-08-24 | 2020-10-14 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、及び物品製造方法 |
JP6779748B2 (ja) * | 2016-10-31 | 2020-11-04 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050270516A1 (en) * | 2004-06-03 | 2005-12-08 | Molecular Imprints, Inc. | System for magnification and distortion correction during nano-scale manufacturing |
JP2013065813A (ja) * | 2011-08-29 | 2013-04-11 | Fujifilm Corp | インプリントシステムおよびインプリントシステムのメンテナンス方法 |
JP6140966B2 (ja) * | 2011-10-14 | 2017-06-07 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 |
JP2013098291A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-20 | Canon Inc | インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015213129A (ja) | 2015-11-26 |
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