CN107797376A - 一种掩膜版及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种掩膜版及其制作方法。所述制作方法包括：提供一掩膜基板，所述掩膜基板包括相对的玻璃面和蒸镀面；采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽；采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔，所述多个开孔分别与对应的凹槽连通。本发明实施例提供的技术方案，相对于现有技术中分别在玻璃面和蒸镀面采用黄光工艺的掩膜版制作方法，减少了一次黄光工艺，进而提高了掩膜版的制作效率，且由于采用激光形成的凹槽与对应开孔连通后能够平滑过渡，避免了连接处阴影效应的产生，提高了掩膜版的精度。

Description

一种掩膜版及其制作方法

技术领域

本发明实施例涉及掩膜版制备技术，尤其涉及一种掩膜版及其制作方法。

背景技术

有机发光显示装置性能优良，能够自发光无需背光，易于实现柔性显示，且响应时间短，因此备受用户青睐。

有机发光器件的有效制备是实现有机发光显示装置应用的基础，现有技术中实现有机发光器件的制备方法有多种，其中使用较为广泛的一种方法是像素并置法，采用这种方法制作出的有机发光器件显示色彩纯正，且发光效率高。具体的，像素并置法利用掩膜版作为镀膜工艺中的掩膜工具来形成像素材料层，因此，掩膜版的精度直接影响着形成有机发光器件的性能。

目前掩膜版的制作方法中需要采用两次黄光工艺，由于黄光工艺步骤相对较多，所以制作效率不高，且掩膜版通孔内壁存在阴影效应，导致掩膜版的精度降低。

发明内容

本发明提供一种掩膜版及其制作方法，以提高掩膜版的制作效率和精度。

第一方面，本发明实施例提供了一种掩膜版的制作方法，所述制作方法包括：

提供一掩膜基板，所述掩膜基板包括相对的玻璃面和蒸镀面；

采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽；

采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔，所述多个开孔分别与对应的凹槽连通。

第二方面，本发明实施例还提供了一种掩膜版，所述掩膜版采用本发明任一实施例所述的制作方法形成。

本发明实施例提供的技术方案，采用激光在掩模基板的玻璃面侧形成多个相对独立的凹槽，并采用黄光工艺在掩模基板的蒸镀面侧对应多个凹槽形成多个开孔，且使多个开孔分别与对应的凹槽连通，相对于现有技术中分别在玻璃面和蒸镀面采用黄光工艺的掩膜版制作方法，减少了一次黄光工艺，进而提高了掩膜版的制作效率，且由于采用激光形成的凹槽与对应开孔连通后能够平滑过渡，避免了连接处阴影效应的产生，提高了掩膜版的精度。

附图说明

为了更加清楚地说明本发明示例性实施例的技术方案，下面对描述实施例中所需要用到的附图做一简单介绍。显然，所介绍的附图只是本发明所要描述的一部分实施例的附图，而不是全部的附图，对于本领域普通技术人员，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图得到其他的附图。

图1a-图1c是现有技术中掩膜版的制作方法的示意图；

图2是本发明实施例提供的一种掩膜版的制作方法的流程图；

图3a-图11是本发明实施例提供的掩膜版的制作方法的示意图；

图12a是形成减重槽后掩膜版的俯视示意图；

图12b是沿图12a中虚线GH的剖面示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

图1a-图1c是现有技术中掩膜版的制作方法的示意图。如图1a所示，提供一掩膜基板100，所述掩膜基板100包括相对的玻璃面110和蒸镀面120。采用黄光工艺在掩模基板100的玻璃面110侧形成多个凹槽111，如图1b所示。然后再一次采用黄光工艺在掩模基板100的蒸镀面120侧对应上述多个凹槽111形成多个开孔121，如图1c所示，其中，多个开孔121分别与对应的凹槽111连通。

现有技术中的掩膜版制作方法分别在掩膜基板100的玻璃面110侧和蒸镀面120侧进行一次黄光工艺，而黄光工艺包括光刻胶涂覆、显影以及烘烤等多道工艺步骤，因此掩膜版的制作效率较低。此外，如图1c所示，无论在玻璃面110侧还是在蒸镀面120侧，随着刻蚀深度的增加掩模基板100的刻蚀量呈减少趋势，导致玻璃面110侧的凹槽111与蒸镀面120侧的开孔121连接位置出现凸起结构130，利用该掩膜版进行镀膜工艺时，上述凸起结构130会对膜层材料形成阻挡，使膜层材料不能有效形成于玻璃面110侧凹槽111对应的位置，造成镀膜精度的下降。

针对上述问题，本发明提供了一种掩膜版的制作方法，该方法在玻璃面110侧形成凹槽111时，使用激光加工替代现有技术中的一次黄光工艺，激光加工快捷方便的特性提升了掩膜版的制作效率。此外，由于激光形成的凹槽111形状易于控制，避免了凹槽111与开孔121连接处置凸起结构130的出现，进而解决了掩膜版的阴影效应问题，提高了掩膜版的精度。

基于以上描述，本发明实施例提供了如下的解决方案。

图2是本发明实施例提供的一种掩膜版的制作方法的流程图。参见图2，所述掩膜版的制作方法具体可以包括：

步骤21、提供一掩膜基板，所述掩膜基板包括相对的玻璃面和蒸镀面。

示例性的，图3a是本实施例提供的掩模基板的俯视示意图。图3b是沿图3a中虚线AB的剖面示意图。如图3b所示，掩模基板200包括相对的玻璃面210和蒸镀面220。具体的，可随机选择掩膜基板200的一表面作为玻璃面210，则与玻璃面210相对的表面即为蒸镀面220。

可选的，所述掩模基板200可以采用金属材料形成。

进一步的，所述掩膜基板200可以采用不锈钢或镍铁合金形成。其中，镍铁合金的热膨胀系数较小，使得采用掩模基板200形成的掩膜版的热膨胀系数较小，进而在使用掩膜版进行镀膜时，掩膜版因工艺温度产生的形变较小，有利于提高掩膜版的精度，因此，镍铁合金为掩膜基板200常用的形成材料。

需要说明的是，本实施例中的掩膜版可用于制备有机发光显示器中的像素材料层，像素材料层的厚度通常较小，因此要求掩膜版的厚度也相应较小。示例性的，掩膜版的厚度取值范围可以为10μm～50μm，由于掩模基板200与后续形成掩膜版的厚度相同，故掩膜基板200的厚度取值范围也可以为10μm～50μm。

步骤22、采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽。

可选的，所述激光的激光束直径可以为1μm。需要说明的是，激光束直径与待形成凹槽的截面形状及尺寸相关,可根据需要进行适应性调整。

需要说明的是，采用激光在玻璃面形成多个凹槽时，需要首先获得多个凹槽的尺寸、位置及深度，其中，尺寸和深度可由用户进行预设，而位置则需要参照玻璃面进行确定。具体的，多个凹槽的位置可通过多种方式确定，本实施例以设置对位标记的方式为例进行说明，值得注意的是，上述设置对位标记的方式不仅可确定多个凹槽的位置，还能够用于蒸镀面的对位，进而实现玻璃面凹槽与蒸镀面开孔位置的准确对应。

具体的，采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽之前，还可以包括：采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成对位标记。

进一步的，采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧标定对位标记，可以包括：确定与所述玻璃面的几何中心距离相等的四个点为标记中心点，根据所述标记中心点以及预设尺寸、形状及深度，采用激光形成对应的对位标记。

需要说明的是，对位标记数量过少时无法实现掩模基板的准确定位，对位标记数量过多时制作过程复杂且占用面积较大，本实施例综合以上两方面设置四个对位标记，并选择与玻璃面几何中心距离相等的四个点作为标记中心点，这样的设置能够在确定一个标记中心点后快速确定其余三个标记中心点的位置，有利于简化操作过程。其中，标记中心点为玻璃面上各对位标记的几何中心点。

示例性的，所述掩膜基板200平行于所述玻璃面210以及所述蒸镀面220的截面可以为矩形、六角形或八角形。相应的，确定与所述玻璃面210的几何中心距离相等的四个位置为标记中心点，可以包括：获取所述玻璃面210的两条对角线，选择所述两条对角线上分别与所述玻璃面210上用以获取两条对角线的四个顶点距离相等的四个点为标记中心点。然后结合四个标记中心点以及预设对位标记尺寸及深度即可采用激光获得四个对位标记201，如图4a所示。图4b是沿图4a中虚线CD的剖面示意图。

需要说明的是，对位标记201可以为如图4b所示的凹槽状，也可以为孔状。此外，对位标记201平行于所述玻璃面210以及所述蒸镀面220的截面可以为图4a所示的圆形，也可以为椭圆形或多边形。

对于掩模基板200的玻璃面210侧形成对位标记201的情况，采用激光在所述掩膜基板200的玻璃面210侧形成多个相互独立的凹槽211，可以包括：根据所述对位标记201确定所述玻璃面210上多个所述凹槽211的边沿线，基于所述边沿线以及预设凹槽深度，采用激光形成对应的多个凹槽211，如图5a所示。图5b是沿图5a中虚线EF的剖面示意图。

需要说明的是，如图5a所示，多个相互独立的凹槽211可以呈矩阵排布。可选的，多个相互独立的凹槽211还可以呈多行和多列排布，相邻两行凹槽211在列方向或行方向上间错设置，如图6所示。

可选的，所述多个相互独立的凹槽的深度可以小于所述掩膜基板厚度的一半。以利于凹槽与蒸镀面侧开孔的连接处的平滑过渡。

步骤23、采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔，所述多个开孔分别与对应的凹槽连通。

可选的，针对设置对位标记来确定玻璃面侧多个凹槽位置的情况，采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔，可以包括：在所述掩膜基板200的蒸镀面220上涂布光刻胶300，如图7所示；根据所述对位标记调整所述掩膜基板200的位置，采用预设条件依次对所述光刻胶300进行曝光和显影，如图8和图9所示；在所述掩膜基板200的蒸镀面220侧刻蚀形成所述多个开孔221，如图10所示；去除剩余所述光刻胶，如图11所示。其中，图7-图11均与图5b的剖面位置相同，且图7是在掩模基板的蒸镀面上涂布光刻胶后的剖面示意图；图8是光刻胶曝光后的剖面示意图；图9是光刻胶显影后的剖面示意图；图10是蒸镀面侧形成多个开孔后的剖面示意图；图11是去除光刻胶后的剖面示意图。

具体的，所述开孔最大口径可以为玻璃面侧凹槽口径的2～8倍。

可选的，本发明中掩膜版的制作方法还可以包括：在所述掩膜基板200玻璃面210侧多个凹槽211之外的区域形成减重槽212，所述减重槽212与所述多个凹槽211相互独立,如图12a所示。需要说明的是，上述形成减重槽212的步骤通常在多个开孔221分别与对应的凹槽211连通后进行，以免在后续形成多个开孔221时凹槽211与相邻开孔221贯通。

图12b是沿图12a中虚线GH的剖面结构示意图。如图12b所示，开孔221与对应凹槽211连通后形成的通孔与相邻减重槽212之间不贯通，以免减小掩膜版的掩膜区域，保证镀膜形状不受减重槽的影响。需要说明的是，减重槽212的设置减轻了掩膜版的重量，避免了镀膜过程中掩膜版受重力影响与衬底分离，有利于提升镀膜精度。值得注意的是，本实施例中的减重槽212截面不限于图12b所示的矩形，在不影响掩膜版正常使用的情况下还可以为其他形状。

本发明还提供一种掩膜版，所述掩膜版采用本发明任一实施例所述的制作方法形成。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (18)

1.一种掩膜版的制作方法，其特征在于，包括：

提供一掩膜基板，所述掩膜基板包括相对的玻璃面和蒸镀面；

采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽；以及

采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔，所述多个开孔分别与对应的凹槽连通。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述掩模基板采用金属材料形成。

3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述掩膜基板采用不锈钢或镍铁合金形成。

4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述掩膜基板的厚度取值范围为10μm～50μm。

5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽的步骤之前，还包括：

采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成对位标记。

6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧标定对位标记的步骤，包括：

确定与所述玻璃面的几何中心距离相等的四个点为标记中心点；

根据所述标记中心点以及预设尺寸、形状及深度，采用激光形成对应的对位标记。

7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述确定与所述玻璃面的几何中心距离相等的四个位置为标记中心点的步骤，包括：

获取所述玻璃面的两条对角线；

选择所述两条对角线上分别与所述玻璃面上用以获取两条对角线的四个顶点距离相等的四个点为标记中心点。

8.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽的步骤，包括：

根据所述对位标记确定所述玻璃面上多个所述凹槽的边沿线；

基于所述边沿线以及预设凹槽深度，采用激光形成对应的多个凹槽。

9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔的步骤，包括：

在所述掩膜基板的蒸镀面上涂布光刻胶；

根据所述对位标记调整所述掩膜基板位置；

采用预设条件对所述光刻胶进行曝光和显影；

在所述掩膜基板的蒸镀面侧刻蚀形成所述多个开孔；以及

去除剩余所述光刻胶。

10.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述对位标记为凹槽状或孔状。

11.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述对位标记平行于所述玻璃面以及所述蒸镀面的截面为圆形、椭圆形或多边形。

12.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述多个相互独立的凹槽呈阵列排布。

13.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述多个相互独立的凹槽呈多行和多列排布，且相邻两行凹槽在列方向或行方向上间错设置。

14.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述多个相互独立的凹槽的深度小于所述掩膜基板厚度的一半。

15.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述激光的激光束直径为1μm。

16.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，还包括：

在所述掩膜基板玻璃面侧多个凹槽之外的区域形成减重槽，所述减重槽与所述多个凹槽相互独立。

17.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述开孔最大口径为所述凹槽口径的2～8倍。

18.一种掩膜版，其特征在于，采用权利要求1-17任一项所述的制作方法形成。