JP2019145734A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. 基板を回転させる基板回転機構と、
   回転される前記基板の所定面に向かって超音波洗浄液を噴射する第１ノズルおよび第２ノズルと、を備え、
   前記第１ノズルと前記第２ノズルは、１つの筐体に保持されており、
   前記第１ノズルおよび／または前記第２ノズルは、回転される前記基板のべべルに前記基板の接線方向に超音波洗浄液を噴射する、基板洗浄装置。
2. 前記第１ノズルからの超音波洗浄液と前記第２ノズルからの超音波洗浄液は、互いに混ざり合った後に前記所定面に達するか、前記所定面に達した後に互いに混ざり合う、請求項１に記載の基板洗浄装置。
3. 前記第１ノズルと前記第２ノズルは旋回軸を中心に旋回するアームの先端に取り付けられ、前記基板の第１面に超音波洗浄液を噴射する、請求項１または２に記載の基板洗浄装置。
4. 前記第１ノズルは回転される前記基板の第１面に超音波洗浄液を噴射し、
   前記第２ノズルは回転される前記基板の前記第１面と反対側の第２面に超音波洗浄液を噴射する、請求項１に記載の基板洗浄装置。
5. 前記第１ノズルおよび／または前記第２ノズルは、回転される前記基板のエッジ部分に超音波洗浄液を噴射する、請求項１に記載の基板洗浄装置。
6. 前記エッジ部分に超音波洗浄液を噴射する前記第１ノズルおよび／または前記第２ノズルは、超音波洗浄液が、回転される前記基板のべべルには当たらず前記基板のエッジ部分に着液し、その後、エッジ部分から中心に向かうように超音波洗浄液を噴射する、請求項５に記載の基板洗浄装置。
7. 前記エッジ部分に超音波洗浄液を噴射する前記第１ノズルおよび／または前記第２ノズルは、超音波洗浄液が、回転される前記基板のエッジ部分より中心側に着液し、その後、エッジ部分に向かうように超音波洗浄液を噴射する、請求項５に記載の基板洗浄装置。
8. 前記ベベルに超音波洗浄液を噴射する前記第１ノズルおよび／または前記第２ノズルは、前記基板の水平面内で前記基板の第１接線方向および第２接線方向の内側の範囲で移動可能に支持され、
   超音波洗浄液が、前記基板のベベルに、前記第１接線方向および前記第２接線方向に噴射される、請求項１に記載の基板洗浄装置。
9. 前記第１ノズルおよび前記第２ノズルは、前記基板回転機構の近傍を揺動しながら前記基板のエッジ部分に超音波洗浄液を噴射する、請求項１に記載の基板洗浄装置。
10. 基板を回転させる基板回転機構と、
    回転される前記基板の所定面に向かって超音波洗浄液を噴射する第１ノズルおよび第２ノズルと、
    前記筐体に接続され、前記第１ノズルおよび前記第２ノズルに洗浄液を供給する流路と、
    前記流路から供給された洗浄液に超音波を付与する振動子と、
    前記流路に接続され、洗浄液にマイクロバブルを導入するマイクロバブル供給機構と、を備え、
    前記第１ノズルと前記第２ノズルは、１つの筐体に保持されている、基板洗浄装置。
11. 前記第１ノズルおよび前記第２ノズルと、前記マイクロバブル供給機構と、の間に設置され、前記マイクロバブル供給機構により導入されたマイクロバブルを除去するように構成されたフィルタをさらに備える、請求項１０に記載の基板洗浄装置。
12. 基板を回転させながら、前記基板の所定面に向かって、１つの筐体に保持された第１ノズルおよび第２ノズルから超音波洗浄液を噴射する、基板洗浄方法。
13. 前記第１ノズルから噴射される超音波洗浄液と前記第２ノズルから噴射される超音波洗浄液は、超音波洗浄液の周波数、電力、流量、温度および液の種類のうちの少なくとも１つが互いに異なる、請求項１２に記載の基板洗浄方法。