JP3286286B2 - 洗浄装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄装置に関し、
さらに詳細には、例えば、半導体ウエハや磁気ディスク
など扁平な円盤形状やドーナツ形状をした丸形電子部品
基板などのような各種の基板（以下、本明細書において
は、上記したような各種の基板を総称して、単に、「基
板」と称する。）などを洗浄するための洗浄装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来より、半導体ウエハや磁気ディスク
などのように円盤型状や貫通孔を備えたドーナツ型状に
形成された基板などを洗浄するための洗浄装置として、
例えば、図１に示すような洗浄装置が知られている。

【０００３】図１には従来の洗浄装置１００の一部を破
断して示した概略構成説明図が示されており、この従来
の洗浄装置１００は、底部１０２ｃに外部と連通する排
気口１０２ａ、１０２ｂがそれぞれ形成された排気ダク
ト１０２ｃ、１０２ｄを有する槽１０２と、槽１０２の
底部１０２ｅに配設された軸受１１４に回動自在に支持
された支軸１１６と、支軸１１６とジョイント１１８を
介して接続されるモーター１２０と、支軸１１６の上端
部に固定的に配設された回転台１２２と、回転台１２２
の上面１２２ａの縁部から立設された４本の支柱１２
４、１２６、１２８、１３０と、４本の支柱１２４、１
２６、１２８、１３０それぞれの上端部に配設された４
つの基板チャック１３２、１３４、１３６、１３８と、
回転台１２２の外周側に配設されたカップ状の飛散防止
部材１４０と、図示しないアームによって支持され回転
台１２２と対向するようにして配設された流体ジェット
・ノズル１４２とを有して構成されている。

【０００４】ここで、槽１０２の排気口１０２ａ、１０
２ｂには吸引装置（図示せず）が接続されており、槽１
０２の内部空間に飛来する洗浄液（後述する）の飛沫
（ミスト）やパーティクルなどの汚染物質が、排気ダク
ト１０２ｃ、１０２ｄを介して吸引装置により槽１０２
の外部へ吸引されるようになされている。

【０００５】支軸１１６は、支軸１１６に接続されるモ
ーター１２０の駆動によって任意の回転速度で中心軸Ｏ
−Ｏ周りに回転可能なものであり、この実施の形態にお
いては、支軸１１６の回転速度は１００ｒｐｍ乃至５０
００ｒｐｍの範囲で任意に可変できるようになされてい
る。

【０００６】そして、回転台１２２は円柱状体であり、
回転台１２２の円形の表面１２２ａの中心Ｐが中心軸Ｏ
−Ｏに一致するようにして支軸１１６の上端部に固定的
に配設され、モーター１２０の駆動によって支軸１１６
が中心軸Ｏ−Ｏ周りに回転するとともに、回転台１２２
も中心軸Ｏ−Ｏ周りに中心Ｐを中心として回転するもの
である。

【０００７】基板チャック１３２、１３４、１３６、１
３８は、回転台１２２の円形の上面１２２ａの縁部に中
心Ｐを中心として９０度間隔で立設された４本の支柱１
２４、１２６、１２８、１３０のそれぞれの上端部に配
設されており、これら４つの基板チャック１３２、１３
４、１３６、１３８は基板２００の外周部位（エッジ）
２００ａを把持して、回転台１２２の上面１２２ａと間
隙を有した状態で回転台１２２上に基板２００を配設す
るものである。

【０００８】この際、基板チャック１３２、１３４、１
３６、１３８に把持されて回転台１２２上に配設された
基板２００における洗浄される面（洗浄面）は、回転台
１２２の上面１２２ａと対向する面の背面側の面、つま
り、流体ジェット・ノズル１４２と対向する面であり、
以下、回転台１２２上に配設されたときに流体ジェット
・ノズル１４２と対向する洗浄面を、適宜に「基板２０
０の表面２００ｂ」と称することとする。

【０００９】また、基板２００は、基板２００の表面２
００ｂの中心（センター）２００ｃが、回転台１２２の
中心Ｐならびに中心軸Ｏ−Ｏに一致するようにして、回
転台１２２上に配設されるものである。

【００１０】飛散防止部材１４０は、略円筒状体であ
り、この略円筒状体の中心軸が中心軸Ｏ−Ｏと一致する
ようにして槽１０２内に固定的に配設されており、飛散
防止部材１４０の上部で開口する上方開口部１４０ａ
は、飛散防止部材１４０の下部で開口する下方開口部１
４０ｂに比べて小さい内径で開口しているものである。

【００１１】そして、飛散防止部材１４０の下部は中心
軸Ｏ−Ｏに平行する側面板１４０ｃを形成し、飛散防止
部材１４０の上部は中心軸Ｏ−Ｏ側に傾斜する斜面板１
４０ｄを形成しており、回転台１２２を取り囲むように
して配設され、基板２００の表面２００ｂの洗浄や乾燥
の際に、槽１０２の内部空間に飛来する洗浄液（後述す
る）の飛沫（ミスト）や、パーティクルなどの汚染物質
の飛散を防止するものである。

【００１２】そして、流体ジェット・ノズル１４２は、
上記したように図示しないアームによって支持され、回
転台１２２と対向するようにして配設されており、モー
ター（図示せず）の駆動によって３次元方向で移動可能
なものである。

【００１３】図２（ａ）には流体ジェット・ノズル１４
２の構成説明図が示されており、図２（ｂ）には後述す
る先端ノズル１５０の断面説明図が示されている。

【００１４】そして、流体ジェット・ノズル１４２に
は、純水や洗剤液などの液体を充填しかつガスによって
加圧されている加圧タンク１５２から、パイプ１５４を
介して液体が供給されるとともに、圧縮空気や不活性ガ
スなどのガス（気体）を充填したガス・タンク１５６か
ら、ガス配管１６０を介してガス・フィルター１５８を
経た後にガスが供給されるものである。

【００１５】また、加圧タンク１５２から流体ジェット
・ノズル１４２に至るパイプ１５４には、液体用開閉バ
ルブ１６２が配設されており、ガス・タンク１５６から
ガス・フィルターに至るガス配管１６０には、ガス用開
閉バルブ１６４が配設されている。

【００１６】液体用開閉バルブ１６２が開かれていると
きには、加圧タンク１５２から流体ジェット・ノズル１
４２に液体の供給が行われ、液体用開閉バルブ１６２が
閉じられているときには、加圧タンク１５２から流体ジ
ェット・ノズル１４２に液体の供給は行われない。

【００１７】また、ガス用開閉バルブ１６４が開かれて
いるときには、ガス・タンク１５６から流体ジェット・
ノズル１４２にガスの供給が行われ、ガス用開閉バルブ
１６４が閉じられているときには、ガス・タンク１５６
から流体ジェット・ノズル１４２にガスの供給は行われ
ない。

【００１８】そして、流体ジェット・ノズル１４２にお
いて供給された液体とガスとは混合され、先端ノズル１
５０から液体とガスとを混合させた混合物たる洗浄液が
基板２００の表面２００ｂに対して噴射されることにな
る（なお、本明細書においては当該「流体ジェット・ノ
ズル１４２が、基板２００に液体とガスとを混合させた
混合物たる洗浄液を噴射して行う洗浄」を、単に「洗
浄」と適宜称することとする。）。

【００１９】なお、上記した液体用開閉バルブ１６２と
ガス用開閉バルブ１６４とは、洗浄装置１００において
洗浄が行れるときにのみ開かれるものであり、この洗浄
装置１００が洗浄を行なっていないとき（例えば、停止
のときや洗浄の開始待ちのとき）には閉じられているも
のである。

【００２０】そして、上記した従来の洗浄装置１００を
用いて基板２００を洗浄するには、基板２００の洗浄が
必要な所定の工程において、まず、４つの基板チャック
１３２、１３４、１３６、１３８によって基板２００の
エッジ２００ａを把持し、基板２００の表面２００ｂが
流体ジェット・ノズル１４２と対向するようにして、基
板２００を回転台１２２の上面１２２ａに配設する。

【００２１】こうして、基板２００が回転台１２２に配
設された後に、流体ジェット・ノズル１４２に対して、
加圧タンク１５２に充填されている純水や洗剤液などの
液体の供給がパイプ１５４を介して開始されるととも
に、ガス・タンク１５６に充填されている圧縮空気や不
活性ガスなどのガス（気体）の供給がガス配管１６０を
介してガス・フィルター１５８を経て開始される。

【００２２】これら流体ジェット・ノズル１４２に同時
に供給された液体とガスとは、流体ジェット・ノズル１
４２において混合されて洗浄液となり、先端ノズル１５
０から基板２００の表面２００ｂに噴射される。

【００２３】この際、流体ジェット・ノズル１４２の先
端ノズル１５０は、基板２００の表面２００ｂと所定の
間隔を保った状態で、モーター（図示せず）の駆動によ
って、洗浄の開始時には基板２００の表面２００ｂのセ
ンター２００ｃに対向し、洗浄の進行とともに基板２０
０のエッジ２００ａに対向するようにして２次元方向に
移動するものである。

【００２４】また、モーター１２０の駆動によって支軸
１１６が中心軸Ｏ−Ｏ周りに回転するのに伴って、回転
台１２２が中心軸Ｏ−Ｏ周りに中心Ｐを中心として回転
するので、回転台１２２に配設された基板２００は高速
で回転されることになる。

【００２５】従って、高速で回転する基板２００の表面
２００ｂに対して、基板２００の表面２００ｂのセンタ
ー２００ｃからエッジ２００ａへと順次、流体ジェット
・ノズル１４２の先端ノズル１５０から洗浄液が噴射さ
れ、基板２００の表面２００ｂのパーティクルなどの汚
染物質が除去されて洗浄が行われる。

【００２６】そして、流体ジェット・ノズル１４２への
液体とガスとの供給を同時に終了して、上記した洗浄を
終了するが、モーター１２０の駆動による基板２００の
回転を継続することにより、洗浄が行われた基板２００
に残留するミストが飛散して除去されるとともに、基板
２００の乾燥を行うものである。

【００２７】こうした基板２００の洗浄や乾燥の際に
は、基板２００や回転台１２２の高速回転によって、槽
１０２の内部空間には気流（図１点線矢印参照）が発生
し、飛散防止部材１４０の内周側１４０ｆにおいては、
気流は槽１０２内を下方方向に下降し、飛散防止部材１
４０の外周側１４０ｅにおいては、気流は槽１０２内を
上方方向に上昇するようにして巻き上がっている。

【００２８】また、基板２００の洗浄や乾燥の際に槽１
０２の内部空間に飛来する洗浄液のミストやパーティク
ルなどの汚染物質は、飛散防止部材１４０によって飛散
が防止されたり、吸引装置（図示せず）による吸引力に
よって槽１０２の排気ダクト１０２ｃ、１０２ｄの排気
口１０２ａ、１０２ｂから吸引されて槽１０２の外部へ
除去されたりする。

【００２９】しかしながら、上記した従来の洗浄装置１
００においては、例えば、以下に示すような種々の問題
点があった。

【００３０】［問題点１］槽１０２の内部空間を上方方
向に上昇するようにして巻き上がる気流（図１点線矢印
参照）が発生してしまうので、槽１０２の内部空間に飛
来する洗浄液のミストやパーティクルなどの汚染物質が
基板２００に再付着することを防止するためには、排気
ダクト１０２ｃ、１０２ｄからの単位時間当たりの排気
量を多くする必要があり、排気量を低減することができ
なかった。

【００３１】このため、大型の吸引装置などが必要であ
り、コスト・アップを招来することとなっていた。

【００３２】［問題点２］流体ジェット・ノズル１４２
においては、液体とガスとが同時に供給を開始され、ま
た、同時に供給を終了されるので、ガスの収縮によりガ
ス配管１６０内をガスが逆流してガス・フィルター１５
８にまで到達してしまい、流体ジェット・ノズル１４２
にガスを安定的に供給することが困難であった。

【００３３】［問題点３］基板２００の表面２００ｂの
センター２００ｃから洗浄が開始されるので、流体ジェ
ット・ノズル１４２の先端ノズル１５０からの洗浄液の
噴射が開始されて間もなくの不安定なときに、基板２０
０の表面２００ｂのセンター２００ｃが洗浄されること
になり、基板２００の表面２００ｂのセンター２００ｃ
の洗浄を均一かつ高精度で安定して行うことが困難であ
った。

【００３４】［問題点４］基板２００のエッジ２００ａ
にまで洗浄液が噴射されて洗浄が終了するので、基板２
００のエッジ２００ａを把持する基盤チャック１３２、
１３４、１３６、１３８に洗浄液が噴射され異物などが
飛散するなどして、洗浄が行われた基板２００の表面２
００ｂが再汚染される恐れがあった。

【００３５】［問題点５］この洗浄装置１００が洗浄を
行なっていないとき、例えば、停止のときや洗浄の開始
待ちのときなどには、流体ジェット・ノズル１４２に液
体とガスとは供給されておらず、加圧タンク１５２から
流体ジェット・ノズル１４２に至るパイプ１５４内に残
留している液体は、パイプ１５４内に停滞しているの
で、このパイプ１５４内に停滞している液体中にバクテ
リアや異物の発生が起こり、洗浄液の品質を劣化させた
りなどして、洗浄の洗浄効果を低減させる恐れがあっ
た。

【００３６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記したよ
うな従来の技術の有する種々の問題点に鑑みてなされた
ものであり、その目的とするところは、新たな問題点を
招来することなしに、従来の技術の有する上記した問題
点１乃至問題点５を解消するようにして、パーティクル
などの汚染物質により基板を汚染する恐れを低減させる
とともに、安定した処理を行うことを可能にして、高精
度で基板の洗浄を行うことができるようにした洗浄装置
を提供しようとするものである。

【００３７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のうち請求項１に記載の発明は、排気口を有
する槽と、上記槽の内部に回転自在に配設された回転部
材と、上記回転部材の上面に立設して基板の外周部位を
把持し、上記基板と上記回転部材の上面とが所定の間隔
を有するようにして上記基板を支持する基板支持部材
と、上記槽の内部において上記回転部材の外周側に配設
される筒状の飛散防止部材と、液体と気体とを混合した
洗浄液を噴射し３次元方向で移動可能な洗浄手段と、上
記液体を上記洗浄手段に供給する液体供給手段と、上記
気体を上記洗浄手段に供給する気体供給手段と、上記槽
と上記飛散防止部材との間隙を塞ぐようにして配設され
る遮蔽部材とを有し、上記回転部材の回転に伴って上記
基板支持部材に支持された基板を回転し、当該回転して
いる基板に対して対向する位置に上記洗浄手段を３次元
方向で移動し、上記洗浄手段が当該回転している基板に
対して上記液体供給手段によって供給された上記液体と
上記気体供給手段によって供給された上記気体とを混合
した混合物たる上記洗浄液を噴射することによって、当
該回転している基板の上記洗浄手段と対向する面を洗浄
するとともに、上記洗浄手段は、上記気体供給手段によ
って上記気体の供給が開始されるタイミングよりも遅い
タイミングで上記液体供給手段によって上記液体の供給
が開始されるとともに、上記気体供給手段によって上記
気体の供給が終了されるタイミングよりも早いタイミン
グで上記液体供給手段によって上記液体の供給が終了さ
れ、上記基板支持部材に支持された上記基板とは対向し
ない位置において上記洗浄液の噴射を開始し、上記基板
支持部材が上記基板を把持する位置に上記洗浄液が噴射
されないようにして噴射を終了し、上記洗浄液を噴出し
ないときには、上記液体供給手段によって上記液体の供
給が行われることを特徴とするものである。

【００３８】従って、本発明のうち請求項１に記載の発
明によれば、槽と飛散防止部材との間隙を塞ぐようにし
て配設した遮蔽部材によって、槽の内部空間に発生する
気流のうち、槽内を上方方向に上昇するような気流は遮
蔽されるようになり、槽の排気口からの排気量を低減し
ても、槽の内部空間に飛来する洗浄液のミストやパーテ
ィクルなどの汚染物質が基板に再付着することを防止す
ることができる。

【００３９】また、本発明のうち請求項２に記載の発明
は、排気口を有する槽と、上記槽の内部に回転自在に配
設された回転部材と、上記回転部材の上面に立設して基
板の外周部位を把持し、上記基板と上記回転部材の上面
とが所定の間隔を有するようにして上記基板を支持する
基板支持部材と、上記槽の内部において上記回転部材の
外周側に配設される筒状の飛散防止部材と、液体と気体
とを混合した洗浄液を噴射し３次元方向で移動可能な洗
浄手段と、上記液体を上記洗浄手段に供給する液体供給
手段と、上記気体を上記洗浄手段に供給する気体供給手
段と、上記基板支持部材に支持された上記基板の上記洗
浄手段と対向する面の近傍において上記槽の外部と連通
する排気ダクトとを有し、上記回転部材の回転に伴って
上記基板支持部材に支持された基板を回転し、当該回転
している基板に対して対向する位置に上記洗浄手段を３
次元方向で移動し、上記洗浄手段が当該回転している基
板に対して上記液体供給手段によって供給された上記液
体と上記気体供給手段によって供給された上記気体とを
混合した混合物たる上記洗浄液を噴射することによっ
て、当該回転している基板の上記洗浄手段と対向する面
を洗浄するとともに、上記洗浄手段は、上記気体供給手
段によって上記気体の供給が開始されるタイミングより
も遅いタイミングで上記液体供給手段によって上記液体
の供給が開始されるとともに、上記気体供給手段によっ
て上記気体の供給が終了されるタイミングよりも早いタ
イミングで上記液体供給手段によって上記液体の供給が
終了され、上記基板支持部材に支持された上記基板とは
対向しない位置において上記洗浄液の噴射を開始し、上
記基板支持部材が上記基板を把持する位置に上記洗浄液
が噴射されないようにして噴射を終了し、上記洗浄液を
噴出しないときには、上記液体供給手段によって上記液
体の供給が行われることを特徴とするものである。

【００４０】従って、本発明のうち請求項２に記載の発
明によれば、飛散防止部材の排気ダクトが、基板支持部
材に配設された基板の洗浄手段と対向する面の近傍に位
置して槽の外部と連通しているので、基板支持部材に配
設された基板の洗浄手段と対向する面の近傍において
は、槽の内部空間に発生する気流は排気ダクトによって
外部へ排気されるようになり、槽内を上方方向に上昇す
るような気流を抑制することができ、槽の排気口からの
排気量を低減しても、槽の内部空間に飛来する洗浄液の
ミストやパーティクルなどの汚染物質が基板に再付着す
ることを防止することができる。

【００４１】

【００４２】また、本発明のうち請求項１ならびに請求
項２に記載の発明によれば、洗浄手段には、洗浄の開始
時においは気体供給手段によって気体の供給が開始され
るタイミングよりも遅いタイミングで液体供給手段によ
って液体の供給が開始され、洗浄の終了時においては気
体供給手段によって上記気体の供給が終了されるタイミ
ングよりも早いタイミングで上記液体供給手段によって
上記液体の供給が終了されるので、気体が収縮して逆流
するようなことがなくなり、洗浄手段に気体を気体供給
手段によって安定的に供給することができる。

【００４３】

【００４４】また、本発明のうち請求項１ならびに請求
項２に記載の発明によれば、洗浄手段は、基板支持部材
に支持された基板とは対向しない位置において洗浄液の
噴射を開始するので、洗浄手段からの洗浄液の噴射が開
始されて間もなくの不安定なときに基板が洗浄されるこ
とがなくなり、基板の洗浄を均一かつ高精度で安定して
行うことができる。

【００４５】

【００４６】また、本発明のうち請求項１ならびに請求
項２に記載の発明によれば、洗浄手段は、基板支持部材
が基板を支持する位置に洗浄液が噴射されないようにし
て噴射を終了するので、基板支持部材が基板を支持する
位置に洗浄液が噴射され異物などが飛散することがなく
なり、洗浄が行われた基板が再汚染されることを防止す
ることができる。

【００４７】

【００４８】また、本発明のうち請求項１ならびに請求
項２に記載の発明によれば、洗浄手段には洗浄液を噴出
しないときに、液体供給手段によって液体の供給が行わ
れるので、液体が停滞してバクテリアや異物の発生が起
ることがなくなり、洗浄液の品質の劣化などが防止され
洗浄効果を維持することができる。

【００４９】

【発明の実施の形態】以下、添付の図面に基づいて、本
発明による洗浄装置の実施の形態の一例を詳細に説明す
るものとする。

【００５０】図３には、本発明による洗浄装置の第１の
実施の形態の一部を破断して示した概略構成説明図が示
されている。

【００５１】なお、図３乃至図５において、図１乃至図
２と同一あるいは相当する構成に関しては、図１乃至図
２において用いた符号と同一の符号を用いて示すことに
より、その詳細な構成および作用の説明は省略する。

【００５２】ここで、本発明の第１の実施の形態による
洗浄装置１０と「従来の技術」の項で説明した従来の洗
浄装置１００とを比較すると、本発明による洗浄装置１
０が、槽１０２と飛散防止部材１４０との間に配設され
た遮蔽部材７０を有している点において、従来の洗浄装
置１００と異なっている。

【００５３】即ち、本発明による洗浄装置の第１の実施
の形態においては、洗浄装置１０は、槽１０２の側面部
１０２ｆの内周側全周にわたって配設された遮蔽部材７
０を有して構成されている。

【００５４】この遮蔽部材７０は、中央部位に開口部７
０ａを有するドーナツ形状の板状体であり、槽１０２の
側面部１０２ｆに中心軸Ｏ−Ｏと直交する方向で、開口
部７０ａが飛散防止部材１４０の上方開口部１４０ａに
近接するようにして配設されているものである。

【００５５】従って、槽１０２の側面部１０２ｆと飛散
防止部材１４０の外周側１４０ｅとの間の間隙は、飛散
防止部材１４０の上方開口部１４０ａの近傍において遮
蔽部材７０によって塞がれている。

【００５６】また、この洗浄装置１０は、従来の洗浄装
置１００に対して、 （ア）流体ジェット・ノズル１４２への液体とガスの供
給タイミング （イ）流体ジェット・ノズル１４２の移動範囲ならびに
先端ノズル１５０からの洗浄液の噴射のタイミング （ウ）洗浄装置１０が洗浄を行なっていないとき（例え
ば、停止のときや洗浄の開始待ちのときなど）の状態 について変更を行っており、以下、（ア）乃至（ウ）の
変更について詳細に説明することとする。

【００５７】（ア）流体ジェット・ノズル１４２への液
体とガスの供給タイミング 図４（ａ）には、従来の洗浄装置１００における流体ジ
ェット・ノズル１４２に液体とガスとが供給されるタイ
ミングの説明図が示されており、図４（ｂ）には、本発
明による洗浄装置１０における流体ジェット・ノズル１
４２に液体とガスとが供給されるタイミングの説明図が
示されている。

【００５８】図４（ａ）に示すように、従来の洗浄装置
１００においては、洗浄の開始時には、流体ジェット・
ノズル１４２に液体とガスとが同じタイミングＴ１で供
給を開始され、洗浄の終了時には、流体ジェット・ノズ
ル１４２に液体とガスとが同じタイミングＴ４で供給を
終了されていた。

【００５９】一方、本発明による洗浄装置１０において
は（図４（ｂ）参照）、洗浄の開始時には、タイミング
Ｔ１において流体ジェット・ノズル１４２にガスの供給
が開始され、当該タイミングＴ１から所定時間ｔ１後の
タイミングＴ２において、流体ジェット・ノズル１４２
に液体の供給が開始されるものである。

【００６０】そして、洗浄の終了時には、タイミングＴ
３において流体ジェット・ノズル１４２に液体の供給が
終了され、当該タイミングＴ３から所定時間ｔ２後のタ
イミングＴ４において、流体ジェット・ノズル１４２に
ガスの供給が終了されるものである。

【００６１】即ち、本発明による洗浄装置１０において
は（図４（ｂ）参照）、洗浄の開始時には、流体ジェッ
ト・ノズル１４２にガスの供給が開始されるタイミング
（図４（ｂ）Ｔ１参照）よりも遅いタイミング（図４
（ｂ）Ｔ２参照）で、流体ジェット・ノズル１４２に液
体の供給が開始され、洗浄の終了時には、流体ジェット
・ノズル１４２にガスの供給が終了されるタイミング
（図４（ｂ）Ｔ４参照）よりも早いタイミング（図４
（ｂ）Ｔ３参照）で、流体ジェット・ノズル１４２に液
体の供給が終了される。

【００６２】なお、上記したような流体ジェット・ノズ
ル１４２への液体とガスの供給タイミングの変更は、例
えば、液体用開閉バルブ１６２とガス用開閉バルブ１６
４との開閉のタイミングを変更することにより実現する
ことができる。

【００６３】（イ）流体ジェット・ノズル１４２の移動
範囲ならびに先端ノズル１５０からの洗浄液の噴射のタ
イミング 流体ジェット・ノズル１４２の先端ノズル１５０は、モ
ーター（図示せず）の駆動によって基板２００の表面２
００ｂと所定の間隔を保った状態で２次元方向に移動す
るものであり、図５（ａ）（ｂ）には、図３におけるＥ
矢視図であって、流体ジェット・ノズル１４２の先端ノ
ズル１５０の２次元方向での移動範囲を示す説明図が示
されている。

【００６４】この実施の形態においては、図５（ａ）に
示すように、流体ジェット・ノズル１４２の先端ノズル
１５０は、基板２００の表面２００ｂから外れた位置
（図５（ａ）位置Ａ参照）から、基板２００の表面２０
０ｂのセンター２００ｃに対向する位置（図５（ａ）位
置Ｂ参照）までを往復して２次元方向に移動するか、ま
たは、図５（ｂ）に示すように、流体ジェット・ノズル
１４２の先端ノズル１５０は、基板２００の表面２００
ｂから外れた位置（図５（ｂ）位置Ａ参照）から、位置
Ａの対面の基板２００のエッジ２００ａに対向する位置
（図５（ｂ）位置Ｃ参照）までを往復して２次元方向に
移動するかのいずれかである。

【００６５】ただし、流体ジェット・ノズル１４２の先
端ノズル１５０が上記したいずれの範囲（図５（ａ）な
らびに図５（ｂ）参照）で２次元方向で移動するにして
も、洗浄の開始時には、流体ジェット・ノズル１４２の
先端ノズル１５０は、基板２００の表面２００ｂから外
れた位置（図５（ａ）（ｂ）位置Ａ参照）に配置されて
いるものである。

【００６６】そして、先端ノズル１５０からの洗浄液の
噴射は、洗浄の開始時には、流体ジェット・ノズル１４
２の先端ノズル１５０が基板２００の表面２００ｂから
外れた位置（図５（ａ）（ｂ）位置Ａ参照）に配置して
いる状態で開始され、洗浄の終了時には、洗浄液が基板
チャック１３２、１３４、１３６、１３８に噴射されな
い位置に流体ジェット・ノズル１４２の先端ノズル１５
０が位置している状態で終了するものである。

【００６７】（ウ）洗浄装置１０が洗浄を行なっていな
いとき（例えば、停止のときや洗浄の開始待ちのときな
ど）の状態 洗浄を行なっていないとき（例えば、停止のときや洗浄
の開始待ちのときなど）には、従来の洗浄装置１００に
おいては、流体ジェット・ノズル１４２に液体とガスと
は供給されないものであるが、この洗浄装置１０におい
ては、流体ジェット・ノズル１４２に液体の供給が行わ
れるものである。

【００６８】つまり、洗浄を行なっていないときでも、
洗浄装置１０においては洗浄が行われる際と同様にし
て、液体用開閉バルブ１６２（図２（ａ）参照）が開か
れて、加圧タンク１５２から流体ジェット・ノズル１４
２に液体の供給が行われるものである。

【００６９】なお、この際、加圧タンク１５２から流体
ジェット・ノズル１４２に供給された液体がガス配管１
６０内を逆流することを防止するために、逆流を防止す
る程の圧力で加圧するガスがガス・タンク１５６から流
体ジェット・ノズル１４２に供給される。

【００７０】以上の構成において、本発明による洗浄装
置１０を用いて基板２００を洗浄するには、基板２００
の洗浄が必要な所定の工程において、まず、４つの基板
チャック１３２、１３４、１３６、１３８によって基板
２００のエッジ２００ａを把持し、基板２００の表面２
００ｂが流体ジェット・ノズル１４２と対向するように
して、基板２００を回転台１２２の上面１２２ａに配設
する。

【００７１】こうして、基板２００が回転台１２２に配
設された後に、まず、ガス・タンク１５６に充填されて
いる圧縮空気や不活性ガスなどのガス（気体）を、タイ
ミングＴ１（図４（ｂ）参照）において、ガス配管を介
しガス・フィルター１５８を経て流体ジェット・ノズル
１４２に供給を開始する。

【００７２】そして、当該タイミングＴ１（図４（ｂ）
参照）から所定時間ｔ１後（図４（ｂ）参照）のタイミ
ングＴ２（図４（ｂ）参照）において、加圧タンク１５
２に充填されている純水や洗剤液などの液体を、パイプ
１５４を介し流体ジェット・ノズル１４２に供給を開始
する。

【００７３】所定時間ｔ１（図４（ｂ）参照）の間隔
で、ガス、液体の順番で流体ジェット・ノズル１４２に
供給されたガスと液体とは、流体ジェット・ノズル１４
２において混合されて洗浄液となり、先端ノズル１５０
から基板２００の表面２００ｂに噴射される。

【００７４】この際、流体ジェット・ノズル１４２の先
端ノズル１５０は、基板２００の表面２００ｂと所定の
間隔を保った状態で、モーター（図示せず）の駆動によ
って上記（イ）の移動範囲（図５（ａ）あるいは図５
（ｂ）参照）で移動するものである。

【００７５】即ち、流体ジェット・ノズル１４２の先端
ノズル１５０は、基板２００の表面２００ｂから外れた
位置（図５（ａ）（ｂ）位置Ａ参照）から、基板２００
の表面２００ｂのセンター２００ｃに対向する位置（図
５（ａ）位置Ｂ参照）までか、あるいは、位置Ａの対面
の基板２００のエッジ２００ａに対向する位置（図５
（ｂ）位置Ｃ参照）までの間を往復して移動する。

【００７６】より詳細には、高速で回転する基板２００
の表面２００ｂに対して行われる洗浄は、まず、流体ジ
ェット・ノズル１４２の先端ノズル１５０が、基板２０
０の表面２００ｂから外れた位置（図５（ａ）（ｂ）位
置Ａ参照）に配置している状態で、先端ノズル１５０か
らの洗浄液の噴射が開始され、洗浄液の噴射が安定する
までは先端ノズル１５０は位置Ａにおいて待機する。

【００７７】先端ノズル１５０からの洗浄液の噴射が安
定すると、流体ジェット・ノズル１４２の先端ノズル１
５０が基板２００の表面２００ｂのセンター２００ｃに
対向する位置（図５（ａ）位置Ｂ参照）までか、あるい
は、位置Ａの対面の基板２００のエッジ２００ａに対向
する位置（図（ｂ）５位置Ｃ参照）までの間を往復して
移動し、先端ノズル１５０から噴射された洗浄液によっ
て、基板２００の表面２００ｂのパーティクルなどの汚
染物質が除去されて洗浄が行われる。

【００７８】そして、先端ノズル１５０から噴射された
洗浄液が基板チャック１３２、１３４、１３６、１３８
に噴射されない位置に流体ジェット・ノズル１４２の先
端ノズル１５０が位置している状態で、流体ジェット・
ノズル１４２の先端ノズル１５０からの洗浄液の噴射が
終了されて洗浄が終了する。

【００７９】なお、モーター１２０の駆動によって支軸
１１６が中心軸Ｏ−Ｏ周りに回転するのに伴って、回転
台１２２が中心軸Ｏ−Ｏ周りに中心Ｐを中心として回転
するので、回転台１２２に配設された基板２００は高速
で回転しているものである。

【００８０】そして、上記した洗浄が終了すると、モー
ター１２０の駆動による基板２００の回転を継続するこ
とにより、洗浄が行われた基板２００に残留するミスト
が飛散されて除去されるとともに、基板２００の乾燥を
行うものである。

【００８１】こうした基板２００の洗浄や乾燥の際に
は、基板２００や回転台１２２の高速回転によって、槽
１０２の内部空間には気流（図３点線矢印参照）が発生
する。

【００８２】即ち、飛散防止部材１４０の内周側１４０
ｆにおいては、気流は槽１０２内を下方方向に下降して
排気ダクト１０２ｃ、１０２ｄを通り、排気口１０２
ａ、１０２ｂから外部へ排気される。

【００８３】一方、飛散防止部材１４０の外周側１４０
ｅにおいては、遮蔽部材７０によって槽１０２内を上方
方向に上昇するような気流は遮蔽されてしまい、気流の
槽１０２内を上方方向に上昇するような巻き上げは抑制
される。

【００８４】そして、基板２００の洗浄や乾燥の際に槽
１０２の内部空間に飛来する洗浄液のミストやパーティ
クルなどの汚染物質は、飛散防止部材１４０によって飛
散が防止されたり、吸引装置（図示せず）による吸引力
によって槽１０２の排気口１２ａ、１２ｂから吸引され
て槽１０２の外部へ除去されたりする。

【００８５】以上において説明したように、上記した洗
浄装置１０は、槽１０２内に遮蔽部材７０を配設するよ
うにしたので、槽１０２の内部空間に発生する気流（図
３点線矢印参照）を制御することができ、気流の槽１０
２内を上方方向に上昇するような巻き上げは抑制される
ので、排気口１０２ａ、１０２ｂからの排気量を低減し
ても、槽１０２の内部空間に飛来する洗浄液のミストや
パーティクルなどの汚染物質が基板２００に再付着する
ことを防止することができる。

【００８６】このため、「従来の技術」の項で説明した
問題点１「槽１０２の内部空間を上方方向に上昇するよ
うにして巻き上がる気流（図１点線矢印参照）が発生し
てしまうので、槽１０２の内部空間に飛来する洗浄液の
ミストやパーティクルなどの汚染物質が基板２００に再
付着することを防止するためには、排気ダクト１０２
ｃ、１０２ｄからの単位時間当たりの排気量を多くする
必要があり、排気量を低減することができなかった。こ
のため、大型の吸引装置などが必要であり、コスト・ア
ップを招来することとなっていた。」を解消することが
できる。

【００８７】また、上記した洗浄装置１０は、流体ジェ
ット・ノズル１４２への液体とガスの供給タイミング
を、洗浄の開始時には、ガスの供給が開始されるタイミ
ングよりも遅いタイミングで液体の供給が開始され、洗
浄の終了時には、ガスの供給が終了されるタイミングよ
りも早いタイミングで液体の供給が終了されるようにし
たので（上記（ア）参照）、ガスの収縮が起こることが
なく、ガス配管１６０内をガスが逆流してガス・フィル
ター１５８にまで到達するようなこともないので、流体
ジェット・ノズル１４２にガスを安定的に供給すること
ができる。

【００８８】このため、「従来の技術」の項で説明した
問題点２「流体ジェット・ノズル１４２においては、液
体とガスとが同時に供給を開始され、また、同時に供給
を終了されるので、ガスの収縮によりガス配管１６０内
をガスが逆流してガス・フィルター１５８にまで到達し
てしまい、流体ジェット・ノズル１４２にガスを安定的
に供給することが困難であった。」を解消することがで
きる。

【００８９】さらに、上記した洗浄装置１０は、流体ジ
ェット・ノズル１４２の先端ノズル１５０が、基板２０
０の表面２００ｂから外れた位置（図５（ａ）（ｂ）位
置Ａ参照）に配置されている状態で、先端ノズル１５０
からの洗浄液の噴射が開始され、洗浄液の噴射が安定す
るまでは待機するようにしたので（上記（イ）参照）、
先端ノズル１５０からの洗浄液の噴射が開始されて間も
なくの不安定なときに、基板２００の表面２００ｂのセ
ンター２００ｃが洗浄されることはなく、基板２００の
表面２００ｂのセンター２００ｃの洗浄を均一かつ高精
度で安定して行うことができる。

【００９０】このため、「従来の技術」の項で説明した
問題点３「基板２００の表面２００ｂのセンター２００
ｃから洗浄が開始されるので、流体ジェット・ノズル１
４２の先端ノズル１５０からの洗浄液の噴射が開始され
て間もなくの不安定なときに、基板２００の表面２００
ｂのセンター２００ｃが洗浄されることになり、基板２
００の表面２００ｂのセンター２００ｃの洗浄を均一か
つ高精度で安定して行うことが困難であった。」を解消
することができる。

【００９１】さらにまた、上記した洗浄装置１０は、先
端ノズル１５０から噴射された洗浄液が基板チャック１
３２、１３４、１３６、１３８に噴射されない位置に流
体ジェット・ノズル１４２の先端ノズル１５０が配置さ
れている状態で、流体ジェット・ノズル１４２の先端ノ
ズル１５０からの洗浄液の噴射が終了されるようにした
ので（上記（イ）参照）、基板２００のエッジ２００ａ
にまで洗浄液が噴射されて洗浄が終了することはなくな
り、基板２００のエッジ２００ａを把持する基盤チャッ
ク１３２、１３４、１３６、１３８に洗浄液が噴射され
異物などが飛散することもなく、洗浄が行われた基板２
００の表面２００ｂが再汚染されることを防止すること
ができる。

【００９２】このため、「従来の技術」の項で説明した
問題点４「基板２００のエッジ２００ａにまで洗浄液が
噴射されて洗浄が終了するので、基板２００のエッジ２
００ａを把持する基盤チャック１３２、１３４、１３
６、１３８に洗浄液が噴射され異物などが飛散するなど
して、洗浄が行われた基板２００の表面２００ｂが再汚
染される恐れがあった。」を解消することができる。

【００９３】そして、上記した洗浄装置１０は、洗浄装
置１０が洗浄を行なっていないとき（例えば、停止のと
きや洗浄の開始待ちのときなど）に、流体ジェット・ノ
ズル１４２に液体が供給されるようにしたので（上記
（ウ）参照）、加圧タンク１５２から流体ジェット・ノ
ズル１４２に至るパイプ１５４内に液体が残留し停滞す
ることがなく、このパイプ１５４内に停滞している液体
中にバクテリアや異物の発生が起ることもないので、洗
浄液の品質の劣化などを防止し、洗浄の洗浄効果を維持
することができる。

【００９４】このため、「従来の技術」の項で説明した
問題点５「この洗浄装置１００が洗浄を行なっていない
とき、例えば、停止のときや洗浄の開始待ちのときなど
には、流体ジェット・ノズル１４２に液体とガスとは供
給されておらず、加圧タンク１５２から流体ジェット・
ノズル１４２に至るパイプ１５４内に残留している液体
は、パイプ１５４内に停滞しているので、このパイプ１
５４内に停滞している液体中にバクテリアや異物の発生
が起こり、洗浄液の品質を劣化させたりなどして、洗浄
の洗浄効果を低減させる恐れがあった。」を解消するこ
とができる。

【００９５】次に、図６は、本発明による洗浄装置の第
２の実施の形態の一部を破断して示した概略構成説明図
が示されており、図６において、図１乃至図５と同一あ
るいは相当する構成に関しては、図１乃至図５において
用いた符号と同一の符号を用いて示すことにより、その
詳細な構成および作用の説明は省略する。

【００９６】ここで、本発明の第２の実施の形態による
洗浄装置２０と「従来の技術」の項で説明した従来の洗
浄装置１００とを比較すると、本発明による洗浄装置２
０は、飛散防止部材４０が外部と連通する排気口４０ｈ
を備えた排気ダクト９０を有している点において、従来
の洗浄装置１００と異なっている。

【００９７】即ち、本発明による洗浄装置の第２の実施
の形態においては、洗浄装置２０は、回転台１２２の外
周側に配設された排気ダクト９０を有する飛散防止部材
４０を備えて構成されている。

【００９８】この飛散防止部材４０は、略円筒状体であ
り、この略円筒状体の中心軸が中心軸Ｏ−Ｏと一致する
ようにして槽１０２内に固定的に配設されており、飛散
防止部材４０の上部で開口する第１上方開口部４０ｉと
第２上方開口部４０ａとは、等しい内径で開口している
ものであり、また、飛散防止部材４０の下部で開口する
下方開口部４０ｂに比べて小さい内径で開口しているも
のである。

【００９９】そして、飛散防止部材４０の下部は中心軸
Ｏ−Ｏに平行する側面板４０ｃを形成し、飛散防止部材
４０の上部は中心軸Ｏ−Ｏ側に傾斜し第１開口部４０ｉ
に至る第１斜面板４０ｇと、中心軸Ｏ−Ｏ側に傾斜し第
２上方開口部４０ａに至る第２斜面板４０ｄとを形成し
ている。

【０１００】さらに、第１斜面板４０ｇと第２斜面板４
０ｄとの所定の部位から、中心軸Ｏ−Ｏに直交する方向
で延設され、槽１０２の開口部１０２ｇを貫通して洗浄
装置２０の外部に延長した排気管８０が配設されてい
る。この排気管８０は、外部に開口した排気口４０ｈを
備えている。

【０１０１】そして、第１斜面板４０ｇと第２斜面板４
０ｄと排気管８０とにより、槽１０２の内部と外部とを
連通する排気ダクト９０が形成されるものである。

【０１０２】そして、排気ダクト９０の排気口４０ｈに
は吸引装置（図示せず）が接続されており、排気口４０
ｈを介して槽１０２の内部空間に飛来するミストやパー
ティクルなどの汚染物質が、吸引装置により槽１０２の
外部へ吸引されるようになされている。

【０１０３】従って、この洗浄装置２０においては、槽
１０２の下方に排気ダクト１０２ｃ、１０２ｄが配設さ
れ、槽１０２の上方においては、回転台１２２に配設さ
れた基板２００の表面２００ｂの近傍から外部へ連通す
る排気ダクト９０が配設されているものである。

【０１０４】そして、この飛散防止部材４０が、回転台
１２２を取り囲むようにして配設され、基板２００の表
面２００ｂの洗浄や乾燥の際に、槽１０２の内部空間に
飛来するミストやパーティクルなどの汚染物質の飛散を
防止するとともに、基板２００や回転台１２２の高速回
転によって槽１０２の内部空間に発生する気流（図６点
線矢印参照）を制御するものである。

【０１０５】さらに、この洗浄装置２０は、上記した第
１の実施の形態の洗浄装置１０と同様にして、従来の洗
浄装置１００に対して、 （ア）流体ジェット・ノズル１４２への液体とガスの供
給タイミング （イ）流体ジェット・ノズル１４２の移動範囲ならびに
先端ノズル１５０からの洗浄液の噴射のタイミング （ウ）洗浄装置１０が洗浄を行なっていないとき（例え
ば、停止のときや洗浄の開始待ちのときなど）の状態 について変更を行っているものであり（図４乃至図５参
照）、その詳細な構成および作用の説明は上記第１の実
施の形態の洗浄装置１０の説明を援用するものとする。

【０１０６】以上の構成において、本発明による洗浄装
置２０を用いて基板２００を洗浄するには、基板２００
の洗浄が必要な所定の工程において、まず、４つの基板
チャック１３２、１３４、１３６、１３８によって基板
２００のエッジ２００ａを把持し、基板２００の表面２
００ｂが流体ジェット・ノズル１４２と対向するように
して、基板２００を回転台１２２の上面１２２ａに配設
する。

【０１０７】こうして、基板２００が回転台１２２に配
設された後に、まず、ガス・タンク１５６に充填されて
いる圧縮空気や不活性ガスなどのガス（気体）を、タイ
ミングＴ１（図４（ｂ）参照）において、ガス配管を介
しガス・フィルター１５８を経て流体ジェット・ノズル
１４２に供給を開始する。

【０１０８】そして、当該タイミングＴ１（図４（ｂ）
参照）から所定時間ｔ１後（図４（ｂ）参照）のタイミ
ングＴ２（図４（ｂ）参照）において、加圧タンク１５
２に充填されている純水や洗剤液などの液体を、パイプ
１５４を介し流体ジェット・ノズル１４２に供給を開始
する。

【０１０９】所定時間ｔ１（図４（ｂ）参照）の間隔
で、ガス、液体の順番で流体ジェット・ノズル１４２に
供給されたガスと液体とは、流体ジェット・ノズル１４
２において混合されて洗浄液となり、先端ノズル１５０
から基板２００の表面２００ｂに噴射される。

【０１１０】この際、流体ジェット・ノズル１４２の先
端ノズル１５０は、基板２００の表面２００ｂと所定の
間隔を保った状態で、モーター（図示せず）の駆動によ
って上記（イ）の移動範囲（図５（ａ）あるいは図５
（ｂ）参照）で移動するものである。

【０１１１】即ち、流体ジェット・ノズル１４２の先端
ノズル１５０は、基板２００の表面２００ｂから外れた
位置（図５（ａ）（ｂ）位置Ａ参照）から、基板２００
の表面２００ｂのセンター２００ｃに対向する位置（図
５（ａ）位置Ｂ参照）までか、あるいは、位置Ａの対面
の基板２００のエッジ２００ａに対向する位置（図５
（ｂ）位置Ｃ参照）までの間を往復して移動する。

【０１１２】より詳細には、高速で回転する基板２００
の表面２００ｂに対して行われる洗浄は、まず、流体ジ
ェット・ノズル１４２の先端ノズル１５０が、基板２０
０の表面２００ｂから外れた位置（図５（ａ）（ｂ）位
置Ａ参照）に配置している状態で、先端ノズル１５０か
らの洗浄液の噴射が開始され、洗浄液の噴射が安定する
までは先端ノズル１５０は位置Ａにおいて待機する。

【０１１３】先端ノズル１５０からの洗浄液の噴射が安
定すると、流体ジェット・ノズル１４２の先端ノズル１
５０が基板２００の表面２００ｂのセンター２００ｃに
対向する位置（図５（ａ）位置Ｂ参照）までか、あるい
は、位置Ａの対面の基板２００のエッジ２００ａに対向
する位置（図（ｂ）５位置Ｃ参照）までの間を往復して
移動し、先端ノズル１５０から噴射された洗浄液によっ
て、基板２００の表面２００ｂのパーティクルなどの汚
染物質が除去されて洗浄が行われる。

【０１１４】そして、先端ノズル１５０から噴射された
洗浄液が基板チャック１３２、１３４、１３６、１３８
に噴射されない位置に流体ジェット・ノズル１４２の先
端ノズル１５０が位置している状態で、流体ジェット・
ノズル１４２の先端ノズル１５０からの洗浄液の噴射が
終了されて洗浄が終了する。

【０１１５】なお、モーター１２０の駆動によって支軸
１１６が中心軸Ｏ−Ｏ周りに回転するのに伴って、回転
台１２２が中心軸Ｏ−Ｏ周りに中心Ｐを中心として回転
するので、回転台１２２に配設された基板２００は高速
で回転しているものである。

【０１１６】そして、上記した洗浄が終了すると、モー
ター１２０の駆動による基板２００の回転を継続するこ
とにより、洗浄が行われた基板２００に残留するミスト
が飛散されて除去されるとともに、基板２００の乾燥を
行うものである。

【０１１７】こうした基板２００の洗浄や乾燥の際に
は、基板２００や回転台１２２の高速回転によって、槽
１０２の内部空間には気流（図６点線矢印参照）が発生
する。即ち、飛散防止部材４０の内周側４０ｆにおいて
は、気流は槽１０２内を下方方向に下降して、パルス洗
浄装置２０の下方に配設された槽１０２の排気ダクト１
０２ｃ、１０２ｄを通り、排気口１０２ａ、１０２ｂか
ら外部へ排気される。一方、回転台１２２に配設された
基板２００の表面２００ｂの近傍においては、気流は洗
浄装置２０の上方に配設された飛散防止部材４０の排気
ダクト９０を通り、排気口４０ｈから外部へ排気され、
飛散防止部材４０の外周側４０ｅにおいて槽１０２内を
上方方向に上昇するような巻き上げは抑制される。

【０１１８】そして、基板２００の洗浄や乾燥の際に槽
１０２の内部空間に飛来する洗浄液のミストやパーティ
クルなどの汚染物質は、飛散防止部材４０によって飛散
が防止されたり、洗浄装置２０の下方においては槽１０
２の排気口１０２ａ、１０２ｂから、洗浄装置２０の上
方、回転台１２２に配設された基板２００の表面２００
ｂの近傍においては飛散防止部材４０の排気口４０ｈか
ら、吸引装置（図示せず）による吸引力によって吸引さ
れて槽１０２の外部へ除去される。

【０１１９】以上において説明したように、上記した洗
浄装置２０は、排気ダクト９０を有する飛散防止部材４
０を配設するようにしたので、槽１０２の内部空間に発
生する気流（図６点線矢印参照）を制御することがで
き、気流の槽１０２内を上方方向に上昇するようにな巻
き上げは抑制されるので、排気量を低減しても、槽１０
２の内部空間に飛来する洗浄液のミストやパーティクル
などの汚染物質が基板２００に再付着することを防止す
ることができる。

【０１２０】このため、「従来の技術」の項で説明した
問題点１「槽１０２の内部空間を上方方向に上昇するよ
うにして巻き上がる気流（図１点線矢印参照）が発生し
てしまうので、槽１０２の内部空間に飛来する洗浄液の
ミストやパーティクルなどの汚染物質が基板２００に再
付着することを防止するためには、排気ダクト１０２
ｃ、１０２ｄからの単位時間当たりの排気量を多くする
必要があり、排気量を低減することができなかった。こ
のため、大型の吸引装置などが必要であり、コスト・ア
ップを招来することとなっていた。」を解消することが
できる。

【０１２１】さらにまた、上記した洗浄装置２０は、洗
浄を行う際に、第１の実施の形態における洗浄装置１０
と同様な制御を行うので、上記した（ア）流体ジェット
・ノズル１４２への液体とガスの供給タイミングの変更
によって、「従来の技術」の項で説明した問題点２を解
消することができ、上記した（イ）流体ジェット・ノズ
ル１４２の移動範囲ならびに先端ノズル１５０からの洗
浄液の噴射のタイミングの変更によって、「従来の技
術」の項で説明した問題点３ならびに問題点４を解消す
ることができ、上記した（ウ）洗浄装置１０が洗浄を行
なっていないとき（例えば、停止のときや洗浄の開始待
ちのときなど）の状態についての変更によって、「従来
の技術」の項で説明した問題点５を解消することができ
るものである。

【０１２２】なお、上記した実施の形態は、以下の
（１）乃至（６）に説明するように変形してもよい。

【０１２３】（１）上記した実施の形態においては、遮
蔽部材７０は槽１０２の側面部１０２ｆに中心軸Ｏ−Ｏ
と直交する方向で、開口部７０ａが飛散防止部材１４０
の上方開口部１４０ａに近接するようにして配設される
ようにしたが（図３参照）、これに限られるものではな
いことは勿論であり、遮蔽部材７０は槽１０２の側面部
１０２ｆと飛散防止部材１４０の外周側１４０ｅとの間
の間隙を塞ぐようにして配設されればよいので、例え
ば、遮蔽部材７０は飛散防止部材１４０の側面板１４０
ｃに近接するようにして配設してもよい。

【０１２４】（２）上記した実施の形態においては、槽
１０２の排気ダクト１０２ｃ、１０２ｄ、底部１０２ｅ
に中心軸Ｏ−Ｏと平行する方向で配設されているものと
したが、これに限られるものではないことは勿論であ
り、例えば、図７に示すように、槽１０２の側面部１０
２ｆに中心軸Ｏ−Ｏと直交する方向で、排気口１０３ａ
を有する排気ダクト１０３を配設するようにしてもよ
い。

【０１２５】（３）上記した実施の形態においては、洗
浄装置１０、２０が洗浄を行なっていないときにも、液
体用開閉バルブ１６２とガス用開閉バルブ１６４とを開
いて、パイプ１５４内に液体が停滞しないようにしたが
（上記（ウ）参照）、これに限られるものではないこと
は勿論であり、例えば、図８に示すように、パイプ１５
４を分岐して液体用開閉バルブ６６を配設するように
し、この液体用開閉バルブ６６を洗浄装置１０、２０が
洗浄を行なっていないときにのみ開くとともに液用開閉
バルブ１６２を開いて、パイプ１５４内の液体を循環さ
せて液体が停滞しないようにしてもよい。

【０１２６】（４）上記した実施の形態においては、従
来の洗浄装置１００に対して上記した（ア）乃至（ウ）
の３つの変更の全てを行い、さらに、遮蔽部材７０を槽
１０２に配設するか（つまり、洗浄装置１０のことであ
る。）、あるいは、排気ダクト９０を有する飛散防止部
材４０を配設するようにしたが（つまり、洗浄装置２０
のことである。）、これに限られるものではないことは
勿論であり、「従来の技術」の項で説明した問題点１乃
至問題点５のうちの解消すべき問題点に応じて、上記の
実施の形態において説明した構成のうちのいずれかを採
用するようにしてもよい。

【０１２７】（５）上記した実施の形態においては、回
転台１２２の上面１２２ａの縁部からは４本の支柱１２
４、１２６、１２８、１３０が立設されるようにした
が、これに限られるものではないことは勿論であり、支
柱は２本、３本あるいは５本以上配設するようにしても
よく、その際、支柱の数の変更に応じて基板チャックの
数の変更を行えばよい。

【０１２８】（６）上記した実施の形態ならびに上記
（１）乃至（５）に示す変形例は、適宜に組み合わせる
ようにしてもよい。

【０１２９】

【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、新たな問題点を招来することなしに、従来
の技術の有する上記した問題点１乃至問題点５を解消す
るようにして、パーティクルなどの汚染物質により基板
を汚染する恐れを低減させるとともに、安定した処理を
行うことができるようになり、高精度で基板の洗浄を行
うことが可能となるという優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の洗浄装置の一部を破断して示した概略構
成説明図である。

【図２】（ａ）は流体ジェット・ノズルを示す構成説明
図であり、（ｂ）はノズルの断面説明図である。

【図３】本発明による洗浄装置の第１の実施の形態の一
部を破断して示した概略構成説明図である。

【図４】（ａ）は従来の洗浄装置における流体ジェット
・ノズルに液体とガスとが供給されるタイミングを示す
説明図であり、（ｂ）は本発明による洗浄装置における
流体ジェット・ノズルに液体とガスとが供給されるタイ
ミングを示す説明図である。

【図５】図３におけるＥ矢視図であり、流体ジェット・
ノズルのノズルの２次元方向での移動範囲を示す説明図
である。

【図６】本発明による洗浄装置の第２の実施の形態の一
部を破断して示した概略構成説明図である。

【図７】本発明による洗浄装置のその他の実施の形態の
一部を破断して示した概略構成説明図である。

【図８】本発明による洗浄装置のその他の実施の形態に
おける流体ジェット・ノズルを示す構成説明図である。

【符号の説明】

１０、２０、３０、１００ 洗浄装置 ４０、１４０ 飛散防止部材 ４０ａ 第２上方開口部 ４０ｂ、１４０ｂ 下方開口部 ４０ｃ、１４０ｃ 側面板 ４０ｄ 第２斜面板 ４０ｅ、１４０ｅ 外周側 ４０ｆ、１４０ｆ 内周側 ４０ｉ 第１上方開口部 ４０ｇ 第１斜面板 ４０ｈ 排気口 ６６ 液体用開閉バルブ ７０ 遮蔽部材 ８０ 排気口 ９０、１０２ｃ、１０２ｄ、１０３ 排気ダクト １０２ 槽 １０２ｅ 底部 １０２ｆ 側面部 １０３ａ、１０２ａ、１０２ｂ 排気口 １０４ 軸受 １０６ 支軸 １０８ ジョイント １２０ モーター １２２ 回転台 １２２ａ 上面 １２４、１２６、１２８、１３０ 支柱 １３２、１３４、１３６、１３８ 基板チャック １４０ａ 上方開口部 １４０ｄ 斜面板 １４２ 流体ジェット・ノズル １５０ 先端ノズル １５２ 加圧タンク １５４ パイプ １５６ ガス・タンク １５８ ガス・フィルター １６０ ガス配管 １６２ 液体用開閉バルブ １６４ ガス用開閉バルブ ２００ 基板 ２００ａ 外周部位（エッジ） ２００ｂ 表面 ２００ｃ 中心（センター）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菅野 至 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三菱電機株式会社内 (72)発明者 多田 益太 大阪府大阪市西区靭本町２丁目４番11号 大陽東洋酸素株式会社内 (56)参考文献 特開 平９−271725（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−87294（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−108125（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−261609（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−44780（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/304 B08B 3/02

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 排気口を有する槽と、 前記槽の内部に回転自在に配設された回転部材と、 前記回転部材の上面に立設して基板の外周部位を把持
   し、前記基板と前記回転部材の上面とが所定の間隔を有
   するようにして前記基板を支持する基板支持部材と、 前記槽の内部において前記回転部材の外周側に配設され
   る筒状の飛散防止部材と、 液体と気体とを混合した洗浄液を噴射し３次元方向で移
   動可能な洗浄手段と、 前記液体を前記洗浄手段に供給する液体供給手段と、 前記気体を前記洗浄手段に供給する気体供給手段と、 前記槽と前記飛散防止部材との間隙を塞ぐようにして配
   設される遮蔽部材とを有し、 前記回転部材の回転に伴って前記基板支持部材に支持さ
   れた基板を回転し、該回転している基板に対して対向す
   る位置に前記洗浄手段を３次元方向で移動し、前記洗浄
   手段が該回転している基板に対して前記液体供給手段に
   よって供給された前記液体と前記気体供給手段によって
   供給された前記気体とを混合した混合物たる前記洗浄液
   を噴射することによって、該回転している基板の前記洗
   浄手段と対向する面を洗浄するとともに、前記洗浄手段
   は、前記気体供給手段によって前記気体の供給が開始さ
   れるタイミングよりも遅いタイミングで前記液体供給手
   段によって前記液体の供給が開始されるとともに、前記
   気体供給手段によって前記気体の供給が終了されるタイ
   ミングよりも早いタイミングで前記液体供給手段によっ
   て前記液体の供給が終了され、前記基板支持部材に支持
   された前記基板とは対向しない位置において前記洗浄液
   の噴射を開始し、前記基板支持部材が前記基板を把持す
   る位置に前記洗浄液が噴射されないようにして噴射を終
   了し、前記洗浄液を噴出しないときには、前記液体供給
   手段によって前記液体の供給が行われることを特徴とす
   る洗浄装置。
2. 【請求項２】 排気口を有する槽と、 前記槽の内部に回転自在に配設された回転部材と、 前記回転部材の上面に立設して基板の外周部位を把持
   し、前記基板と前記回転部材の上面とが所定の間隔を有
   するようにして前記基板を支持する基板支持部材と、 前記槽の内部において前記回転部材の外周側に配設され
   る筒状の飛散防止部材と、 液体と気体とを混合した洗浄液を噴射し３次元方向で移
   動可能な洗浄手段と、前記液体を前記洗浄手段に供給す
   る液体供給手段と、 前記気体を前記洗浄手段に供給する気体供給手段と、 前記基板支持部材に支持された前記基板の前記洗浄手段
   と対向する面の近傍において前記槽の外部と連通する排
   気ダクトとを有し、 前記回転部材の回転に伴って前記基板支持部材に支持さ
   れた基板を回転し、該回転している基板に対して対向す
   る位置に前記洗浄手段を３次元方向で移動し、前記洗浄
   手段が該回転している基板に対して前記液体供給手段に
   よって供給された前記液体と前記気体供給手段によって
   供給された前記気体とを混合した混合物たる前記洗浄液
   を噴射することによって、該回転している基板の前記洗
   浄手段と対向する面を洗浄するとともに、前記洗浄手段
   は、前記気体供給手段によって前記気体の供給が開始さ
   れるタイミングよりも遅いタイミングで前記液体供給手
   段によって前記液体の供給が開始されるとともに、前記
   気体供給手段によって前記気体の供給が終了されるタイ
   ミングよりも早いタイミングで前記液体供給手段によっ
   て前記液体の供給が終了され、前記基板支持部材に支持
   された前記基板とは対向しない位置において前記洗浄液
   の噴射を開始し、前記基板支持部材が前記基板を把持す
   る位置に前記洗浄液が噴射されないようにして噴射を終
   了し、前記洗浄液を噴出しないときには、前記液体供給
   手段によって前記液体の供給が行われることを特徴とす
   る洗浄装置。