JP5641556B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
処理チャンバ内には、たとえば、スピンチャックに保持される基板の表面(上面)に対向して、その基板の表面上の空間をその周囲から遮断するための遮断部材が収容されている。遮断部材は円板状に形成されており、スピンチャックの上方に配置されている。
そこで、この発明の目的は、排気口からの排気に大きな排気能力を必要とせずに、処理チャンバ内の雰囲気を良好に置換させることができる基板処理装置を提供することである。
この構成によれば、給気口が、平面視において遮断部材の周囲を取り囲む環状に形成されている。この給気口から処理チャンバ内に下向きの清浄空気が供給されるので、処理チャンバ内には遮断部材の周囲を取り囲む筒状の下降気流が形成される。そのため、下降気流と遮断部材との干渉はほとんどない。したがって、処理チャンバ内の雰囲気の対流を抑制することができ、気流を安定化させることができる。これにより、処理チャンバ内の雰囲気を効率よく置換することができる。
また、請求項2に記載のように、前記遮断部材が前記離反位置にあるとき、前記遮断部材の対向面は、前記給気口と同一面または前記給気口よりも上方に位置してもよい。
たとえば、処理チャンバの遮断部材上方領域を利用することにより、処理チャンバの外側の領域に配設された遮断部材支持部材に遮断部材を支持させることができる。この場合、遮断部材を駆動するための構成および/または遮断部材を支持するための構成を処理チャンバ外に配置することもできる。これにより、処理チャンバのコンパクト化を図ることができる。
この構成によれば、排気口が基板保持手段の周囲を取り囲むように形成されている。また、給気口は、平面視において遮断部材の周囲を取り囲む環状に形成されている。遮断部材は、基板保持部材に対向して配置されているので、平面視において、給気口と排気口とが重なっている。そのため、処理チャンバ内に、安定した筒状の下降気流が形成される。これにより、下降気流と遮断部材との干渉をより確実に抑制することができる。
請求項5記載の発明は、前記基板保持手段の周囲を取り囲み、当該基板保持手段を収容する筒状の処理カップ(20)をさらに含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
図1は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置1に含まれる処理ユニット
2の構成を示す斜視図である。
基板処理装置1は、クリーンルーム内に設置され、基板Wに対して処理液による処理を施すための枝葉型の装置である。この基板処理装置1は処理ユニット2を備えている。処理ユニット2は、板状のベース3と、ベース3上に固定的に設けられた処理チャンバ4と、ベース3上に鉛直方向に沿って固定的に立設された支柱(遮断部材支持部材)5と、処理チャンバ4の上方を略水平方向に延び、支柱5に対して昇降可能に設けられた昇降アーム(遮断部材昇降手段)6と、処理チャンバ4の上部に取り付けられた給気ユニット(給気部)7とを備えている。処理チャンバ4は、基板Wに対する処理を施すための処理エリア8(図2および図3参照)を区画する円筒状の円筒隔壁9と、上面ノズル18(後述する。図2および図3参照)を収容しておくためのノズル収容エリア10(図2および図3参照)を区画する平面視L字状のケース体11とを備えている。
処理チャンバ4内には、基板Wを水平に保持して回転させるスピンチャック17(基板保持手段)と、スピンチャック17に保持された基板Wの上面に処理液を供給するための上面ノズル18と、スピンチャック17に保持された基板Wの下面に処理液を供給するための下面ノズル19と、スピンチャック17を収容する有底筒状の処理カップ20と、スピンチャック17の上方に配置された円板状の遮断板(遮断部材)14とが収容されている。
スピンチャック17は、鉛直方向に延びる回転軸(図示せず)の上端に水平な姿勢で固定された円盤状のスピンベース39と、スピンベース39の下方に配置されて、回転軸を駆動するためのスピンモータ33と、スピンモータ33の周囲を包囲する筒状のカバー部材34とを備えている。スピンベース39の外径は、スピンチャック17に保持される基板Wの外径よりも僅かに大きくされている。スピンベース39の上面周縁部には、複数(たとえば6つ。図2および図3では、2つのみ図示)の挟持部材35が、基板Wの外周に対応する円周上で適当な間隔を隔てて配置されている。また、カバー部材34は、ベース3に固定され、上端がスピンベース39の近傍にまで及んでいる。スピンチャック17は、各挟持部材35を基板Wの周端面に当接させることにより、その基板Wをスピンベース39の上方で水平に挟持することができる。また、複数の挟持部材35によって基板Wを挟持した状態で、スピンモータ33の回転駆動力を回転軸に入力させることにより、基板Wの中心を通る鉛直な回転軸線Cまわりに基板Wを回転させることができる。
第1カップ21は、スピンチャック17による基板Wの回転軸線Cに関してほぼ回転対称な形状に形成されている。第1カップ21は、スピンチャック17の周囲を取り囲んでいる。第1カップ21は、支持部材(図示しない)によって排気桶40内の一定位置で支持されている。第1カップ21は、断面U字状をなしており、基板Wの処理に使用された処理液を集めて廃棄するための廃液溝を区画している。
第2ガード24は、スピンチャック17による基板Wの回転軸線Cに関してほぼ回転対称な形状に形成されている。第2ガード24は、スピンチャック17の周囲を取り囲んでいる。第2ガード24は、筒状の第2案内部28と、第2案内部28に連続してこの第2案内部28の外方に設けられたカップ部48とを備えている。カップ部48は、断面U字状をなしており、基板Wの処理に使用された処理液を集めて回収するための外側回収溝を区画している。外側回収溝に集められた処理液は回収機構(図示しない)に導かれる。
3つの案内部27〜29の上端部27b,28b,29bは、それぞれ、基板Wの回転軸線Cに近づく方向に向かって斜め上方に延びている。3つの案内部27〜29の上端部27b,28b,29bは、下から第1案内部27、第2案内部28、第3案内部29の順番で上下方向に重なり合っている。3つのガード23〜25は、3つの案内部27〜29が同軸になるように配置されている。
隙間G1、隙間G2および隙間G3を介して仕切板31の上方の空間と下方の空間(以下、「下方空間」という。)51とが部分的に繋がっている。図4に示すように、下方空間51は処理チャンバ4の周方向に関して、カップ内排気ダクト42が存在する領域を除くほぼ全域に形成されている。すなわち、下方空間51は略円筒空間ということができる。
図2および図3を参照して遮断板14について説明する。遮断板14は、スピンチャック17に保持される基板Wとほぼ同じ径を有する円板状をなしている。遮断板14の下面には、スピンチャック17に保持される基板Wの表面と対向する基板対向面(対向面)58が形成されている。遮断板14の上面には、スピンチャック17の回転軸線Cと共通の軸線に沿う回転軸59が固定されている。回転軸59は、昇降アーム6の先端部に取り付けられた(支持された)円筒状のホルダ15内に、一対の軸受60などを介して回転自在に保持されている。ホルダ15は、天井壁16の内周の内部を挿通して、処理チャンバ4内に進入している。
給気ユニット7の下壁には、給気ユニット7内の清浄空気を、処理エリア8内に供給するための給気口65が形成されている。給気口65は、下向きの給気口であり、図4に二点鎖線で示すように、平面視において遮断板14の周囲を取り囲む円環状に形成されている。
平面視において、給気口65の内周は、遮断板14の外径よりも直径が大きな円形に形成されている(より具体的には、給気ユニット7の内壁の円筒面の内径が、遮断板14の外径よりも直径がやや大きく設定されている)。給気口65の外周は、処理チャンバ4の隔壁(円筒隔壁9)の外径よりも直径がやや小さな円状に形成されている。そのため、図4に示すように、給気口65は、平面視においてその内周および外周が円形の円環状に形成されている。
給気口65は、図2に示すように離反位置にある遮断板14の基板対向面58と略面一をなしており、同一水平面上に位置している。基板Wの表面に遮断板14を用いた処理を施す際は、遮断板14を処理位置に配置させることができ、また、基板Wの表面に遮断板14を用いた処理を施さないときは、遮断板14を離反位置に配置させることができる。遮断板14が離反位置にある状態では、遮断板14の基板対向面58と給気口65とが面一であるので、給気口65から処理チャンバ4内に給気される清浄空気と遮断板14との干渉が生じない。
支柱5は、鉛直方向(Z方向に沿う方向)に沿い、鉛直方向に長尺な板状に形成されている。また、昇降アーム6の鉛直部12は、鉛直方向(Z方向に沿う方向)に長尺な板状に形成されている。鉛直部12の中央部には、開口70が形成されている。支柱5および鉛直部12は、互いに表面を対向させて配置されている。なお、図6Aおよび図6Bにおいて、X方向は、支柱5および鉛直部12から見て、処理チャンバ4の円筒隔壁9がある水平方向である。また、Y方向は、X方向に直交する水平方向である。
以上、この発明の一実施形態について説明したが、本発明は、さらに他の形態で実施することもできる。
4 処理チャンバ
5 支柱(遮断部材支持部材)
6 昇降アーム(遮断部材昇降手段)
7 給気ユニット(給気部)
9 円筒隔壁
14 遮断板(遮断部材)
17 スピンチャック(基板保持手段)
20 処理カップ
58 基板対向面(対向面)
65 給気口
80 昇降モータ(遮断部材昇降手段)
C 回転軸線
G1,G2,G3 隙間(排気口)
W 基板
Claims (5)
- 内部で基板を処理するための処理チャンバと、
前記処理チャンバの内部で前記基板をその表面を上にした状態で水平に保持し、基板処理時に当該基板を当該基板の中心を通る鉛直な回転軸線まわりに回転させるための基板保持手段と、
前記基板保持手段の上方に配置され、当該基板保持手段に対向する対向面を有し、前記基板とほぼ同じ径を有し、基板処理時に基板の表面から微小の間隔を隔てて対向し、基板の表面上の空間全体をその周囲から遮断するための遮断部材と、
前記遮断部材を、前記基板に近接する処理位置と前記基板から上方に遠ざかった離反位置との間で昇降させる遮断部材昇降手段と、
前記処理チャンバの上部に配置され、前記処理チャンバの外部から内部に清浄空気を取り込むための給気部と、
前記回転軸線と直交する面の平面視において前記遮断部材の周囲を取り囲む円環状に形成された下向きの給気口とを備え、
前記給気口の内周は、前記遮断部材の外径および基板径の双方よりも直径が大きな円形に形成され、
前記給気部は、前記給気口から前記処理チャンバの内部に下向きの清浄空気を供給することで、前記遮断部材の上下位置に拘わらず当該遮断部材と干渉しないように、前記処理チャンバの上部から下部に向けての清浄空気の下降気流を前記処理チャンバの内部に形成する、基板処理装置。 - 前記遮断部材が前記離反位置にあるとき、前記遮断部材の対向面は、前記給気口と同一面または前記給気口よりも上方に位置する、請求項1記載の基板処理装置。
- 前記遮断部材は、前記処理チャンバの外側の領域に配設された遮断部材支持部材によって支持されている、請求項1または2記載の基板処理装置。
- 前記処理チャンバ内において、前記基板保持手段の周囲を取り囲むように形成され、前記処理チャンバ内の雰囲気を、前記処理チャンバに接続された排気管へと導く排気口が形成されている、請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記基板保持手段の周囲を取り囲み、当該基板保持手段を収容する筒状の処理カップをさらに含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板処理装置。
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