KR101184111B1

KR101184111B1 - 기판처리장치

Info

Publication number: KR101184111B1
Application number: KR1020100085374A
Authority: KR
Inventors: 코지 하시모토
Original assignee: 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤
Priority date: 2009-09-30
Filing date: 2010-09-01
Publication date: 2012-09-21
Also published as: US20110073040A1; US9165806B2; TW201125062A; JP5641556B2; TWI434365B; JP2011077244A; KR20110035874A

Abstract

기판처리장치는, 내부에서 기판을 처리하기 위한 처리챔버와, 상기 처리챔버 내부에서 기판을 지지하기 위한 기판지지유닛과, 상기 기판지지유닛에 대향하는 대향면을 갖고, 상기 기판지지유닛의 위쪽에 배치되는 차단부재와, 평면에서 볼 때 상기 차단부재의 부위를 둘러싸는 고리모양으로 형성된 아래로 향하는 급기구를 갖고, 상기 처리챔버의 상부에 배치되고, 처리챔버 내로 기체를 공급하기 위한 급기부를 포함한다.

Description

기판처리장치{SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS}

본 발명은, 반도체웨이퍼, 액정표시장치용 글라스기판, 플라즈마디스플레이용 기판, FED(Field Emission Display)용 기판, 광디스크용 기판, 자기디스크용 기판, 광자기디스크용 기판, 포토마스크용 기판 등의 기판을 처리하기 위한 기판처리장치에 관한 것이다.

반도체장치나, 액정표시장치의 제조공정에서는, 반도체 웨이퍼나 액정표시장치용 글라스기판 등의 기판에 대하여 처리액이나 처리가스를 이용한 처리가 행해진다. 예를 들면, 기판을 1장씩 처리하는 매엽식(枚葉式) 기판처리장치에서는, 처리 챔버 내에서, 기판을 수평으로 지지하여 회전시키는 스핀척과, 스핀척에 지지된 기판의 표면에 처리액을 공급하는 노즐과, 스핀척을 수용하는 바닥을 갖는 통모양의 처리컵이 수용되어 있다.

기판에 대한 처리시에는, 기판 및 스핀척의 회전에 의해, 스핀척 주변에 상승기류가 발생할 우려가 있다. 이 상승기류에 의해 날아오른 처리액의 미스트(mist)가, 처리챔버 내로 확산되면, 처리챔버의 내벽과 처리챔버 내의 부재가 처리액의 미스트에 의해 오염된다. 이것이 처리챔버 내에서 건조되면, 파티클이 되어 분위기 중으로 부유하고, 이후에 처리되는 기판을 오염시킬 우려가 있다. 그래서, 처리챔버의 천정의 중앙부에 FFU(fan filter unit)를 설치하여, 이 FFU의 급기구에서 아래를 향해 크린에어(clean air)를 공급함과 아울러, 처리컵 저면에 형성된 배기구에서의 배기를 행하여, 처리컵 내에 하강기류를 형성하고 있다.

또한, 처리컵 바깥의 처리챔버 내 공간에서의 처리액 미스트 등의 날아오름을 억제하기 위해서, 처리챔버의 저면에 형성된 배기구에서 처리챔버 내 분위기를 배기함으로써, 배기구로 향하는 하강기류를 형성하여, 처리챔버 내의 분위기의 전환을 촉진하는 구성이 채용된다.

처리챔버 내에는, 예를 들면, 스핀척에 지지되는 기판의 표면(상면)에 대향하여, 그 기판의 표면상의 공간을 그 주위에서 차단하기 위한 차단부재가 수용되어 있다. 차단부재는 원판상으로 형성되어 있으며, 스핀척의 위쪽에 배치되어 있다(예를 들면 특허공개2006-202983호 공보 참조).

그런데, FFU의 급기구가 차단부재의 위쪽에 형성되어 있으면, 차단부재가 크린에어의 흐름을 저해하여, 처리챔버 내의 기류에 혼란이 생겨, 예를 들면, 처리 챔버 내에서 분위기의 대류가 발생한다. 특히, 스핀척의 회전 중에는, 전술한 상승기류때문에, 처리챔버 내의 기류가 흐트러지는 경향이 있다. 이들이 주요인이 되어, 처리컵 바깥의 처리챔버 내 공간에 있어서 안정된 하강기류의 형성은, 반드시 용이하지는 않다.

처리챔버 내의 기류를 안정화하고, 그 내부 분위기의 전환을 촉진하기 위해서는, 처리챔버의 저부의 배기구에서의 배기를 위해 큰 배기능력이 필요하게 된다. 그러나, 기판처리장치가 설치되는 공장에서 준비 가능한 배기용력에 의한 제한 때문에, 기류안정화를 위해 필요한 배기능력의 확보가 곤란한 경우도 있다.

그래서, 본 발명의 목적은, 배기구에서의 배기에 큰 배기능력을 필요로 하지 않으면서, 처리챔버 내의 분위기를 양호하게 전환시킬 수 있는 기판처리장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 기판처리장치는, 내부에서 기판을 처리하기 위한 처리챔버와, 상기 처리챔버의 내부에서 기판을 지지하기 위한 기판지지유닛과, 상기 기판지지유닛에 대향하는 대향면을 갖고, 상기 기판지지유닛의 위쪽에 배치되는 차단부재와, 평면에서 볼 때 상기 차단부재의 주위를 둘러싸는 고리모양으로 형성된 아래로 향하는 급기구를 갖고, 상기 처리챔버의 상부에 배치되어, 상기 처리챔버 내에 기체를 공급하기 위한 급기부를 포함한다.

이 구성에 의하면, 급기구가, 평면에서 볼 때 차단부재의 주위를 둘러싸는 고리모양으로 형성되어 있다. 이 급기구에서 처리챔버 내로 아래로 향하는 기체가 공급되므로, 처리챔버 내에는 차단부재의 주위를 둘러싸는 통모양의 하강기류가 형성된다. 이 때문에, 하강기류와 차단부재의 간섭은 거의 없다. 따라서, 처리챔버 내의 분위기의 대류를 억제할 수 있어, 기류를 안정화시킬 수 있다. 이것에 의해, 처리챔버 내의 분위기를 효율좋게 전환시킬 수 있다.

또한, 상기 처리챔버가 소정의 연직축선을 중심으로 하는 원통면으로 이루어진 원통격벽으로 둘러싸인 것인 경우, 상기 급기구는 둥근 고리모양으로 형성되어 있어도 좋다.

또한, 상기 차단부재를, 상기 대향면이 기판의 표면에 미소한 간격을 두고 대향하는 처리위치와 상기 기판의 표면에서(위쪽으로) 이반(離反)하는 이반위치와의 사이에서 승강시키는 승강유닛을 더 구비하고, 상기 급기구는, 상기 이반위치에 있는 상기 차단부재의 상기 대향면과 동일면 위에 형성되어 있어도 좋다.

이 구성에 의하면, 기판의 표면에 차단부재를 이용한 처리를 실시할 때는, 차단부재를 처리위치에 배치시킬 수 있고, 또한, 기판의 표면에 차단부재를 이용한 처리를 실시하지 않을 때에는, 차단부재를 이반위치에 배치시킬 수 있다. 차단부재가 이반위치에 있는 상태에서는, 급기구가 차단부재의 대향면과 동일면 위에 있으므로, 급기구에서 처리챔버 내로 급기되는 기체와 차단부재와의 간섭은 없다. 이때문에, 기판에 차단부재를 이용한 처리를 실시하지 않을 때, 처리챔버 내의 기류를 특히 안정화 시킬 수 있다.

또한, 상기 차단부재는, 상기 처리챔버의 외측의 영역에 배설된 차단부재지지부재에 의해 지지되어 있어도 좋다. 처리챔버에서는 급기구가, 평면에서 볼 때 차단부재의 주위를 둘러싸는 고리모양을 이루고 있고, 환언하면, 처리챔버에서 차단부재 위쪽의 영역에는 급기구는 배치되어 있지 않다. 따라서, 처리챔버의 차단부재 위쪽의 영역을 이용할 수 있으며, 이것에 의해, 처리챔버의 외측의 영역에 배설된 차단부재지지부재에 차단부재를 지지시킬 수 있다. 이 경우, 차단부재를 구동하기 위한 구성 및/또는 차단부재를 지지하기 위한 구성을 처리챔버 바깥에 배치할 수 있다. 이것에 의해, 처리챔버의 소형화를 도모할 수 있다.

또한, 상기 처리챔버 내에서, 상기 기판지지유닛의 주위를 둘러싸도록 형성되고, 상기 처리챔버 내의 분위기를, 상기 처리챔버에 접속된 배기관으로 유도하는 배기구가 형성되어 있어도 좋다.

이 구성에 의하면, 배기구가 기판지지유닛의 주위를 둘러싸도록 형성되어 있다. 또한, 급기구는, 평면에서 볼 때 차단부재의 주위를 둘러싸는 고리모양으로 형성되어 있다. 차단부재는, 기판지지부재에 대향하여 배치되어 있으므로, 평면에서 볼 때, 급기구와 배기구가 겹쳐져 있다. 그 때문에, 처리챔버 내에서 안정한 통모양의 하강기류가 형성된다. 이것에 의해, 하강기류와 차단부재의 간섭을 보다 확실하게 억제할 수 있다.

상기 배기구는, 상기 기판지지유닛의 주위를 둘러싸는 고리모양으로 형성되어 있어도 좋고, 또한, 상기 기판지지유닛의 주위를 둘러싸는 고리모양영역에 간극을 두고 복수 개 형성되어 있어도 좋다.

더욱이, 상기 기판지지유닛의 주위를 둘러싸고, 상기 기판지지유닛을 수용하는 통형상의 처리컵을 더 포함하는 것이어도 좋다.

이 구성에 의하면, 처리컵 바깥의 처리챔버 공간 내에서, 차단부재의 주위를 둘러싸는 통모양의 하강기류가 형성된다. 그 때문에, 하강기류와 차단부재의 간섭은 거의 발생하지 않는다. 따라서, 처리컵 바깥의 처리챔버 공간 내의 분위기의 대류를 억제할 수 있고, 그 공간의 기류를 안정화시킬 수 있다.

본 발명에서 전술한, 또는 또 다른 목적, 특징 및 효과는, 첨부도면을 참조하여 다음에서 기술하는 실시형태의 설명에 의해 명확하게 된다.

도 1은, 본 발명의 일 실시형태에 관한 기판처리장치의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 2는, 도 1에서 나타낸 처리챔버 내의 구성을 나타내는 종단면도이다.
도 3은, 차단판을 처리위치에 배치시킨 때의 처리챔버 내의 구성을 나타내는 종단면도이다.
도 4는, 도 2에 나타낸 절단면선 Ⅳ-Ⅳ에서 본 종단면도이다.
도 5는, 도 4에서 나타낸 화살표 Ⅴ에서 본 횡단면도이다.
도 6a는, 도 1에서 나타낸 지주 및 승강암의 구성을 나타내는 단면도이다.
도 6b는, 도 6a에서 나타낸 절단면선 Ⅵ-Ⅵ에서 본 단면도이다.

도 1은, 본 발명의 제1 실시형태에 관한 기판처리장치(1)에 포함되는 처리유닛(2)의 구성을 나타내는 사시도이다.

기판처리장치(1)는, 크린룸(clean room) 내에 설치되어, 기판(W)에 대하여 처리액에 의한 처리를 실시하기 위한 매엽형의 장치이다. 이 기판처리장치(1)는 처리유닛(2)을 구비하고 있다. 처리유닛(2)은, 판상(板狀)의 베이스(3)와, 베이스(3) 위에 고정적으로 설치된 처리챔버(4)와, 베이스(3) 위에 연직(鉛直)방향을 따라 고정적으로 입설(立設)된 지주(차단부재지지부재,5)와, 처리챔버(4)의 위쪽에 대략 수평방향으로 뻗어, 지주(5)에 대하여 승강가능하게 설치된 승강암(승강유닛,6)과, 처리챔버(4)의 상부에 설치된 급기유닛(급기부,7)을 구비하고 있다. 처리챔버(4)는, 기판(W)에 대한 처리를 실시하기 위한 처리영역(8, 도 2 및 3 참조)을 구획하는 원통모양의 원통격벽(9)과, 상면노즐(18, 도 2 및 도 3 참조)을 수용해 두기 위한 노즐수용영역(10, 도 2 및 도 3 참조)을 구획하는 평면에서 볼 때, L자 모양의 케이스체(11)를 구비하고 있다.

승강암(6)은, 지주(5)에 지지된 연직부(12)와, 연직부(12)의 상단둘레에서 수평방향으로 뻗은 수평부(13)를 구비하고 있다. 수평부(13)의 선단부에는, 처리챔버(4) 내에 수용되는 차단판(차단부재, 14, 도 2 및 도 3참조)이, 홀더(15, 도 2 및 도 3 참조)를 통해서 설치되어 있다. 처리챔버(4)의 천정판(16)은, 수평의 둥근 고리모양(環狀)을 이루고 있다. 홀더(15)는, 천정벽(16)의 내측으로 삽입된 상태에서, 처리챔버(4) 내에 배치되는 차단판(14)을 지지하고 있다. 또한, 도 1에서는, 처리챔버(4)의 격벽의 일부(도 1에 나타난 앞쪽 면)가 개방된 상태를 나타내고 있다.

도 2 및 도 3은, 처리챔버(4) 내의 구성을 나타내는 종단면도이다. 도 4는, 도 2에 나타낸 절단면 선 Ⅳ-Ⅳ에서 본 종단면도이다. 도 5는, 도 4에 나타낸 화살표 Ⅴ에서 본 횡단면도이다.

처리챔버(4) 내에는, 기판(W)을 수평으로 지지하여 회전시키는 스핀척(17, 기판지지유닛)과, 스핀척(17)에 지지된 기판(W)의 상면에 처리액을 공급하기 위한 상면노즐(18)과, 스핀척(17)에 지지된 기판(W)의 하면에 처리액을 공급하기 위한 하면노즐(19)과, 스핀척(17)을 수용하는 바닥이 있는 통모양의 처리컵(20)과, 스핀척(17)의 위쪽에 배치된 원판상의 차단판(차단부재, 14)이 수용되어 있다.

원통격벽(9)은, 스핀척(17)에 의한 웨이퍼(W)의 회전축선(연직축선, C)을 중심축으로 하는 원통면으로 이루어진 내면을 갖고 있다. 이 원통격벽(9)은, 수평방향으로 뻗은 천정벽(16)에, 급기유닛(7)을 통해 결합되어 있다. 원통격벽(9)의 하단둘레는, 천정벽(16)에 대향하는 저벽(底壁, 30)에 결합되어 있다. 처리영역(8)은, 원통격벽(9), 급기유닛(7)의 외표면, 천정벽(16) 및 저벽(30)에 의해 구획되어 있고, 대략 둥근 기둥형상의 공간을 이루고 있다. 스핀척(17) 및 처리컵(20)은, 이 처리영역(8)에 배치되어 있다. 또한, 처리챔버(4) 내에서 처리컵(20)의 주위에는, 처리챔버(4, 처리영역 8) 내에서 처리컵(20) 바깥의 공간을, 상하로 구분하는 구분벽(31)이 배치되어 있다.

원통격벽(9)에서 노즐수용영역(10)에 인접하는 부분에는, 처리영역(8)과 노즐수용영역(10)을 연통(連通)하는 연통용 개구(32)가 형성되어 있다. 상면노즐(18)에 의한 처리시에는, 상면노즐(18)이 노즐수용영역(10)에서, 연통용개구(32)를 통해, 그 선단부가 스핀척(17)의 위쪽에 배치된다.

스핀척(17)은, 연직방향으로 뻗은 회전축(38)의 상단에 수평인 자세로 고정된 원판상의 스핀베이스(spin base, 39)와, 스핀베이스(39)의 아래에 배치되어, 회전축(38)을 구동하기 위한 스핀모터(33)와, 스핀모터(33)의 주위를 포위하는 통모양의 커버(34)를 구비하고 있다. 스핀베이스(39)의 외경은, 스핀척(17)에 지지되는 기판(W)의 외경보다도 조금 크게 되어 있다. 스핀베이스(39)의 상면주연부에는, 복수(예를 들면 6개. 도 2 및 도 3에서는, 2개만 도시)의 협지부재(35)가, 기판(W)의 외주에 대응하는 원주상에서 적당한 간격을 두고 배치되어 있다. 또한, 커버부재(34)는, 베이스(3)에 고정되어, 그 상단이 스핀베이스(39)의 근방까지 이르고 있다. 스핀척(17)은, 각 협지부재(35)를 기판(W)의 둘레단면에 맞닿게 함으로써, 그 기판(W)을 스핀베이스(39)의 위쪽에서 수평으로 협지할 수 있다. 또한, 복수의 협지부재(35)에 의해 기판(W)을 협지한 상태에서, 스핀모터(33)의 회전구동력을 회전축으로 입력시킴으로써, 기판(W)의 중심을 통하는 연직의 회전축선(C) 주위로 기판(W)을 회전시킬 수 있다.

상면노즐(18)은, 스핀척(17)에 지지되는 기판(W)의 높이 위치보다도 위쪽에 배치되어 있다. 상면노즐(18)은, 거의 수평으로 뻗은 노즐암(36)의 선단에 설치되어 있다. 노즐암(36)은, 노즐수용영역(10)의 측방에서 거의 연직으로 뻗은 암지지축(37)에 지지되어 있다. 암 지지축(37)에는, 모터 등의 회전기구(44)가 결합되어 있고, 이 회전기구(44)에서 암 지지축(37)으로 입력되는 회전구동력에 의해, 암 지지축(37)을 회동시켜서, 기판(W)의 상면을 따라 상면노즐(18)을 요동시킬 수 있도록 되어 있다. 상면노즐(18)에는, 처리액공급원(49)에서의 처리액이, 암 지지축(37) 및 노즐암(36)의 내부에 삽입통과된 처리액공급관(45)을 통하여 공급되도록 되어 있다. 도 2에 나타낸 상태(상면노즐(18)에 의한 기판(W)의 처리상태)에서는, 상면노즐(18)에서 토출한 처리액이, 스핀척(17)에 지지된 기판(W)의 상면 중앙부에 착액한다. 또한, 도 2에서는 상면노즐(18)이, 스핀척(17)에 지지된 기판(W)의 위쪽까지 인출된 상태를 나타내고, 도 3에서는 상면노즐(18)이, 노즐수용영역(10)에 수용된 상태를 나타낸다(도 3 및 도 4에서는, 상면노즐(18)은 도시하지 않음).

또한, 하면노즐(19)은, 스핀척(17)에 지지되는 기판(W)의 높이위치보다도 아래에 배치되어 있다. 하면노즐(19)은, 그 토출구가 스핀척(17)에 지지된 기판(W)의 하면 중앙부에 대향하도록 구성되어 있다. 하면노즐(19)에는 처리액공급관(도시하지 않음)이 접속되어, 처리액공급원(도시하지 않음)에서의 처리액이 처리액공급관(도시하지 않음)을 통해서 공급되도록 되어 있다. 하면노즐(19)에서 토출된 처리액은, 기판(W)의 하면 중앙부에 착액한다.

처리컵(20)은, 처리챔버(4) 내에 수용된 예를 들면 원통상의 배기통(40)과, 배기통(40) 내에 수용된 복수의 처리컵(20, 본 실시형태에서는 제1 컵(21) 및 제2컵(22))과, 배기통(40) 내에 수용된 복수의 가드(guard, 본 실시형태에서는, 제1 가드(23), 제2 가드(24) 및 제3 가드(25))를 구비하고 있다. 제1 ~ 제3 가드(23 ~ 25)는, 각각, 통모양의 제1 안내부(27), 제2 안내부(28) 및 제3 안내부(29)를 갖고 있다. 처리컵(20)은, 기판(W)의 주위에 비산하는 처리액을 각 안내부(27 ~ 29)에 의해 받아들여 포획할 수 있도록 구성되어 있고, 각 안내부(27 ~ 29)에 의해 받아들인 처리액을 폐액 또는 회수할 수 있도록 구성되어 있다.

배기통(40)은, 스핀척(17)의 주위를 둘러싸고 있다. 배기통(40)은, 그 내부에 처리액을 담을 수 있도록 구성되어 있다. 배기통(40)에 담겨진 처리액은, 폐액기구(도시하지 않음)로 유도된다. 또한, 배기통(40)의 하단부에서 둘레방향의 소정 개소에는, 도 2에 굵은 2점쇄선으로 나타낸 제1 배기접속공(41)이 형성되어 있다. 또한, 이 제1 배기접속공(41)에는, 도 2에 굵은 2접쇄선으로 나타낸 컵 내 배기덕트(42)의 상류단(上流端)이 접속되어 있다. 컵 내 배기덕트(42)의 하류단은, 케이스체(11)의 측벽에 형성된 제2 배기접속공(43, 도 4 및 도 5 참조)으로 접속되어 있다. 제2 배기접속공(43)은, 가로로 긴 장방형상을 이루고 있다. 제2 배기접속공(43)에는, 하류단(下流端)이 공장의 배기설비(도시하지 않음)에 접속된 배기관(46, 도 4 및 도 5참조)의 상류단이 접속되어 있다. 배기통(40) 내의 분위기는, 제1 배기접속공(41), 컵 내 배기덕트(42), 제2 배기접속공(43) 및 배기관(46)을 통해서 배기설비에 의해 배기된다.

처리컵(20) 내의 배기는, 예를 들면, 적어도 처리챔버(4) 내에서 기판(W)이 처리되고 있는 동안, 바람직하게는 기판(W)이 처리되고 있지 않는 동안도 포함하여 상시 행해질 수 있도록 되어있다. 일반적으로, 공장에 구비된 배기설비의 배기용력에는 제한이 있다.

제1 컵(21)은, 스핀척(17)에 의한 기판(W)의 회전축선(C)에 관하여 거의 회전대칭인 형상으로 형성되어 있다. 제1 컵(21)은, 스핀척(17)의 주위를 둘러싸고 있다. 제1컵(21)은, 지지부재(도시하지 않음)에 의해 배기통(40) 내의 일정위치에서 지지되고 있다. 제1 컵(21)은, 단면 U자 모양을 이루고 있고, 기판(W)의 처리에 사용된 처리액을 모아서 폐기하기 위한 폐액홈을 구획하고 있다.

제2 컵 (22)은, 스핀척(17)에 의한 기판(W)의 회전축선(C)에 관하여 거의 회전대칭인 형상으로 형성되어 있다. 제2 컵(22)은, 제1 컵(21)의 외측에서, 스핀척(17)의 주위를 둘러싸고 있다. 제2 컵(22)은, 지지부재(도시하지 않음)에 의해 배기통(40) 내의 일정위치에서 지지되어 있다. 제2 컵(22)은, 단면 U자 모양을 이루고 있고, 기판(W)의 처리에 사용된 처리액을 모아 회수하기 위한 내측 회수홈을 구획하고 있다. 내측회수홈에 모여진 처리액은 회수기구(도시하지 않음)로 유도된다.

제1 가드(23)는, 스핀척(17)에 의한 기판(W)의 회전축선(C)에 관하여 거의 회전대칭인 형상으로 형성되어 있다. 제1 가드(23)는, 스핀척(17)의 주위를 둘러싸고 있다. 제1 가드(23)는, 대략 통모양의 제1 안내부(27)와, 이 제1 안내부(27)에서 연직하방으로 뻗어, 내측회수홈 상에 위치하는 원통모양의 처리액분리벽(47)을 구비하고 있다.

제2 가드(24)는, 스핀척(17)에 의한 기판(W)의 회전축선(C)에 관하여 거의 회전대칭인 형상으로 형성되어 있다. 제2 가드(24)는, 스핀척(17)의 주위를 둘러싸고 있다. 제2 가드(24)는, 통모양의 제2 안내부(28)와, 제2 안내부(28)에 연결되어 이 제2 안내부(28)의 바깥쪽으로 설치된 컵부(48)를 구비하고 있다. 컵부(48)는, 단면 U자 모양을 이루고 있으며, 기판(W)의 처리에 사용된 처리액을 모아 회수하기 위한 외측회수홈을 구획하고 있다. 외측회수홈에 모여진 처리액은 회수기구(도시하지 않음)로 유인된다.

제3 가드(25)는, 스핀척(17)에 의한 기판(W)의 회전축선(C)에 관하여 거의 회전대칭인 형상으로 형성되어 있다. 제3 가드(25)는, 스핀척(17)의 주위를 둘러싸고 있다. 제3 가드(25)는, 통모양의 제3 안내부(29)를 갖고 있다.

3개의 안내부(27 ~ 29)의 상단부(27b, 28b, 29b)는, 각각, 기판(W)의 회전축선(C)에 접근하는 방향을 향해 경사져 위쪽으로 뻗어있다. 3개의 안내부(27 ~ 29)의 상단부(27b, 28b, 29b)는, 아래에서부터 제1 안내부(27), 제2 안내부(28), 제3 안내부(29)의 순서로 상하방향으로 겹쳐져 있다. 3개의 가드(23 ~ 25)는, 3개의 안내부(27 ~ 29)가 동축(同軸)으로 되도록 배치되어 있다.

또한, 이 기판처리장치(1)에는, 제1 가드(23)를 승강시키기 위한 제1 승강기구(91)와, 제2 가드(24)를 승강시키기 위한 제2 승강기구(92)와, 제3 가드(25)를 승강시키기 위한 제3 승강기구(93)가 구비되어 있다. 3개의 가드(23 ~ 25)는, 독립하여 승강가능하도록 설치되어 있고, 대응하는 가드(23 ~ 25)를, 상기 가드(23 ~ 25)에 설치된 안내부(27 ~ 29)의 상단이 스핀척(17)에 지지되는 기판(W)의 높이 위치보다도 위쪽에 위치하는 상위치(上位置)와, 상기 가드(23 ~ 25)에 설치된 안내부(27 ~ 29)의 상단이 스핀척(17)에 지지되는 기판(W)의 높이위치보다도 아래에 위치하는 하위치(下位置)의 사이에서 승강시킬 수 있다.

배기통(40) 안이 배기되어 있고(즉, 감압상태에 있고), 모든 가드(23 ~ 25)가 하위치에 있는 경우, 제3 가드(25)만이 상위치에 있고, 제1 가드(23) 및 제2 가드(24)가 하위치에 있는 경우, 제2 가드(24) 및 제3 가드(25)가 상위치에 있고, 제1 가드(23)만이 하위치에 있는 경우, 또한 모든 가드(23 ~ 25)가 상위치에 있는 경우 중의 어느 하나에 있어도, 처리챔버(4) 내의 분위기는, 배기통(40)으로 들어가도록 되어 있다.

구획판(31)은, 배기통(40)의 측벽의 상단부와 동일한 높이 위치에서, 배기통(40)의 주위를 둘러싸도록 수평자세로 배치되어 있다. 구체적으로는, 도 4에 나타낸 것처럼, 구획판(31)은, 평면에서 볼 때 C형을 이루는 3장의 판상부재(50)를, 둘레방향으로 소정의 틈(G1)(도 4참조)을 두고 배치된 구성이다. 각 판상부재(50)의 외주는, 원통상의 원통격벽(9)의 내벽의 횡단면(수평방향을 따르는 단면)을 따라 원호형상으로 형성되어 있다. 또한, 각 판상부재(50)의 내주는, 처리컵(20)의 외주면(원통상의 배기통(40)의 외주면)을 따라 원호형상으로 형성되어 있다.

또한, 각 판상부재(50)의 외주단과 원통격벽(9)의 내벽의 사이에 틈(G2)(도 2 ~ 도 4 참조)이 설치되어 있다. 각 판상부재(50)의 내주단과 처리컵(20)의 외주면(배기통(40)의 외주면)과의 사이에 틈(G3)(도 2 ~ 도 4 참조)이 설치되어 있다.

틈(G1), 틈(G2) 및 틈(G3)을 통해서 구획판(31)의 위쪽의 공간과 아래쪽의 공간(이하,「아래쪽 공간」이라 함)(51)이 부분적으로 연결되어 있다. 도 4에 나타낸 것처럼, 아래쪽 공간(51)은 처리챔버(4)의 둘레방향에 관하여, 컵 내 배기덕트(42)가 존재하는 영역을 제외하고 거의 전역에 형성되어 있다. 즉, 아래쪽 공간(51)은 대략 원통공간이라고 할 수 있다.

컵 내 배기덕트(42)의 도중부에는, 컵 내 배기덕트(42)와 아래쪽 공간(51)을 연통하는 제1 연통공(52)이 형성되어 있다. 아래쪽 공간(51)은, 제1 연통공(52), 컵 내 배기덕트(42) 및 제2 배기접속공(43)을 통해서 배기관(46)과 연통한다. 그 때문에, 아래쪽 공간(51)에 존재하는 분위기는, 배기설비(도시하지 않음)의 배기용력에 의해 배기된다. 그리하여, 처리챔버(4) 내의 분위기는, 틈(G1), 틈(G2) 및 틈(G3)을 통해서, 아래쪽 공간(51)으로 들어간다. 즉, 틈(G1), 틈(G2) 및 틈(G3)는, 처리챔버(4) 내의 분위기를 배기관(46)으로 유도하는 배기구를 구성하는 것이다. 그리하여, 이 틈(G1), 틈(G2) 및 틈(G3)에 의해 형성되는 배기구는, 그 전체형상이, 스핀척(17)의 주위를 둘러싸는 대략 둥근 고리모양을 이루고 있다.

컵 내 배기덕트(42)는, 주로 수직방향으로 뻗은 수직부분(54)(도 2에서 2점쇄선으로 도시)과, 이 수직부분(54)에 연결되고, 주로 수평방향으로 뻗은 수평부분(55)(도 2 및 도 4 참조. 도 2에서는 2점쇄선으로 도시)을 구비하고 있다. 수직부분(54)은 컵 내 배기덕트(42)의 상류측부분을 구성하고, 수평부분(55)은 컵 내 배기덕트(42)의 하류측 부분을 구성한다. 제1 연통구(52)는, 컵 내 배기덕트(42)의 수직부분(54)에 형성되어 있다. 수평부분(55)의 도중부에는, 컵 내 배기덕트(42)와 노즐수용영역(10)을 연통하는 제2 연통구(57, 도 4 참조)가 2개 형성되어 있다.

그 때문에, 노즐수용영역(10)은, 제2 연통구(57), 컵 내 배기덕트(42) 및 제2 배기접속공(43)을 통해서 배기관(46)과 연통한다. 그리하여, 노즐수용영역(10) 내의 분위기는, 배기설비(도시하지 않음)의 배기용력에 의해 배기된다. 이것에 의해, 노즐수용영역(10) 내에 수용되는 상면노즐(18)을 청정상태로 유지할 수 있다.

도 2 및 도 3을 참조하여 차단판(14)에 대하여 설명한다. 차단판(14)은, 스핀척(17)에 지지되는 기판(W)과 거의 같은 지름을 갖는 원판상을 이루고 있다. 차단판(14)의 하면에는, 스핀척(17)에 지지되는 기판(W)의 표면과 대향하는 기판대향면(대향면, 58)이 형성되어 있다. 차단판(14)의 상면에는, 스핀척(17)의 회전축선(C)과 공통의 축선을 따르는 회전축(59)이 고정되어 있다. 회전축(59)은, 승강암(6)의 선단부에 설치된(지지된) 외곽원통상의 홀더(15) 내에, 한 쌍의 베어링(60) 등을 통해 회전 자유롭게 지지되어 있다. 홀더(15)는, 천정벽(16)의 내주의 내부를 삽입통과하여, 처리챔버(4) 내로 진입하여 있다.

회전축(59)에는, 홀더(15)의 상단에 결합된 차단판회전용모터(81)의 회전구동력이 입력되도록 되어 있다. 회전축(59)은 중공으로 형성되어 있으며, 그 내부에는, 스핀척(17)에 지지되는 기판(W)의 표면에 DIW(탈이온수)를 공급하기 위한 DIW노즐이 삽입통과되어 있다. DIW노즐은, 스핀척(17)에 지지된 기판(W)의 표면의 회전중심을 향해 DIW를 토출하기 위한 DIW토출구를 갖고 있다. 또한, 회전축(59)의 내벽과 DIW노즐의 외벽의 사이에는, 기판(W)의 중심부를 향해 불활성 가스로서 질소가스를 공급하기 위한 질소가스유통로가 형성되어 있다. 질소가스 유통로는, 기판대향면(58)에 개구하는 질소가스토출구(불활성가스토출구)를 갖고 있다.

승강모터(80)(도 6a 및 도 6b 참조)의 회전구동에 의해 승강암(6)을 승강시킴으로써, 차단판(14)을, 스핀척(17)에 지지되는 기판(W)의 표면에 미소의 간격을 두고 대향하는 처리위치(도 3 참조)와, 스핀척(17)의 표면에서 위쪽으로 이반하는 이반위치(도 2 참조)의 사이에서, 승강시킬 수 있도록 되어 있다. 따라서, 기판(W)에 차단판(14)을 이용한 처리를 실시할 때에는, 차단판(14)은 처리위치에 배치되고, 기판(W)에 차단판(14)을 이용한 처리를 실시하지 않을 때에는, 차단판(14)은 이반위치에 배치된다.

홀더(15)의 주위는, 벨로즈(bellows, 61)에 의해 피복되어 있다. 벨로즈(61)는, 상하방향으로 신축가능하게 형성되어 있다. 벨로즈(61)의 상단부는, 천정벽(16)의 내주하면에 고정접속되어 있다. 벨로즈(61)의 하단부는, 홀더(15)의 하단부에 형성된 플랜지부(62)에 고정되어 있다. 차단판(14)이 승강하면, 그것에 따라서 벨로즈(61)가 신축한다. 차단판(14)이 도 2에 나타낸 것 같은 이반위치에 위치하고 있는 때는, 벨로즈(61)는 단축상태에 있다. 한편, 차단판(14)이 도 3에 나타낸 것 같은 처리위치에 위치하고 있는 때에는, 벨로즈(61)는 신장상태에 있다. 처리챔버(4)의 내부공간의 분위기는 처리액의 미스트를 함유하는 일이 있지만, 홀더(15)의 주위가 벨로즈(61)에 의해 피복되어 있으므로, 차단판(14)이 처리위치에 있는지, 이반위치에 있는지에 관계없이. 이들의 분위기가 홀더(15) 등에 악영향을 미치는 것을 방지할 수 있다.

본 실시형태에서는, 천정벽(16)에, 청정공기를 처리챔버(4) 내로 들어가게 하기 위한 흡기구가 배치되어 있지 않다. 그 때문에, 이 천정벽(16) 내에 홀더(15)를 삽입통과시킬 수도 있으며, 이것에 의해, 차단판(14)을, 처리챔버(4)의 밖으로 배설시킨 지주(5)에 지지시킬 수 있다. 이 경우, 차단판(14)을 지지하는 승강암(6)을 처리챔버(4) 밖에 배치할 수 있으므로, 이것에 의해, 처리챔버(4)의 소형화를 도모할 수 있다.

급기유닛(7)은, 청정공기를 처리챔버(4) 내로 유입되도록 하기 위한 것이다. 급기유닛(7)은, 차단판(14)을 지지하는 홀더(15)의 주위를 둘러싸는 평면에서 볼 때 둥근 고리모양으로 형성되어 있다. 급기유닛(7)의 중심축선을 절단한 때의 단면은, 장방형상을 이루고 있다(도 2 및 도 3에서 배기유닛(7)의 우측부분의 단면형상을 참조). 급기유닛(7)의 단면형상은, 둘레방향의 거의 전역에서 장방형상을 이루고 있지만, 승강암(6)의 주위의 급기유닛(7)에서는, 승강암(6)과의 간섭을 피하기 위해서, 상벽이 지름방향의 외주를 향하도록 따라서 낮게 되도록 경사져 있다(도 2 및 도 3에서 급기유닛(7)의 좌측부분의 단면형상을 참조).

급기유닛(7)의 상벽에는, 복수(예를 들면 2개)의 급기접속공(63, 도 1에서는 도시하지 않음, 도 5 참조)이 관통하여 형성되어 있다. 각 급기접속공(63)에는, 청정공기공급원에서의 청정공기가 공급되는 급기관(64)의 선단부가 졉속되어 있다. 그 때문에, 급기유닛(7) 내에는, 청정공기가 공급된다.

급기유닛(7)의 하벽에는, 급기유닛(7) 내의 청정공기를, 처리영역(8) 내에 공급하기 위한 급기구(65)가 형성되어 있다. 급기구(65)는 아래로 향하는 급기구이며, 그 전체형상이, 도 4에 굵은 2점쇄선으로 나타낸 것처럼, 평면에서 볼 때에 차단판(14)의 주위를 둘러싸는 둥근 고리모양으로 형성되어 있다.

급기구(65)는, 급기유닛(7)의 하벽의 상하면을 상하방향으로 관통하는 다수의 관통공(66)에 의해 구성되어도 좋고, 급기유닛(7)의 하벽의 상하면을 상하방향으로 관통하고, 고리모양으로 뻗은 다수의 슬릿에 의해 구성되어도 좋다. 또한, 급기유닛(7)의 하벽에 형성된 고리모양의 개구에 의해 형성되어도 좋다. 이 경우, 개구에 필터가 배치되어도 좋다. 또한, 급기유닛(7)이 상자모양이 아니라, 급기유닛(7)의 하면의 전역이 개방되어 있고, 그 하면이 급기구(65)로서 기능하는 것이어도 좋다.

본 실시형태에서는, 다수의 관통공(66)에 의해 급기구(65)가 형성되어 있는 경우를 예로 들어 설명한다.

평면에서 볼 때, 급기구(65)의 내주는, 차단판(14)의 외경보다도 직경이 큰 원형으로 형성되어 있다(보다 구체적으로는, 급기유닛(7)의 내벽의 원통면의 내경이, 차단판(14)의 외경보다도 직경이 조금 더 크게 설정되어 있다). 급기구(65)의 외주는, 처리챔버(4)의 격벽(원통격벽(9))의 외경보다도 직경이 조금 작은 둥근 모양으로 형성되어 있다. 그 때문에, 도 4에 나타낸 것처럼, 급기구(65)는, 평면에서 볼 때 그 내주 및 외주가 원형의 둥근 고리모양으로 형성되어 있다.

즉, 급기구(65) 및 배기구(66)의 쌍방이 대략 둥근 고리모양으로 형성되어 있다. 게다가, 도 4에 나타낸 것처럼, 급기구(65) 및 배기구(66)이 평면에서 볼 때 겹쳐져 있다. 그 때문에, 처리챔버 내에서, 안정한 통모양의 하강기류가 형성된다. 따라서, 하강기류와 차단판(14)의 간섭이 거의 없다.

급기구(65)는, 도 2에 나타낸 것처럼, 이반위치에 있는 차단판(14)의 기판대향면(58)과 대략 동일수평면상에 위치하고 있다. 기판(W)의 표면에 차단판(14)을 이용한 처리를 실시할 때는, 차단판(14)을 처리위치에 배치시킬 수 있고, 또한, 기판(W)의 표면에 차단판(14)을 이용한 처리를 실시하지 않을 때에는, 차단판(14)을 이반위치에 배치시킬 수 있다. 차단판(14)이 이반위치에 있는 상태에서는, 차단판(14)의 기판대향면(58)과 급기구(65)가 같은 면이므로, 급기구(65)에서 처리챔버(4) 내에 급기되는 청정공기와 차단판(14)의 간섭이 발생하지 않는다.

또한, 도 2 및 도 3에 나타낸 것처럼, 급기유닛(7)의 내벽에, 가로로 향하는 급기구(82)가 형성되어 있어도 좋다. 즉, 급기유닛(7)의 내벽에, 수평방향으로 관통하는 다수의 관통공(83)이 다수 형성되어 있어도 좋다. 이 경우, 급기유닛(7) 내로 급기된 청정공기의 일부가, 급기구(82)에서 벨로즈(61)를 향해 토출된 후, 벨로즈(61)를 따라 하강하고, 차단판(14)의 상면(84)을 따라 흐르는 기류를 형성한다. 그리하여, 이 기류는, 급기구(65)에서 공급되는 하강기류와 합류한다. 이러한 구성에 의해, 벨로즈(61)의 주위, 즉, 차단판(14)의 상면(84)의 위쪽공간에 청정공기의 기류를 형성할 수 있으므로, 차단판(14)의 상면(84)의 위쪽공간에 처리액의 미스트를 함유한 분위기가 침입하는 것을 억제 또는 방지할 수 있다.

처리챔버(4)의 원통격벽(9)에는, 처리챔버(4) 내에 대하여 기판(W)을 반입 및 반출하기 위한 개구부(67, 도 4 참조)가 형성되어 있다. 처리챔버(4)의 외측에는, 개구부(67)를 통하여 처리챔버(4) 내에 핸드를 접근시켜, 기판(W)을 반출입하기 위한 로봇암(도시하지 않음)이 배치되어 있다. 개구부(67)에 관련하여, 처리챔버(4)의 외측에는, 개구부(67)를 개폐하기 위한 셔터(68)가 설치되어 있다. 셔터(68)는 상하방향으로 개폐가능하게 설치되어 있다.

도 6a는, 지주(5) 및 승강암(6)의 구성을 나타내는 단면도이다. 도 6b는, 도 6a에 나타낸 절단면선 Ⅵ-Ⅵ에서 본 단면도이다.

지주(5)는, 연직방향(Z방향을 따르는 방향)을 따라, 연직방향으로 긴 판상으로 형성되어 있다. 또한, 승강암(6)의 연직부(12)는, 연직방향(Z방향을 따르는 방향)으로 긴 판상으로 형성되어 있다. 연직부(12)의 중앙부에는, 개구(70)가 형성되어 있다. 지주(5) 및 연직부(12)는, 서로 표면을 대향시켜 배치되어 있다. 또한, 도 6a 및 도 6b에서, X방향은, 지주(5) 및 연직부(12)에서 보아, 처리챔버(4)의 원통격벽(9)이 있는 수평방향이다. 또한, Y방향은, X방향으로 직교하는 수평방향이다.

지주(5)와 연직부(12)의 사이에는, 한 쌍의 리니어가이드(71, 도 6a에는 도시하지 않음, 도 6b 참조)가 장치되어 있다. 각 리이너가이드(71)는, 연직방향으로 뻗은 레일(72)과, 레일(72)에 끼워져 설치된 2개의 가이드(73)를 구비하고 있다. 각 레일(72)은, 지주(5)의 X방향측의 표면에 고정적으로 설치되어 있고, 각 가이드(73)는, 그 지주(5)의 표면과 대향하는 X방향의 반대측의 면에 고정적으로 설치되어 있다. 2개의 레일(72)은, 지주(5)에서 폭방향(Y방향을 따르는 방향)의 양단부에 각각 배치되어 있다. 이 리니어가이드(71)에 의해, 승강암(6)의 연직부(12)는, 지주(5)에 대하여, 연직방향으로 이동가능하게 설치되어 있다. 한 쌍의 레일(72) 사이에는, 볼나사기구(74)가 배치되어 있다.

볼나사기구(74)는, 연직방향을 따라 지주(5)에 지지된 나사축(75)과, 나사축(75)에 나사결합된 원기둥 모양의 볼너트(76)를 구비하고 있다. 나사축(75)은, 지주(5)에, 회전가능하게 지지되어 있다. 지주(5)의 X방향측의 면에는, 나사축(75)을 지주(5)에 대해 회전가능하게 지지시키기 위한 상하 한 쌍의 나사축지지부(77,78)가 고정적으로 설치되어 있다. 위쪽의 나사축지지부(77)는, 나사축(75)의 상단부를, 위쪽으로의 이동을 규제한 상태에서, 베어링(도시하지 않음)을 통해서 회전가능하게 지지하고 있다. 아래쪽의 나사축지지부(78)는, 나사축(75)의 하단부를, 아래쪽으로의 이동을 규제한 상태에서, 베어링(도시하지 않음)을 통해서 회전가능하게 지지하고 있다.

볼너트(76)는, 승강암(6)의 연직부(12)에 결합되어 있다. 나사축(75)이 회전되면, 리니어가이드(71)에 의해 연직자세를 유지하도록 규제되어 있는 승강암(6) 및 볼너트(76)는, 나사축(75)과 동반회전하지 않고, 나사축(75)의 축선방향을 따라 이동한다. 그 때문에, 나사축(75)을 회전시킴으로써, 승강암(6)을 연직방향으로 승강시킬 수 있다. 나사축(75)의 하단부에는, 승강모터(80)의 회전구동력이, 커플링(79)을 통해서 입력되도록 되어 있다. 승강모터(80)로서는, 예를 들면, 서보모터가 채용된다. 승강모터(33)는, 지주(5)의 하부에 고정적으로 설치되어 있다.

승강모터(80)가 회전구동하면, 나사축(75)이 회전하여, 볼너트(76) 및 승강암(6)이 승강한다. 그리하여, 차단판(14)을, 스핀척(17)에 지지되는 기판(W)의 표면에 미소한 간격을 두고 대향하는 처리위치(도 3 참조)와, 스핀척(17)의 표면에서 위쪽으로 이반하는 이반위치(도 2참조)와의 사이에서, 승강시킬 수 있다.

이상에 의해 본 실시형태에 의하면, 급기구(65)가, 평면에서 볼 때 차단판(14)의 주위를 둘러싸는 둥근 고리모양으로 형성되어 있다. 이 급기구(65)에서 처리챔버(4) 내로 아래로 향해 청정공기가 공급되므로, 처리컵(20) 밖의 처리챔버(4) 공간 내에는 차단판(14)의 주위를 둘러싸는 통모양의 하강기류가 형성된다. 그 때문에, 하강기류와 차단판(14)은 거의 간섭하지 않는다. 따라서, 처리컵(20) 바깥의 처리챔버(4) 공간 내의 분위기의 대류를 억제할 수 있어, 기류를 안정화시킬 수 있다. 이것에 의해, 처리챔버(4) 내의 분위기를 효율좋게 전환할 수 있다.

특히, 차단판(14)이 이반위치에 있는 상태에서는, 차단판(14)의 기판대향면(58)과 급기구(65)가 동일 면상에 있으므로, 급기구(65)에서 처리챔버(4) 내로 급기되는 청정공기와 차단판(14)의 간섭이 없다. 그 때문에, 기판(W)의 표면에 차단판(14)을 이용한 처리를 실시하지 않은 때의 처리챔버(4) 내의 기류를 안정화시킬 수 있다.

이상, 본 발명의 일 실시형태에 대하여 설명했지만, 본 발명은, 또한 다른형태로 실시할 수도 있다.

예를 들면, 전술한 실시형태에서는, 차단판(14)이 이반위치에 있는 상태에서는, 차단판(14)의 기판대향면(58)과 급기구(65)가 동일 면상으로 되어 있지만, 차단판(14)이 이반위치에 있는 상태에서, 차단판(14)의 기판대응면(58)이 급기구(65)보다도 위쪽에 위치하도록 해도 좋다. 이러한 구성이라도, 급기구(65)에서 처리챔버(4) 내로 급기되는 청정공기와 차단판(14)의 간섭이 없기 때문에, 기판(W)의 표면에 차단판(14)을 이용한 처리를 실시하지 않은 때의 처리챔버(4) 내의 기류를 안정화시킬 수 있다.

또한, 본 실시형태에서는, 급기관(64)에서 공급된 청정공기를, 처리챔버(4) 내로 공급하는 급기유닛(7)을 예로 들어 설명했지만, 이 급기유닛(7)을 대신하여, FFU(fan filter unit)를 이용해도 좋다. 이 FFU는, 팬 및 필터를 상하로 적층하고, 팬에 의해 빨려 들어온 클린룸 내의 에어를 필터로 정화하여, 급기구에서 처리챔버(4) 내로 공급하는 구성이다.

본 발명의 실시형태에 대하여 상세하게 설명했지만, 이들은 본 발명의 기술적 내용을 명확히 하기 위해 이용된 구체예에 지나지 않고, 본 발명은 이들 구체예에 한정하여 해석할 것이 아니라, 본 발명의 범위는 첨부한 청구범위에 의해서만 한정된다.

본 출원은, 2009년 9월 30일에 일본국 특허청에 제출된 특허출원2009-226263호에 대응하고 있으며, 본 출원의 전(全) 개시는 여기에서 인용에 의해 편입되는 것으로 한다.

Claims

내부에서 기판을 처리하기 위한 처리챔버와,
상기 처리챔버의 내부에서 상기 기판을 그 표면을 위로 한 상태에서 수평으로 지지하고, 해당 기판을 해당 기판의 중심을 통과하는 연직의 회전축선(C) 주위로 회전시키기 위한 기판지지유닛과,
상기 기판지지유닛의 위쪽에 배치되며 해당 기판지지유닛에 대향하는 대향면을 갖는 차단부재와,
상기 처리챔버의 상부에 배치되며, 상기 처리챔버의 외부로부터 내부로 청정공기를 불어넣기 위한 급기부(給氣部)와,
회전축선(C)과 직교하는 면(面)인 평면에서 보아 상기 차단부재의 주위를 둘러싸는 둥근 고리모양(圓環狀)으로 형성된 아래로 향하는 급기구(給氣口)를 구비하며,
상기 급기부는 상기 급기구로부터 처리챔버 내부로 아래로 향하는 청정공기를 공급함으로써, 상기 처리챔버의 상부로부터 하부로 향한 청정공기의 하강 기류를 상기 처리챔버 내부에 형성하는, 기판처리장치.
제1항에 있어서,
상기 차단부재의 상기 대향면과 상기 기판의 상기 표면에 미소 간격을 두고서 대향하는 처리위치와, 상기 기판지지유닛의 표면으로부터 위쪽으로 이반하는 이반위치(離反位置)와의 사이에서, 상기 차단부재를 승강시키는 승강유닛을 더 포함하며, 상기 급기구는 적어도 상기 승강유닛에 의해 상기 이반위치에 배치된 상기 차단부재를 회전축선(C)과 직교하는 면인 평면에서 보아 둘러싸는 둥근 고리모양으로 형성되어 있는 기판처리장치.
제2항에 있어서,
상기 급기구는, 상기 이반위치에 있는 상기 차단부재의 상기 대향면과 동일면 상에 형성되어 있는 기판처리장치.
제1항에 있어서,
상기 차단부재는, 상기 처리챔버의 외측 영역에 배설(配設)된 차단부재지지부재에 의해 지지되어 있는 기판처리장치.
제1항에 있어서,
상기 기판지지유닛의 주위를 둘러싸고, 해당 기판지지유닛을 수용하는 통 모양의 처리컵을 더 포함하며,
상기 처리챔버 내부의 분위기를 해당 처리챔버의 외부로 배기하는 배기구(排氣口)가, 상기 처리챔버 내부에서 상기 처리컵의 주위를 둘러싸도록 형성되어 있는 기판처리장치.
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