CN103811373A - 一种单片湿法处理模块的工艺杯 - Google Patents

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胡延兵
卢继奎
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Shenyang Xinyuan Microelectronics Equipment Co Ltd
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Abstract

本发明涉及集成电路制造单片湿法处理设备,具体地说是一种单片湿法处理模块的工艺杯,包括杯座、底板、载片台、外罩杯及驱动装置,其中杯座安装在底板上,具有吸附晶片作用的载片台位于杯座内部、并与电机驱动的转动轴相连,所述外罩杯与安装在底板上的驱动装置连接,通过驱动装置驱动翻转、空出工艺模块装载或卸载晶片的空间及通道。本发明的工艺杯组件的结构简单,加工制造、装配及维护保养容易,有效地减少了设备制造商的投资成本和运营商的运行成本。

Description

一种单片湿法处理模块的工艺杯
技术领域
本发明涉及集成电路制造单片湿法处理设备,具体地说是一种单片湿法处理模块的工艺杯。
背景技术
目前,在集成电路制造单片湿法处理设备中,集成较多工艺处理模块,所有工艺模块的载片是通过机器人手臂的取放片及模块内相关组件的动作共同完成的,工艺模块内进行动作的相关组件是工艺杯和载片台。
单片湿法处理工艺模块的加工过程特点是,载片台装载晶片按照既定的程序进行旋转,喷洒药液工艺嘴按照既定的程序进行喷洒,其加工作业的工作腔体四周是封闭的,防止加工作业时喷洒药液的飞溅;在装载晶片及卸载晶片时,必须留出足够的通道空间以保证载片过程的顺利进行。
现有载片方式有两种,一种是载片台组件垂直上升,载片平面高出工艺杯上平面,机械手可以传送晶片到载片台上方,通过程序化的下降动作完成载片过程,机械手也可以穿梭到载片台下方,通过程序化的上升动作完成卸片过程;另一种是工艺杯组件下降,载片平面高出工艺杯上平面,机械手通过程序化的动作完成载片、卸片过程。现有的这两种载片方式需要载片台组件上升或是工艺杯组件下降,使得设备结构非常复杂,不易加工、维护,增加了成本。
发明内容
本发明的目的在于提供一种单片湿法处理模块的工艺杯。该工艺杯在集成电路制造单片湿法处理模块装载及卸载晶片的过程中,通过翻转外罩杯,空出工艺模块的装载及卸载晶片空间及通道,达到载片的目的。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
本发明包括杯座、底板、载片台、外罩杯及驱动装置,其中杯座安装在底板上,具有吸附晶片作用的载片台位于杯座内部、并与电机驱动的转动轴相连,所述外罩杯与安装在底板上的驱动装置连接,通过驱动装置驱动翻转、空出工艺模块装载或卸载晶片的空间及通道。
其中:所述转动轴外围设有安装在底板上的内罩杯,所述载片台位于内罩杯的上方;所述外罩杯翻转的转轴与晶片平行;所述外罩杯上部边缘沿径向向外对称设有两个凸块,两个凸块分别与两个对称安装在底板上的支撑架铰接,两个铰接处铰轴中心的连线即为外罩杯翻转的转轴,所述转轴的轴向中心线与晶片的轴向中心垂直相交;所述支撑架位于杯座的外部;所述驱动装置位于杯座的外部,驱动装置的输出端通过连杆与外罩杯连接,该连杆的两端分别与驱动装置的输出端及外罩杯铰接;所述外罩杯的上部为圆环,下部位于所述杯座的内侧;所述杯座为圆环形。
本发明的优点与积极效果为:
1.本发明结构简单,使得外罩杯围绕一个直径为轴进行翻转动作,通过翻转动作可空出工艺模块的装载及卸载晶片空间及通道。
2.本发明加工制造、装配及维护保养容易,有效地减少了设备制造商的投资成本和运营商的运行成本。
附图说明
图1为本发明的整体结构示意图;
图2为本发明装/卸载晶片过程的示意图;
其中:1为杯座,2为底板,3为载片台,4为支撑架,5为外罩杯,6为驱动装置,7为内罩杯,8为晶片,9为机械手,10为连杆,11为凸块。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步详述。
如图1、图2所示,本发明包括杯座1、底板2、载片台3、支撑架4、外罩杯5、驱动装置6及内罩杯7,其中底板2为平板状,杯座1为圆环形,并固接在底板2上;在底板2上固接有两个支撑架4,这两个支撑架4以杯座1的轴向中心线为对称,分别设置在杯座1两侧外部;驱动装置6固接在底板2上,同样位于杯座1的外部,并位于两个支撑架4之间,与两个支撑架4之间的角度均为直角。
载片台3是套装在由电机驱动的转动轴上,随转动轴旋转,并具有吸附晶片8的作用;载片台3与杯座1同心设置、位于杯座1的内部,在转动轴外围设有固定在底板2上的内罩杯7,载片台3位于内罩杯7的上方,该内罩杯7可起到保护罩的作用。
外罩杯5的上部为圆环,下部位于杯座1的内侧;外罩杯5上部边缘沿径向向外对称设有两个凸块11,两个凸块11分别与两个所述支撑架4铰接,两个铰接处铰轴中心的连线即为外罩杯5翻转的转轴,该转轴与晶片8平行,并且转轴的轴向中心线与晶片8的轴向中心垂直相交。
驱动装置6的输出端通过连杆10与外罩杯5连接,该连杆10的两端分别与驱动装置6的输出端及外罩杯5铰接;外罩杯5通过驱动装置6的驱动翻转,空出工艺模块装载或卸载晶片8的空间及通道。本发明的驱动装置6可为气缸。
本发明的工作原理为:
图2中的阴影区域为机器手9传送晶片8的工作区域,要实现装载晶片功能,首先要保证载片台3上没有晶片8,驱动装置6工作,通过翻转工艺杯的外罩杯5,使得载片台3部分地露出工艺杯,这时工艺杯外载有晶片8的机器手9水平移动运送晶片8到达载片台3上方后,下降动作过程中将晶片8释放到载片台3上,机械手9再水平移动退出工作区域,载片台3吸附晶片8,外罩杯7翻转回原始位置,完成装载晶片的动作。
通过翻转动作也可使正在载片的载片台3及晶片8部分地露出工艺杯,工艺杯外的取片装置水平移动进入工艺杯内停留在晶片8的下方,从而实现卸载晶片8的功能。

Claims (8)

1.一种单片湿法处理模块的工艺杯,其特征在于:包括杯座(1)、底板(2)、载片台(3)、外罩杯(5)及驱动装置(6),其中杯座(1)安装在底板(2)上,具有吸附晶片作用的载片台(3)位于杯座(1)内部、并与电机驱动的转动轴相连,所述外罩杯(5)与安装在底板(2)上的驱动装置(6)连接,通过驱动装置(6)驱动翻转、空出工艺模块装载或卸载晶片(8)的空间及通道。
2.按权利要求1所述单片湿法处理模块的工艺杯,其特征在于:所述转动轴外围设有安装在底板(2)上的内罩杯(7),所述载片台(3)位于内罩杯(7)的上方。
3.按权利要求1或2所述单片湿法处理模块的工艺杯,其特征在于:所述外罩杯(5)翻转的转轴与晶片(8)平行。
4.按权利要求3所述单片湿法处理模块的工艺杯,其特征在于:所述外罩杯(5)上部边缘沿径向向外对称设有两个凸块(11),两个凸块(11)分别与两个对称安装在底板(2)上的支撑架(4)铰接,两个铰接处铰轴中心的连线即为外罩杯(5)翻转的转轴,所述转轴的轴向中心线与晶片(8)的轴向中心垂直相交。
5.按权利要求4所述单片湿法处理模块的工艺杯,其特征在于:所述支撑架(4)位于杯座(1)的外部。
6.按权利要求1或2所述单片湿法处理模块的工艺杯,其特征在于:所述驱动装置(6)位于杯座(1)的外部,驱动装置(6)的输出端通过连杆(10)与外罩杯(5)连接,该连杆(10)的两端分别与驱动装置(6)的输出端及外罩杯(5)铰接。
7.按权利要求1或2所述单片湿法处理模块的工艺杯,其特征在于:所述外罩杯(5)的上部为圆环,下部位于所述杯座(1)的内侧。
8.按权利要求1或2所述单片湿法处理模块的工艺杯,其特征在于:所述杯座(1)为圆环形。
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