JP2018529591A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. 回転式真空包装システムの１つまたは複数の気密空間に真空圧力を分配するための回転式真空弁であって、
   前記回転弁は、
   真空システムに連通する１つまたは複数の進入ポート、および、診断システムに連通する１つまたは複数の診断ポートを画定する静止部分と、
   真空路を介して対応する真空チャンバにそれぞれ連通する複数のチャンバポートを画定する回転部分であって、それぞれの真空チャンバは、気密空間を形成するように構成されている、回転部分と
   を含み、
   前記回転部分は、前記静止部分に対して回転するように構成されており、それによって、前記複数のチャンバポートのそれぞれを前記静止部分の前記１つまたは複数の進入ポートに選択的に位置合わせして、前記対応する真空チャンバを前記真空システムに連通する状態に置き、また、前記複数のチャンバポートのそれぞれを前記診断ポートに選択的に位置合わせして、前記対応する真空チャンバを前記診断システムに連通する状態に置くようにされていることを特徴とする真空圧力を分配するための回転式真空弁。
2. 前記複数のチャンバポートのそれぞれが、前記回転部分の前記回転領域の一部分において、前記進入ポートに位置合わせされていることを特徴とする請求項１に記載の回転式真空弁。
3. 前記真空チャンバが気密空間を形成している間に、前記診断システムが、前記診断ポートを通して真空チャンバの中の真空圧力を測定するように構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の回転式真空弁。
4. 前記静止部分が、前記真空システムに連通する第２の進入ポートをさらに画定するように構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の回転式真空弁。
5. 前記静止部分が、２つ以上のクロスベント・ポートをさらに画定し、前記２つ以上のクロスベント・ポートは、それらの間で連通しているとともに、２つ以上のチャンバポートを互いに連通する状態に置くように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の回転式真空弁。
6. 前記静止部分が、１つまたは複数の圧縮空気進入ポートをさらに画定しており、前記回転部分が、複数のチャンバ圧縮空気ポートをさらに画定しており、前記複数のチャンバ圧縮空気ポートは、それぞれの気密空間に対応する空気圧作動式の機構にそれぞれ連通していることを特徴とする請求項１に記載の回転式真空弁。
7. 前記空気圧作動式の機構が、押上げられた位置と後退した位置との間で移動可能なヒートシール機構であることを特徴とする請求項６に記載の回転式真空弁。
8. 前記静止部分が、それぞれのチャンバポートを周囲の環境に流体連通するための最終的なベントポートをさらに画定していることを特徴とする請求項１に記載の回転式真空弁。
9. １つまたは複数の診断ポートが、様々な真空段階における真空チャンバの真空レベルをモニタリングするように位置決めされていることを特徴とする請求項１から８までのいずれか１項に記載の回転式真空弁。
10. 真空システムに連通する進入ポート、および、真空特性をモニタリングするように構成されている診断システムに連通する診断ポートを画定する静止部分と、
    真空路を介して単一の対応する真空チャンバにそれぞれ連通する１つまたは複数のチャンバポートを画定する回転部分と、
    からなる回転式空気弁を備えた回転式真空包装システムの真空特性をモニタリングするための方法であって、
    少なくとも１つのチャンバポートが前記進入ポートに位置合わせされるようになっており、前記対応する真空チャンバが、前記真空システムに連通するようになっており、かつ前記真空システムが、前記対応する真空チャンバの中から空気を排出させるようになっている第１の位置まで、前記回転式真空弁の前記回転部分を回転させるステップと、
    前記少なくとも１つのチャンバポートが、前記回転式真空弁の前記静止部分の前記診断ポートに位置合わせされるようになっており、かつ前記対応する真空チャンバが、前記診断システムに連通して、前記対応する真空チャンバの前記真空特性をモニタリングするようになっている第２の位置まで、前記回転式真空弁の前記回転部分を回転させるステップと、
    を含むことを特徴とする真空特性をモニタリングするための方法。
11. 真空チャンバをベントして前記真空チャンバの中の前記真空圧力を低減させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の真空特性をモニタリングするための方法。
12. 前記真空チャンバをベントするステップが、前記真空チャンバを大気圧にある第２の真空チャンバに連通する状態にして、それら真空チャンバの間の前記圧力を等しくさせるステップを含むことを特徴とする請求項１１に記載の真空特性をモニタリングするための方法。
13. 前記真空チャンバをベントするステップを、前記回転弁の前記回転部分を前記第２の位置まで回転させる前に発生させることを特徴とする請求項１１または１２に記載の真空特性をモニタリングするための方法。