JP2018517146A5 - - Google Patents
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- 基板を画像化するイメージング装置であって、
該装置が、
基板上の意図した位置で、その基板を表す検出可能な信号を生成するように放射を基板に指向させるためのビームエミッタと、
前記検出可能な信号の画像化特徴を検出するための信号検出器と
を備え、
該イメージング装置が、歪み補正画像を生成する時に使用するために、前記画像化特徴を自動的に補正基板位置に関連付けし、
前記補正基板位置が、前記意図した位置と、前記意図した位置の関数である補正係数とから決められ、
各所定の画像ピクセル位置の少なくとも一部に重なる任意の一つ又は複数の前記補正基板位置に関連付けされた前記画像特徴の各比率に基づいて、基板の画像に対する複数の所定の画像ピクセル値が、所定の意図した基板位置に対応する各所定の画像ピクセル位置に対して決められ、
前記少なくとも一つの動作特性が、装置の現在の画像解像度を有する
ことを特徴とするイメージング装置。 - 前記画像化特徴が、前記検出可能な信号の強度を有する
ことを特徴とする請求項1に記載のイメージング装置。 - 前記補正係数が、前記イメージング装置の少なくとも一つの動作特性に対して予め決められている
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のイメージング装置。 - 該イメージング装置が、一つ又は複数の異なる意図された基板位置で前記画像特徴を検出するために、基板のある位置に対する前記放射の方向を変更させるビームモチベータをさらに備えている
ことを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載のイメージング装置。 - 該イメージング装置が、一つ又は複数の異なる意図された基板位置に対する前記画像特徴を検出するために、基板に対する前記信号検出器の位置を変更する少なくとも一つの装置モチベータをさらに備えている
ことを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載のイメージング装置。 - 前記装置モチベータが、前記信号検出器の位置を変化させる
ことを特徴とする請求項5に記載のイメージング装置。 - 前記装置モチベータが、基板の位置を変化させる
ことを特徴とする請求項5又は6に記載のイメージング装置。 - 前記信号検出器が、複数の異なる対応する意図された基板位置の各々に対する対応する特徴を決め、
前記歪み補正画像を生成する時に使用するために、該イメージング装置が、前記対応する特徴を、対応する補正基板位置に自動的に関連付けし、
前記対応する補正基板位置の各々が、前記対応する意図された位置と、前記対応する意図された位置の関数である補正係数とに基づいて決められる
ことを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載のイメージング装置。 - 該装置が、光学イメージング装置、FIB、SEM、TEM、X線装置、MRI、イオンビーム装置、CTスキャン及びCATスキャンのグループから選択される
ことを特徴とする請求項1〜7の何れか一項に記載のイメージング装置。 - イメージング装置における画像歪みを補正する方法であって、
前記イメージング装置が、意図した位置で、基板を表す検出可能な信号を生成するように放射を基板に指向させるためのビームエミッタと、前記検出可能な信号を表す画像化特徴値を決定するための信号検出器とを備え、
該方法が、
基板に衝突させるための放射を生じさせ、
意図された位置に関連付けされた検出可能な信号の画像化特徴を測定し
歪み補正画像を生成する時に使用するための画像化特徴に関連付けされた補正基板位置を決め、
意図した位置と、前記意図した基板位置の関数として予め決められた補正係数とに基づいて補整基板位置を決定し、
前記測定した強度を前記補正した位置に関連付けし、
各所定の画像ピクセル位置の少なくとも一部に重なる任意の一つ又は複数の前記補正基板位置に関連付けされた前記画像特徴の各比率に基づいて、所定の意図した基板位置に対応する各所定の画像ピクセル位置に対して決められた複数の所定の画像ピクセル値に基づいて、基板の画像を生成する
ことを特徴とする方法。 - 前記画像化特徴が、前記検出可能な信号の強度を有する
ことを特徴とする請求項10に記載の方法。 - 前期補正係数が、さらに、前記イメージング装置の所定の動作特性のセットに対して予め決められる
ことを特徴とする請求項10又は11に記載の方法。 - 少なくとも一つの他の基板位置に対して、前記測定、決定及び関連付け工程を繰り返す
ことを特徴とする請求項10〜12の何れか一項に記載の方法。 - 基板を画像化するイメージング装置であって、
該装置が、
基板の意図した領域を表す検出可能な信号を生成するように基板に放射を指向するビームエミッタと、
前記各意図した領域に対する前記検出可能な信号の各画像化特徴を検出するための信号検出器と、
歪み補正画像を生成する時に使用するために前記各画像化特徴を、補正された領域に自動的に関連付けするように各画像化特徴を処理するために動作可能なデジタルプロセッサと
を備え、
前記各補正された領域が、前記意図された領域と前記意図された領域に関連付けされた補正係数とに基づいて決められ、
前記各意図された領域が、指定された画像化ピクセル位置に対応し、
所定の意図された領域に対応する所定の指定された画像化ピクセル位置に対する補正された画像ピクセル値が、
前記所定の意図された領域と重なる前記各補正された基板領域の相対比率の関数として補正され、
前記意図された領域が、装置の現在の画像化解像度によって少なくとも部分的に決められ、
前記補正係数が、前記現在の画像化解像度に特有のものである
ことを特徴とする装置。 - イメージング装置における画像歪みを補正する方法であって、
イメージング装置が、基板の意図した領域を表す検出可能な信号を生成するように、放射を基板に指向するためのビームエミッタと、前記各意図した領域に対する前記検出可能な信号の各画像化特徴を検出するための信号検出器とを備え、
該方法が、
基板に衝突させる放射を生じさせ、
意図された領域に関連付けされた各画像化特徴を測定し、
各意図された領域に対して、前記意図された領域と、前記意図された領域に関連付けされた指定の補正係数とに基づいて補正された領域を画定し、
前記測定された画像化特徴を前記補正された領域に関連付けし、
前記測定した画像化特徴と前記補正された領域との関連付けに基づいて歪み補正画像を生成し、
前記各意図された領域が、指定された画像化ピクセル位置に対応し、
所定の意図された領域に対応する所定の指定された画像化ピクセル位置に対する補正された画像ピクセル値が、前記所定の意図された領域と重なる前記各補正された基板領域の相対比率の関数として補正される
ことを特徴とする方法。 - イメージング装置に対する位置を基礎とした補正情報を決める方法であって、
イメージング装置が、基板上の意図された位置で基板を表す検出可能な信号を生成するように、基板に放射を指向するビームエミッタと、前記検出可能な信号に関連付けられた画像特徴を決める信号検出器とを備え
該方法が、
既知の表面特徴を有する基板をイメージング装置に配置し、
イメージング装置の少なくとも一つの動作特性を一定に維持しながら、複数の意図された基板位置の各々に対する前記検知可能な信号の画像化特徴を検出することによって、前記表面特徴を表す表面特徴特性を測定し、前記画像化特性が各々、前記表面特徴特性を表すものであり、
前記表面特徴の複数の測定した位置の各々と、前記表面特徴の対応する実際の位置との間の各差異に基づいて、各測定した位置と対応する実際の位置との間の補正関係を、前記測定した基板位置の関数として決め、かつ、
各補正関係に基づく各所定の画像ピクセル位置に対して決められた複数の所定の画像ピクセル値に基づいて歪み補正画像を生成する
ことを特徴とする方法。 - 位置に基づく補正情報が、少なくとも一つの動作特性と関連付けされている
ことを特徴とする請求項16に記載の方法。 - イメージング装置から基板の画像を生成する方法であって、
前記イメージング装置が、基板上の意図した位置に放射を指向するためのビーム源と、そのビームに関連付けした信号特徴値を決める信号検出器とを備え、
該方法が、
前記信号検出器によって複数の信号特徴値を収集し、前記信号特徴値の各々が、実際の位置で基板特徴を表し、
所定の各信号特徴値に対して、補正係数を使用して前記意図した基板位置を補正することによって、それに関連付けされた前記実際の位置を決め、前記補正係数は、前記意図した基板位置の関数であり、
画像用の画像ピクセル値を生成し、複数の所定のピクセル位置での複数の所定の画像ピクセル値が、少なくとも一つの前記所定の信号特徴値の各比率に基づくものであり、その所定の信号特徴値の補正された基板位置が、前記所定の画像ピクセル値の一部に対応
し、かつ、
所定の画像ピクセル値に基づいて画像の基盤を生成する
ことを特徴とする方法。 - 補正係数が、イメージング装置の少なくとも一つの動作特性に関連付けされている
ことを特徴とする請求項18に記載の方法。 - イメージング装置が、さらに、
二つ又はそれ以上の異なる意図された基板位置で検出可能な信号の前記画像特徴を検出するために、基板の位置に対する放射の方向を変更する少なくとも一つのビームモチベータを備えている
ことを特徴とする請求項18又は19に記載の方法。 - イメージング装置が、さらに、
二つ又はそれ以上の異なる意図された基板位置で検出可能な信号の前記画像特徴を検出するために、基板に対する信号検出器の位置を変更する少なくとも一つの装置モチベータを備えている
ことを特徴とする請求項18〜20の何れか一項に記載の方法。 - 前記ビームモチベータが、基板特徴の各測定の間に基板に対するビームの位置を変更する
ことを特徴とする請求項20に記載の方法。 - 前記装置モチベータが、基板特徴の各測定の間に信号検出器及びビームエミッタの少なくとも一方に対する基板の位置を変更する
ことを特徴とする請求項21又は22に記載の方法。
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DE102018204683B3 (de) * | 2018-03-27 | 2019-08-08 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Elektronenstrahlmikroskop |
US10410372B1 (en) * | 2018-06-14 | 2019-09-10 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Methods, systems, and computer-readable media for utilizing radial distortion to estimate a pose configuration |
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US10834306B2 (en) * | 2019-01-15 | 2020-11-10 | International Business Machines Corporation | Method for a remote control of a radiation detection apparatus |
KR102608797B1 (ko) * | 2023-04-10 | 2023-12-01 | 부산대학교 산학협력단 | 후방산란 엑스선 영상의 왜곡 보정 장치 및 방법 |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5054097A (en) | 1988-11-23 | 1991-10-01 | Schlumberger Technologies, Inc. | Methods and apparatus for alignment of images |
CA2216900C (en) | 1996-10-01 | 2001-12-04 | Semiconductor Insights Inc. | Method to extract circuit information |
JP4002655B2 (ja) * | 1998-01-06 | 2007-11-07 | 株式会社日立製作所 | パターン検査方法およびその装置 |
JP4277334B2 (ja) | 1998-11-06 | 2009-06-10 | 株式会社ニコン | 観察装置およびその調整方法 |
US7817844B2 (en) | 1999-08-26 | 2010-10-19 | Nanogeometry Research Inc. | Pattern inspection apparatus and method |
US20030003600A1 (en) * | 2001-07-02 | 2003-01-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Biochemical analysis kit and method for exposing stimulable phosphor sheet |
US7034296B2 (en) | 2001-11-21 | 2006-04-25 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of forming a sample image and charged particle beam apparatus |
DE10332059A1 (de) * | 2003-07-11 | 2005-01-27 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Verfahren zur Analyse von Objekten in der Mikrolithographie |
US7313781B2 (en) | 2004-05-28 | 2007-12-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Image data correction method, lithography simulation method, image data correction system, program, mask and method of manufacturing a semiconductor device |
WO2007024221A1 (en) | 2005-08-23 | 2007-03-01 | University Of Washington | Distance determination in a scanned beam image capture device |
CN101361159B (zh) * | 2005-12-02 | 2013-01-02 | 阿利斯公司 | 离子源、系统和方法 |
WO2007067296A2 (en) | 2005-12-02 | 2007-06-14 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
DE102005062618B4 (de) | 2005-12-23 | 2008-05-08 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Abbildungseinrichtung und Abbildungsverfahren mit Bestimmung von Abbildungsfehlern |
JP4979246B2 (ja) * | 2006-03-03 | 2012-07-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥観察方法および装置 |
JP4801518B2 (ja) * | 2006-07-07 | 2011-10-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線顕微方法および荷電粒子線装置 |
JP2008046470A (ja) * | 2006-08-18 | 2008-02-28 | Olympus Corp | 照明装置、照明方法、及び走査型光学顕微鏡 |
JP5134804B2 (ja) | 2006-10-06 | 2013-01-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡および走査電子顕微鏡像の歪み校正 |
US20110304527A1 (en) | 2007-09-14 | 2011-12-15 | Sean Wu | Computer-implemented methods, carrier media, and systems for displaying an image of at least a portion of a wafer |
JP4856047B2 (ja) * | 2007-11-12 | 2012-01-18 | 株式会社東芝 | マスクパターン寸法検査方法およびマスクパターン寸法検査装置 |
US8326011B2 (en) | 2008-05-21 | 2012-12-04 | Varian Medical Systems, Inc. | Methods, systems, and computer-program products for estimating scattered radiation in radiographic projections |
JP2010002772A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Toshiba Corp | パターン検証・検査方法、光学像強度分布取得方法および光学像強度分布取得プログラム |
EP2197018A1 (en) * | 2008-12-12 | 2010-06-16 | FEI Company | Method for determining distortions in a particle-optical apparatus |
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JP5547942B2 (ja) * | 2009-10-06 | 2014-07-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥観察方法及びその装置 |
US8253118B2 (en) | 2009-10-14 | 2012-08-28 | Fei Company | Charged particle beam system having multiple user-selectable operating modes |
JP5357725B2 (ja) * | 2009-12-03 | 2013-12-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 |
EP2530699B1 (en) | 2010-01-25 | 2017-06-21 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam microscope and method of measurement employing same |
JP5963453B2 (ja) * | 2011-03-15 | 2016-08-03 | 株式会社荏原製作所 | 検査装置 |
JP5651511B2 (ja) * | 2011-03-22 | 2015-01-14 | 株式会社東芝 | フォトマスクのパターンの輪郭抽出方法、輪郭抽出装置 |
EP2707893B1 (en) | 2011-05-13 | 2019-01-16 | Fibics Incorporated | Microscopy imaging method and system |
JP5809575B2 (ja) * | 2012-01-31 | 2015-11-11 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 画像処理装置および方法と歪補正マップ作成装置および方法と半導体計測装置 |
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