JP4979246B2 - 欠陥観察方法および装置 - Google Patents
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Description
図1〜図13により、本発明の第1の実施の形態における欠陥観察方法およびその装置の一例を説明する。
図14により、本発明の第2の実施の形態における欠陥観察方法およびその装置の一例を説明する。
検出器610の移動方法は、例えば、パルスモータ634を使ってガイドレール632に沿ってZ方向に移動させる方法である。パルスモータ634による移動量は、原点センサ633からのパルス数を算出すれば良い。この時、結像倍率Mは(式2)となるため、基準位置における倍率をM0とすると、(式3)で算出される値kが倍率変動量となる。従って、画像から算出した欠陥位置のずれ量に対して、倍率変動量kを乗算することによって、倍率補正後の位置補正量を算出することができる。
k=M/M0 ・・・ (式3)
なお、高さ検出システム7を用いない場合は、上述の第1の実施の形態で説明した検出光学系605の移動による画像取得の代わりに、検出器610を移動させて画像を取得することにより、検出した画像から焦点合わせが可能である。この場合、原点センサ633からのパルス数で検出器610の位置を算出し、該算出値を上述したbの値に代入して倍率Mを算出すれば良い。
図15、図16により、本発明の第3の実施の形態における欠陥観察方法およびその装置の一例を説明する。
図17により、本発明の第4の実施の形態における欠陥観察方法およびその装置の一例を説明する。
Claims (6)
- 電子顕微鏡で試料の欠陥を観察する方法であって、
前記電子顕微鏡に搭載された光学式顕微鏡を用いて、予め前記試料の欠陥を他の光学式検査装置で検出して得た情報に基づいて前記試料に焦点合わせを行う第1の工程と、
前記光学式顕微鏡で前記欠陥を再検出する第2の工程と、
前記第2の工程で再検出された欠陥の位置情報に基づいて前記欠陥の位置情報を補正する第3の工程と、
前記第3の工程で位置情報を補正された欠陥を前記電子顕微鏡で観察する第4の工程を有し、
前記第1の工程では、前記光学式顕微鏡の検出光学系の一部または全部を移動させて前記光学式顕微鏡の焦点位置が前記試料の表面にくるように調整し、前記試料に対して斜方から入射したときに前記光学式顕微鏡の照明位置と前記光学式顕微鏡の観察位置とが一致することを特徴とする欠陥観察方法。 - 請求項1記載の欠陥観察方法において、
前記第2の工程による前記欠陥の再検出結果と前記第4の工程による前記電子顕微鏡での観察結果とを比較して、欠陥の種類を分類する第5の工程を有することを特徴とする欠陥観察方法。 - 請求項1または2記載の欠陥観察方法において、
前記第1の工程では、前記光学式顕微鏡の検出光学系の対物レンズおよびミラーを移動させることにより前記光学式顕微鏡の焦点位置が前記試料の表面にくるように調整することを特徴とする欠陥観察方法。 - 電子顕微鏡で試料の欠陥を観察する装置であって、
光学式欠陥検査装置で検出された前記試料の欠陥の位置を再検出する光学式顕微鏡と、
前記光学式顕微鏡に搭載されていて前記試料の焦点合わせを行う焦点合わせ手段と、
前記光学式顕微鏡で再検出された欠陥の位置情報に基づいて前記欠陥の位置情報を補正する位置補正手段と、
前記位置補正手段で位置情報を補正された欠陥を観察する電子顕微鏡を有し、
前記焦点合わせ手段は、前記光学式顕微鏡の検出光学系の一部または全部を移動させて前記光学式顕微鏡の焦点位置が前記試料の表面にくるように調整し、前記試料に対して斜方から入射したときに前記光学式顕微鏡の照明位置と前記光学式顕微鏡の観察位置とが一致することを特徴とする欠陥観察装置。 - 請求項4記載の欠陥観察装置において、
前記光学式顕微鏡により再検出された前記試料の欠陥と前記電子顕微鏡により観察された前記欠陥とを比較して、欠陥の種類を分類する分類部を有することを特徴とする欠陥観察装置。 - 請求項4または5記載の欠陥観察装置において、
前記焦点合わせ手段では、前記光学式顕微鏡の検出光学系の対物レンズおよびミラーを移動させることにより前記光学式顕微鏡の焦点位置が前記試料の表面にくるように調整することを特徴とする欠陥観察装置。
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