JP2019132637A - 欠陥観察装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の目的は、欠陥観察装置において、欠陥サイズによらず高精度で欠陥を検出することにある。
実施形態の欠陥観察装置は、光学顕微鏡とSEMを含む複数の撮像構成を搭載した欠陥観察装置と、撮像構成の1つで欠陥画像を撮像し得られる情報に基づき、複数の撮像構成の中から次の撮像構成を1つ選択し、次の撮像構成の撮像条件を自動設定する。
以下、図面を用いて実施例について説明する。
欠陥観察装置1000は、観察装置100と、ネットワーク121と、データベース122と、ユーザインターフェース123と、記憶装置124と、制御システム部125とを有する。また、欠陥観察装置1000は、ネットワーク121を介して、他の検査装置である欠陥検査装置107とつながっている。欠陥検査装置107は、試料101上に存在する欠陥を検出し、欠陥の位置座標やサイズなどの欠陥情報を取得する。
尚、以下の説明では、光学顕微鏡105と光学顕微鏡305、SEM106を撮像構成と言う。また、それぞれの撮像構成の照明及び検出パラメータを撮像条件と言う。また、撮像構成とその撮像条件が同じものを同じ撮像手段、撮像構成が異なるもしくは同じ撮像構成において撮像条件の異なるものを他の撮像手段と言う。
外部の欠陥検査装置107が出力した試料101の欠陥情報を読み込み、この欠陥情報に基づき、欠陥観察装置1000で欠陥観察を行う。この欠陥観察においては、まず、試料101を欠陥観察装置1000の試料ホルダ102上に載置する。試料101の特徴領域を、光学顕微鏡105の白色照明光学系211で照明し検出光学系210によって観察する。もしくは、光学顕微鏡305によって観察し、試料101の粗アライメントを行う。前記試料101の特徴領域とは、例えば、外周部やその周辺、ノッチ部などがある。
画像501は光学顕微鏡105もしくは305で取得した画像を、画像502は前記画像501を二値化処理した画像を、像551、552は二値化前の欠陥像を、像553、554はニ値化後の欠陥像を、それぞれ示している。画像501は、光学顕微鏡で取得した画像に、メディアンフィルタなどの平滑化処理やソーベルフィルタなどのエッジ強調処理を行った後の画像でも良い。線602は、画像501中のA−A’断面線601上の輝度値を示している。
図4では、欠陥像の面積Sが、閾値A以下の欠陥は現状の撮像手段で欠陥検出が可能性のある欠陥、閾値Aより大きく閾値B以下の欠陥は光学顕微鏡の別の撮像手段で検出可能性のある欠陥、閾値Bより大きい欠陥は光学顕微鏡では検出が困難な欠陥としている。加えて、安定して欠陥座標算出精度を維持できる範囲として、欠陥像の面積Sが閾値C以下と設定した。S302で取得する画像特徴量の1つである欠陥像の面積Sが、閾値A以下の欠陥(S311−YES)は、まず、その欠陥像の領域が画像の縁に存在するか否かを判断する(S312)。
検出器207もしくは307で取得する画像サイズは(Sx,Sy)とする。前記S302(図2)で算出した欠陥像の最大座標(Xmax.,Ymax.)、最小座標(Xmin.,Ymin.)を取得し(S325)、Xmin.=0、またはYmin.=0、またはXmax.=Sx、またはYmax.=Syの場合(S326−YES)、欠陥像の領域が画像の縁にある(YES)と判定する(S326)。一方、Xmin.≠0、かつYmin.≠0、かつXmax.≠Sx、かつYmax.≠Syの場合(S326−NO)、欠陥像の領域が画像の縁にない(NO)と判定する(S328)。
例えば、S302(図2)で取得した二値化画像502から、直線性特徴量を取得する(S329)。直線性特徴量は、例えば、二値化画像502をハフ変換して得られる投票数や,二値化画像502中の欠陥像の長軸と短軸の比などがある。直線性特徴量が閾値Dより大きい場合(S330−YES)、画像中の欠陥像は線状欠陥(YES)と判定する(S331)。一方、直線性特徴量が閾値以下の場合(S330−NO)、画像中の欠陥像は線状欠陥ではない(NO)と判定する(S332)。
Sナンバーが図4と同じものに関しては、詳細説明を省略する。欠陥座標算出可否を判断する際、最初に、S301で取得した画像内に複数の欠陥が存在しているか否かを判定する(S333)。撮像画像内の欠陥像が1つの場合は、S311へ進み、以下、図4と同様に処理される。
S302(図2)で取得した画像中の欠陥像のラベル数を取得する(S336)。取得したラベル数が1より多い場合(S337−YES)、画像中の欠陥像から既に欠陥座標を算出した欠陥を除外する(S339)。次に、取得した画像特徴量に基づいて、除外した残りの欠陥から、欠陥座標を算出する優先順位を設定する(S340)。画像特徴量としては、例えば、画像内の欠陥面積S、欠陥輝度Imax.、欠陥座標などがある。
画像511は、欠陥像562、563、564の3つの欠陥像が存在している撮像画像を示している。欠陥像562は、欠陥面積Sが閾値C以下かつ欠陥領域が画像の縁にない欠陥像である。欠陥像563は、欠陥面積Sが閾値C以下かつ欠陥領域が画像の縁に存在している線状欠陥像である。欠陥像564は、欠陥面積Sが閾値A以下かつ閾値Cより大きく、かつ画像の縁に欠陥像の領域が存在する欠陥像である。欠陥座標算出の優先順位は、画像中心に近い欠陥ほど優先順位を高く設定する場合を例に説明する。また、欠陥像563は既に欠陥座標を算出済みと設定する。
多量の観察対象欠陥が存在する際に、全ての観察対象欠陥を光学顕微鏡で撮像し欠陥座標を算出すると、欠陥観察に時間がかかる。欠陥観察時間を短縮する方法として、欠陥検査装置107の出力する欠陥座標を欠陥観察装置1000内の座標に補正する座標補正式を使用する方法がある。最初に、複数の観察対象欠陥の中から、いくつかの欠陥を光学式顕微鏡で撮像し、算出した欠陥座標および欠陥検査装置107との座標オフセット量から、試料101面内の座標依存性を考慮した座標補正式を作成する。
最初に、現在の撮像条件を取得する(S355)。現在の撮像条件は、例えば、予めレシピで設定した初期撮像条件もしくは、図12中のS353またはS354で再設定された撮像条件である。撮像条件の自動設定モードがONの場合(S356−YES)、かつ、低コントラスト欠陥のSEM撮像条件変更設定がONの場合(S357−YES)、対象欠陥が低コントラスト欠陥か否かを判断する(S358)。
最初に、予めレシピで設定された情報に基づき、観察対象の全ての欠陥において光学顕微鏡画像を取得するか否かを選択する(S389)。全ての欠陥の光学顕微鏡画像を取得する場合(S389−YES)、現在の対象欠陥の光学顕微鏡画像を取得する(YES)と判定する(S392)。一方、観察対象の一部の欠陥の光学顕微鏡画像を取得する場合(S389−NO)、座標補正式作成もしくは更新に使用できる欠陥数が、予め設定された閾値Nに達するまで(S390−YES)は、現在の対象欠陥の光学顕微鏡画像を取得する(YES)と判定し(S392)、閾値Nに達した後(S390−NO)は、現在の対象欠陥の光学顕微鏡画像を取得しない(NO)と判定する(S391)。
102 試料ホルダ
103 ステージ
104 光学式高さ検出器
105 光学顕微鏡
106 電子顕微鏡
107 検査装置
111 真空封止窓
113 真空封止窓
112 真空槽
121 ネットワーク
122 ライブラリ
123 ユーザインターフェース
124 記憶装置
125 制御システム
151 電子線源
152 引き出し電極
153 偏向電極
154 対物レンズ電極
155 二次電子検出器
156 反射電子検出器
201 レーザ照明光学系
205 光学フィルタ
207 検出器
208 切り替え機構
210 検出光学系
212 白色照明光学系
214 ハーフミラー
305 光学顕微鏡
1000 欠陥観察装置
Claims (14)
- 外部の検査装置が検出した複数の欠陥を撮像する第一撮像部と、
前記第一撮像部が撮像した画像を用いて前記欠陥の位置情報を補正する制御部と、
前記補正された位置情報に基づいて前記欠陥を撮像する第二撮像部と、を有し、
前記第一撮像部は、複数の撮像手段を備え、
前記制御部は、
前記第一撮像部による前記欠陥の撮像において得た情報に基づいて、前記欠陥毎に次の撮像部として前記第一撮像部と前記第二撮像部のいずれかを選択し、
前記第一撮像部の前記複数の撮像手段の中から前記第一撮像部の次の撮像手段又は前記第二撮像部の撮像条件を設定し、
前記第二撮像部の撮像条件として、積算フレーム枚数、加速電圧、プローブ電流、撮像倍率又は撮像視野を設定し、
前記第一撮像部によって検出された前記欠陥の位置情報と前記第一撮像部による画像取得により得られた情報に基づいて座標補正式を算出し、前記補正された位置情報に基づいて前記第二撮像部を用いて前記欠陥を撮像することを特徴とする欠陥観察装置。 - 外部の検査装置が検出した複数の欠陥を撮像する第一撮像部と、
前記第一撮像部が撮像した画像を用いて前記欠陥の位置情報を補正する制御部と、
前記補正された位置情報に基づいて前記欠陥を撮像する第二撮像部と、を有し、
前記第一撮像部は、複数の撮像手段を備え、
前記制御部は、
前記第一撮像部の撮像画像からの前記欠陥の座標検出が不可能と判定された場合、前記欠陥の座標検出が不可能と判定された撮像手段の前記第一撮像部による画像取得により得られた情報に基づいて、前記第一撮像部の前記複数の撮像手段の中から前記第一撮像部の次の撮像手段を設定し、
前記第一撮像部によって検出された前記欠陥の位置情報と前記第一撮像部による画像取得により得られた情報に基づいて座標補正式を算出し、前記補正された位置情報に基づいて前記第二撮像部を用いて前記欠陥を撮像することを特徴とする欠陥観察装置。 - 請求項2に記載の欠陥観察装置において、
前記欠陥の座標検出が不可能と判定された撮像手段の前記第一撮像部による画像取得により得られた情報は、
前記第一撮像部の撮像手段の情報と、
前記第一撮像部による撮像画像から得られた画像特徴量と、
前記撮像手段の情報と前記画像特徴量に基づいて判定された欠陥像の判定情報と、
を含むことを特徴とする欠陥観察装置。 - 請求項3に記載の欠陥観察装置において、
前記欠陥像の判定情報は、
前記第一撮像部による撮像画像における前記欠陥像の領域が前記撮像画像の縁にあるか否かの判定情報を含むことを特徴とする欠陥観察装置。 - 請求項3に記載の欠陥観察装置において、
前記欠陥像の判定情報は、
前記第一撮像部による撮像画像における前記欠陥像が線状か否かの判定情報を含むことを特徴とする欠陥観察装置。 - 請求項3に記載の欠陥観察装置において、
前記欠陥像の判定情報は、
前記第一撮像部による撮像画像における前記欠陥像が複数存在するか否かの判定情報を含むことを特徴とする欠陥観察装置。 - 請求項3に記載の欠陥観察装置において、
前記欠陥像の判定情報は、
前記第一撮像部による撮像画像における前記欠陥像の大きさの判定情報を含むことを特徴とする欠陥観察装置。 - 請求項3に記載の欠陥観察装置において、
前記制御部は、
前記欠陥像の判定情報に基づいて選択された前記欠陥の検出結果を基に前記座標補正式を算出することを特徴とする欠陥観察装置。 - 請求項1に記載の欠陥観察装置において、
前記第一撮像部による画像取得により得られた情報は、
前記第一撮像部の撮像手段の情報と、
前記第一撮像部による撮像画像から得られた画像特徴量と、
前記撮像手段の情報と前記画像特徴量に基づいて判定された欠陥像の判定情報と、
を含むことを特徴とする欠陥観察装置。 - 請求項9に記載の欠陥観察装置において、
前記欠陥像の判定情報は、
前記第一撮像部による撮像画像における前記欠陥像の領域が前記撮像画像の縁にあるか否かの判定情報を含むことを特徴とする欠陥観察装置。 - 請求項9に記載の欠陥観察装置において、
前記欠陥像の判定情報は、
前記第一撮像部による撮像画像における前記欠陥像が線状か否かの判定情報を含むことを特徴とする欠陥観察装置。 - 請求項9に記載の欠陥観察装置において、
前記欠陥像の判定情報は、
前記第一撮像部による撮像画像における前記欠陥像が複数存在するか否かの判定情報を含むことを特徴とする欠陥観察装置。 - 請求項9に記載の欠陥観察装置において、
前記欠陥像の判定情報は、
前記第一撮像部による撮像画像における前記欠陥像の大きさの判定情報を含むことを特徴とする欠陥観察装置。 - 請求項9に記載の欠陥観察装置において、
前記制御部は、
前記欠陥像の判定情報に基づいて選択された前記欠陥の検出結果を基に前記座標補正式を算出することを特徴とする欠陥観察装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018013472A JP2019132637A (ja) | 2018-01-30 | 2018-01-30 | 欠陥観察装置 |
KR1020180150441A KR102095264B1 (ko) | 2018-01-30 | 2018-11-29 | 결함 관찰 장치 |
US16/260,988 US10770260B2 (en) | 2018-01-30 | 2019-01-29 | Defect observation device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018013472A JP2019132637A (ja) | 2018-01-30 | 2018-01-30 | 欠陥観察装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019132637A true JP2019132637A (ja) | 2019-08-08 |
Family
ID=67393644
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018013472A Pending JP2019132637A (ja) | 2018-01-30 | 2018-01-30 | 欠陥観察装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10770260B2 (ja) |
JP (1) | JP2019132637A (ja) |
KR (1) | KR102095264B1 (ja) |
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- 2018-01-30 JP JP2018013472A patent/JP2019132637A/ja active Pending
- 2018-11-29 KR KR1020180150441A patent/KR102095264B1/ko active IP Right Grant
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR102095264B1 (ko) | 2020-04-01 |
KR20190092244A (ko) | 2019-08-07 |
US20190237296A1 (en) | 2019-08-01 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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