JP2018516956A - Uv遮蔽剤、アニオン性架橋親水性ポリマー、5以下のhlbを有する界面活性剤およびシリコーンコポリマーを含む組成物 - Google Patents
Uv遮蔽剤、アニオン性架橋親水性ポリマー、5以下のhlbを有する界面活性剤およびシリコーンコポリマーを含む組成物 Download PDFInfo
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Abstract
Description
a)連続水相中に分散された油相と、
b)1つまたは複数のUV遮蔽剤と、
c)1つまたは複数のアニオン性架橋親水性ポリマーと、
d)5以下のHLBを有する1つまたは複数の界面活性剤と、
e)カルボン酸とC6〜C30脂肪鎖を含むアルコールとのエステルのタイプの少なくとも1つのモノマーと、ポリアルキルシロキサン鎖を含有する少なくとも1つのモノマーとの共重合から得られる1つまたは複数のシリコーンコポリマーと
を含む、水中油型エマルジョンの形態の組成物である。
本発明に係る組成物は、1つまたは複数のUV遮蔽剤を含む。
− Zが、全体的に結合されたアセンブリを形成するように角括弧の内部に画定された少なくとも2つのベンザゾリル基の二重結合の系をそれが完成させるように配置された1つまたは複数の二重結合を含む原子価(l+n)の有機残基を表し;
− X’が、S、OまたはNR6を示し;
− R1が、水素原子、C1〜C18アルキル、C1〜C4アルコキシ、C5〜C15アリール、C2〜C18アシルオキシ、またはSO3YもしくはCOOY基を示し;
− 同じかまたは異なり得るR2、R3、R4およびR5基が、ニトロ基またはR1基を示し;
− R6が、水素原子、C1〜C4アルキルまたはC1〜C4ヒドロキシアルキルを示し;
− Yが、水素、Li、Na、K、NH4、1/2Ca、1/2Mg、1/3Alまたは有機窒素含有塩基による遊離酸基の中和から得られるカチオンを示し;
− mが、0または1であり;
− nが、2〜6の数であり;
− lが、1〜4の数であり;
− ただし、1+nが、値6を超えない)
に対応する。
(a)特に、以下の基:
(b)特に、以下の基:
(c)特に、以下の基:
から構成される群から選択されるものが好ましい。
− 特に、Uvinul MS40(登録商標)の名称でBASF社によって販売されるベンゾフェノン−4
− 特に、Uvinul DS49(登録商標)の名称でBASF社によって販売されるベンゾフェノン−9
− PABA、または特に、BASFによってUvinul P 25(登録商標)の名称で販売されるPEG−25 PABAなどのパラ−アミノ安息香酸化合物;
− 特に、ScherによってDipsal(登録商標)の名称で販売されるサリチル酸ジプロピレングリコール、および特に、SymriseによってNeo Heliopan TS(登録商標)の名称で販売されるサリチル酸TEAなどのサリチル酸化合物;
− 特に、ChimexによってMexoryl SL(登録商標)の名称で販売されるベンジリデンカンファースルホン酸、および特に、ChimexによってMexoryl SO(登録商標)の名称で販売されるカンファーベンザルコニウムメトサルフェートなどのベンジリデンカンファー化合物;
− 特に、Merckによって商標Eusolex 232(登録商標)で販売されるフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸などのフェニルベンゾイミダゾール化合物
が挙げられ得る。
− ブチルメトキシジベンゾイルメタンまたは特に、DSM Nutritional Products社によって商標Parsol 1789で販売されるアボベンゾンなどのジベンゾイルメタン誘導体;
− エチルPABA、エチルジヒドロキシプロピルPABAまたは特に、ISPによってEscalol 507の名称で販売されるエチルヘキシルジメチルPABAなどのパラ−アミノ安息香酸誘導体;
− 特に、Rona/EM IndustriesによってEusolex HMSの名称で販売されるホモサレート、特に、SymriseによってNeo Heliopan OSの名称で販売されるサリチル酸エチルヘキシルなどのサリチル酸誘導体;
− 特に、DSM Nutritional Productsによって商標Parsol MCXで販売されるメトキシケイ皮酸エチルヘキシル、メトキシケイ皮酸イソプロピル、特に、Symriseによって商標Neo Heliopan E 1000で販売されるメトキシケイ皮酸イソアミル、シノキセート、ジイソプロピルメチルシンナメートなどのケイ皮酸誘導体;
− 特に、BASFによって商標Uvinul N539で販売されるオクトクリレン、特に、BASFによって商標Uvinul N35で販売されるエトクリレンなどのβ,β−ジフェニルアクリレート誘導体;
− 特に、BASFによって商標Uvinul 400で販売されるベンゾフェノン−1、特に、BASFによって商標Uvinul D50で販売されるベンゾフェノン−2、ベンゾフェノン−3または特に、BASFによって商標Uvinul M40で販売されるオキシベンゾン、特に、Norquayによって商標Helisorb 11で販売されるベンゾフェノン−6、特に、American Cyanamidによって商標Spectra−Sorb UV−24で販売されるベンゾフェノン−8、ベンゾフェノン−12、特に、商標Uvinul A+(Uvinul A+Granularなど)で、または特に、BASFによって商標Uvinul A+Bでメトキシケイ皮酸オクチルとの混合物の形態で販売される、n−ヘキシル2−(4−ジエチルアミノ−2−ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエートなどのベンゾフェノン誘導体;
− 特に、ChimexによってMexoryl SDの名称で販売される3−ベンジリデンカンファー、特に、MerckによってEusolex 6300の名称で販売される4−メチルベンジリデンカンファー、特に、ChimexによってMexoryl SWの名称で販売されるポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファーなどのベンジリデンカンファー誘導体;
− 特に、Rhodia ChimieによってSilatrizoleの名称で販売されるドロメトリゾールトリシロキサンなどのフェニルベンゾトリアゾール誘導体;
− 特に、BASFによって商標Tinosorb Sで販売されるビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、特に、BASFによって商標Uvinul T150で販売されるエチルヘキシルトリアゾン、特に、Sigma 3Vによって商標Uvasorb HEBで販売されるジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、欧州特許第0841341号明細書に記載されるように2つのアミノベンゾエート基で置換されるシリコーントリアジン、特に、2,4−ビス−(n−ブチル4’−アミノベンザルマロネート)−6−[(3−{1,3,3,3−テトラメチル−1−[(トリメチルシリルオキシ]ジシロキサニル}プロピル)アミノ]−s−トリアジンなどのトリアジン誘導体;
− 特に、Symriseによって商標Neo Heliopan MAで販売されるアントラニル酸メチルなどのアントラニル酸誘導体;
− エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネートなどのイミダゾリン誘導体;
− ジネオペンチル4’−メトキシベンザルマロネート、ベンザルマロネート官能基を含有するポリオルガノシロキサン、例えば、特に、DSMによって商標Parsol SLXで販売されるPolysilicone−15などのベンザルマロネート誘導体;
− 1,1−ジカルボキシ(2,2’−ジメチルプロピル)−4,4−ジフェニルブタジエンなどの4,4−ジアリールブタジエン誘導体;
− 特に、Sigma 3VによってUvasorb K2Aの名称で販売される2,4−ビス[5−(1−ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール−2−イル−(4−フェニル)イミノ]−6−(2−エチルヘキシル)イミノ−1,3,5−トリアジンなどのベンゾオキサゾール誘導体;
− オクチル−5−N,N−ジエチルアミノ−2−フェニルスルホニル−2,4−ペンタジエノエートなどの親油性メロシアニン誘導体。
− 2,4,6−トリス(ジエチル4’−アミノベンザルマロネート)−s−トリアジン、
− 2,4,6−トリス(ジイソプロピル4’−アミノベンザルマロネート)−s−トリアジン、
− 2,4,6−トリス(ジメチル4’−アミノベンザルマロネート)−s−トリアジン、
− 2,4,6−トリス(エチルα−シアノ−4−アミノシンナメート)−s−トリアジン
が挙げられる。
− 2,4,6−トリス[(3’−ベンゾトリアゾール−2−イル−2’−ヒドロキシ−5’−メチル)フェニルアミノ]−s−トリアジン、
− 2,4,6−トリス[(3’−ベンゾトリアゾール−2−イル−2’−ヒドロキシ−5’−ter−オクチル)フェニルアミノ]−s−トリアジン
が挙げられ得る。
T12−(Y)r−C(=O)−C(T13)=C(T14)−N(T15)(T16)(VII)
(式中、T12が、C1〜C18、好ましくは、C1〜C5アルキル基またはフェニル基であって、OH、C1〜C18アルキル、C1〜C8アルコキシ、または−C(=O)−OT17基から選択される1つ、2つまたは3つの基で任意選択的に置換されるフェニル基であり、ここで、T17が、C1〜C18アルキルであり;同じかまたは異なり得るT13、T14、T15およびT16が、C1〜C18、好ましくは、C1〜C5アルキル基または水素原子を示し;Yが、NまたはOであり、rが、0または1である)で表される化合物が挙げられ得る。
− 記号Xのそれぞれが、独立して、酸素または硫黄原子またはNR2基を表し、記号Zのそれぞれが、独立して、窒素原子またはCH基を表し、
− 記号R1のそれぞれが、独立して、OH基、ハロゲン原子、任意選択的にケイ素原子を含有する直鎖状または分枝鎖状C1〜C8アルキル基、または直鎖状または分枝鎖状C1〜C8アルコキシ基を表し、
− 数字mのそれぞれが、独立して、0、1または2であり、
− nが、1〜4の範囲の整数を表し、
− pが、0または1に等しく、
− 数字qのそれぞれが、独立して、0または1に等しく、
− 記号R2のそれぞれが、独立して、水素原子、またはベンジルまたは任意選択的にケイ素原子を含有する直鎖状または分枝鎖状C1〜C8アルキル基を表し、
− Aが、式:
または2,6−ジスチリル−1,7−ジヒドロベンゾ[1,2−d;4,5−d’]ジイミダゾールあるいは2,6−ジ(p−tert−ブチルスチリル)−1,7−ジヒドロベンゾ[1,2−d;4,5−d’]ジイミダゾールが挙げられ得、これらは、出願欧州特許第0 669 323号明細書にしたがって調製され得る。
− n’=1または2であり、
− Bが、n’=1である場合式(XII)中または式(XIII)中、以下の式(a’)〜(d’)から選択されるアリール基であり、または、n’=2である場合式(XII)中、以下の式(e’)〜(h’):
− p’が、0〜4の範囲の整数を表し、
− q’が、0または1を表し、
− R5が、水素またはOH基を表し、
− R6が、水素、任意選択的にケイ素原子を含有する直鎖状または分枝鎖状C1〜C6アルキル基、シアノ基、C1〜C6アルキルスルホニル基、またはフェニルスルホニル基を表し、
− R7が、任意選択的にケイ素原子を含有する直鎖状または分枝鎖状C1〜C6アルキル基、または二環を形成することができ、かつ1つまたは2つのR4基で任意選択的に置換されるフェニル基を表し、
− またはn’=1である場合、R6およびR7がカンファー核を形成しないという条件で、R6およびR7が一緒に、1つまたは複数の窒素、硫黄および酸素原子が任意選択的に介在し、おそらく別のカルボニルを含有し、任意選択的にケイ素原子またはアミノ酸官能基を含有する直鎖状または分枝鎖状C1〜C8アルキルスルホンアミド基で任意選択的に置換される単環式、二環式または三環式C2〜C10炭化水素ベースの残基を形成する。
− 1−(3,4−ジメトキシフェニル)−4,4−ジメチル−ペンタ−1−エン−3−オンなどの、出願特開平4−134 042号公報に記載されるスチリルケトンタイプの化合物:
− 文献欧州特許第0 693 471号明細書に記載されるフェニレンビスメチリデン−ノル−カンファータイプの化合物、例えば1,4−フェニレン−ビス−{3−メチリデンビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2−オン}:
− 2,5−ジベンジリデンシクロペンタノンなどのビスベンジリデンシクロアルカノンタイプの化合物:
− 記号R9のそれぞれが、独立して、OH基、ハロゲン原子、任意選択的にケイ素原子を含有する直鎖状または分枝鎖状C1〜C6アルキル基、任意選択的にケイ素原子を含有する直鎖状または分枝鎖状C1〜C6アルコキシ基、直鎖状または分枝鎖状C1〜C5アルコキシカルボニル基、または任意選択的にケイ素原子もしくはアミノ酸官能基を含有する直鎖状または分枝鎖状C1〜C6アルキルスルホンアミド基を表し、
− p’’が、0〜4の範囲の整数を表し、
− q’’が、0または1を表す。
− 特に、Cytec社によって商標Cyasorb UV−3638(登録商標)で販売される2,2’−p−フェニレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、
− 2,2’−(4,4’−ビフェニレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、
− 2,2’−(2,6−ナフチレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)
が挙げられ得る。
− R10が、直鎖状または分枝鎖状C1〜C8アルキル基を表し、
− n’’’が、0、1または2であり、
− X2が、式−(C=O)−R11−(C=O)−、−SO2−R11−SO2−または−(C=O)−O−R11−O−(C=O)−の二価基を表し、
− Yが、−(C=O)−R12または−SO2R13基を表し、
− R11が、単結合、または1つまたは複数のヒドロキシル置換基を有し得、炭素ベースの鎖中に、酸素、窒素およびケイ素原子から選択される1つまたは複数のヘテロ原子を含有し得る、直鎖状または分枝鎖状C1〜C30アルキレンまたはC3〜C30アルケニレン二価基を表し、
− R12が、−OR14または−NHR14基を表し、
− R13が、直鎖状または分枝鎖状C1〜C30アルキル基、または非置換であるか、またはC1〜C4アルキルまたはアルコキシ基で置換されるフェニル核を表し、
− R14が、1つまたは複数のヒドロキシル置換基を有し得、炭素ベースの鎖中に、酸素、窒素およびケイ素原子から選択される1つまたは複数のヘテロ原子を含有し得る、直鎖状または分枝鎖状C1〜C30アルキルまたはC3〜C30アルケニル基を表す。
(i)米国特許第6 225 467号明細書、特許出願国際公開第2004/085 412号パンフレット(化合物6および9を参照)または文献“Symmetrical Triazine Derivatives”,IP.COM IPCOM000031257 Journal,INC West Henrietta,NY,US(20 September 2004)に記載される、ナフタレニル基またはポリフェニル基で置換される対称トリアジン遮蔽剤、特に、2,4,6−トリス(ジフェニル)トリアジンおよび2,4,6−トリス(テルフェニル)トリアジン(これはまた、特許出願国際公開第06/035 000号パンフレット、国際公開第06/034 982号パンフレット、国際公開第06/034 991号パンフレット、国際公開第06/035 007号パンフレット、国際公開第2006/034 992号パンフレットおよび国際公開第2006/034 985号パンフレットにおいて言及されている)、これらの化合物は、有利には、例えば、特許出願英国特許出願公開第A−2 303 549号明細書および欧州特許出願公開第A−893 119号明細書に記載される微粉化方法にしたがって得られる微粉化形態(0.02〜3μmの平均粒径)、および特に、水性分散液形態で使用され;
(ii)以下の式(XVI):
iii)およびそれらの混合物
から選択される不溶性有機UV遮蔽剤が使用される。
− 以下の商標で販売される製品などのカプリン酸デカグリセリル:太陽化学株式会社(Taiyo Kagaku Co.Ltd.)によるSunsoft Q10Y(登録商標)、Sunsoft Q10S(登録商標)、Sunsoft Q12Y(登録商標)、Sunsoft Q12S(登録商標)、Sunsoft M12J(登録商標)、日光ケミカルズ株式会社(Nikko Chemicals Co.Ltd)によるNikkol Decaglyn 1−L、三菱化学株式会社(Mitsubishi−Kagaku Co.Ltd.)によるRyoto−Polyglycerylester L−10D(登録商標)およびL−7D(登録商標)、
− 以下の商標で販売される製品などのラウリン酸デカグリセリル:太陽化学株式会社(Taiyo Kagaku Co.Ltd.)によるSunsoft Q14Y(登録商標)、Sunsoft Q14S(登録商標)、Sunsoft Q12Y(登録商標)、Sunsoft Q12S(登録商標)、Sunsoft M12J(登録商標)、日光ケミカルズ株式会社(Nikko Chemicals Co.Ltd)によるNikkol Decaglyn 1−M(登録商標)、三菱化学株式会社(Mitsubishi−Kagaku Co.Ltd.)によるRyoto−Polyglycerylester M−10DおよびM−7D、
− 以下の商標で販売される製品などのステアリン酸デカグリセリル:太陽化学株式会社(Taiyo Kagaku Co.Ltd.)によるSunsoft Q18Y(登録商標)、Sunsoft Q18S(登録商標)、Sunsoft Q12Y(登録商標)、Sunsoft Q12S(登録商標)、Sunsoft M12J(登録商標)、日光ケミカルズ株式会社(Nikko Chemicals Co.Ltd)によるNikkol Decaglyn 1−SV、三菱化学株式会社(Mitsubishi−Kagaku Co.Ltd.)によるRyoto−Polyglycerylester S−15D(登録商標)、
− 以下の商標で販売される製品などのカプリン酸ヘキサグリセリル:日光ケミカルズ株式会社(Nikko Chemicals Co.Ltd)によるNikkol Hexaglyn 1−L(登録商標)、青木油脂工業株式会社(Aoki Oil Industrial Co.Ltd.)によるGlysurf 6ML、日油株式会社(Nippon Oil & Fats Co.Ltd.)によるUnigly GL−106(登録商標)、
− 以下の商標で販売される製品などのミリスチン酸ヘキサグリセリル:日光ケミカルズ株式会社(Nikko Chemicals Co.Ltd)によるNikkol Hexaglyn 1−M(登録商標)、Nikkol Hexaglyn 1−OV(登録商標)、青木油脂工業株式会社(Aoki Oil Industrial Co.Ltd.)によるGlysurf 6ML(登録商標)、日油株式会社(Nippon Oil & Fats Co.Ltd.)によるUnigly GL−106、
− 以下の商標で販売される製品などのステアリン酸ヘキサグリセリル:日光ケミカルズ株式会社(Nikko Chemicals Co.Ltd)によるNikkol Hexaglyn 1−M(登録商標)、Nikkol Hexaglyn 1−SV(登録商標)、日本エマルジョン株式会社(Nihon−Emulsion Co.Ltd.)によるEmalexMSG−6K(登録商標)、日油株式会社(Nippon Oil & Fats Co.Ltd.)によるUnigly GL−106、
− 以下の商標で販売される製品などのイソステアリン酸ヘキサグリセリル:マツモトファインケミカル株式会社(Matsumoto Fine Chemical Co.Ltd)によるMatsumate MI−610(登録商標)、
− 以下の商標で販売される製品などのカプリン酸ペンタグリセリル:太陽化学株式会社(Taiyo Kagaku Co.Ltd.)によるSunsoft A10E(登録商標)、
− 以下の商標で販売される製品などのラウリン酸ペンタグリセリル:太陽化学株式会社(Taiyo Kagaku Co.Ltd.)によるSunsoft A12E(登録商標)、Sunsoft A121E(登録商標)、
− 以下の商標で販売される製品などのミリスチン酸ペンタグリセリル:太陽化学株式会社(Taiyo Kagaku Co.Ltd.)によるSunsoft A14E(登録商標)、Sunsoft A141E(登録商標)、
− 以下の商標で販売される製品などのオレイン酸ペンタグリセリル:太陽化学株式会社(Taiyo Kagaku Co.Ltd.)によるSunsoft A17E(登録商標)、Sunsoft A171E(登録商標)、
− 以下の商標で販売される製品などのステアリン酸ペンタグリセリル:太陽化学株式会社(Taiyo Kagaku Co.Ltd.)によるSunsoft A18E(登録商標)、Sunsoft A181E(登録商標)
が使用される。
− Ikeda社製の製品Sunveilなどのシリカで;
− Ikeda社製の製品Sunveil Fなどの、シリカおよび酸化鉄で;
− Tayca社製の製品Microtitanium Dioxide MT 500 SAおよびMicrotitanium Dioxide MT 100 SAおよびTioxide社製のTioveilなどの、シリカおよびアルミナで;
− Ishihara社製の製品Tipaque TTO−55(B)およびTipaque TTO−55(A)およびSachtleben Pigments社製のUVT 14/4などのアルミナで;
− Tayca製の製品Microtitanium Dioxide MT 100 T、MT 100 TX、MT 100 ZおよびMT−01、Uniqema製の製品Solaveil CT−10 WおよびSolaveil CT 100およびMerck製の製品Eusolex T−AVOなどの、アルミナおよびステアリン酸アルミニウムで;
− Tayca社製の製品MT−100 AQなどの、シリカ、アルミナおよびアルギン酸で;
− Tayca製の製品Microtitanium Dioxide MT 100 Sなどの、アルミナおよびラウリン酸アルミニウムで;
− Tayca社製の製品Microtitanium Dioxide MT 100 Fなどの、酸化鉄およびステアリン酸鉄で;
− Tayca製の製品BR 351などの、酸化亜鉛およびステアリン酸亜鉛で;
− Tayca社製の製品Microtitanium Dioxide MT 600 SAS、Microtitanium Dioxide MT 500 SASまたはMicrotitanium Dioxide MT 100 SASなどの、シリコーンで処理されたシリカおよびアルミナで;
− Titan Kogyo製の製品STT−30−DSなどの、シリコーンで処理されたシリカ、アルミナおよびステアリン酸アルミニウムで;
− Sachtleben Pigments社製の製品UV−Titan X 195などの、シリコーンで処理されたシリカで;
− Ishihara社製の製品Tipaque TTO−55(S)またはSachtleben Pigments社製の製品UV Titan M 262などの、シリコーンで処理されたアルミナで;
− Titan Kogyo製の製品STT−65−Sなどのトリエタノールアミンで;
− Ishihara製の製品Tipaque TTO−55(C)などのステアリン酸で;
− Tayca社製の製品Microtitanium Dioxide MT 150Wなどのヘキサメタリン酸ナトリウムで;
− 特に、Degussa Silices社によって商標T 805で販売される、オクチルトリメチルシランで処理されたTiO2;
− 特に、Cardre社によって商標70250 Cardre UF TiO2SI3で販売される、ポリジメチルシロキサンで処理されたTiO2;
− 特に、Color Techniques社によって商標Microtitanium Dioxide USP Grade Hydrophobicで販売される、ポリジメチルヒドロゲノシロキサン(polydimethylhydrogenosiloxane)で処理されたアナターゼ/ルチルTiO2。
− 特に、SunsmartによってZ−Coteの名称で販売されるもの;
− 特に、Elementis社によってNanoxの名称で販売されるもの;
− 特に、Nanophase TechnologiesによってNanogard WCD 2025の名称で販売されるものである。
− 特に、ToshibiによってZinc Oxide CS−5の名称で販売されるもの(ポリメチルヒドロシロキサンで被覆されたZnO);
− 特に、Nanophase Technologies社によってNanogard Zinc Oxide FNの名称で販売されるもの(Finsolv TN、安息香酸C12〜C15アルキル中の40%の分散体として);
− 特に、Daito社によってDaitopersion Zn−30およびDaitopersion Zn−50の名称で販売されるもの(30%または50%の、シリカおよびポリメチルヒドロシロキサンで被覆された酸化亜鉛を含有するシクロポリメチルシロキサン/オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン中の分散体);
− 特に、DaikinによってNFD Ultrafine ZnOの名称で販売されるもの(シクロペンタシロキサン中の分散体としてパーフルオロアルキルホスフェートおよびパーフルオロアルキルエチルベースのコポリマーで被覆されたZnO);
− 特に、Shin−EtsuによってSPD−Z1の名称で販売されるもの(シクロジメチルシロキサン中に分散された、シリコーングラフト化アクリルポリマーで被覆されたZnO);
− 特に、ISP社によってEscalol Z100の名称で販売されるもの(メトキシケイ皮酸エチルヘキシル/PVP−ヘキサデセンコポリマー/メチコーン(methicone)混合物中に分散されたアルミナで処理されたZnO);
− 特に、Fuji PigmentによってFuji ZnO−SMS−10の名称で販売されるもの(シリカおよびポリメチルシルセスキオキサンで被覆されたZnO);
− 特に、Elementis社によってNanox Gel TNの名称で販売されるもの(ヒドロキシステアリン酸重縮合物とともに安息香酸C12〜C15アルキル中に55%の濃度で分散されたZnO)
である。
本発明に係る組成物は、1つまたは複数のアニオン性架橋親水性ポリマーも含む。
− AMPS(登録商標)モノマーおよび上に定義されるものなどの1つまたは複数の架橋剤のみを含む「ホモポリマー」;
− または1つまたは複数のAMPS(登録商標)モノマーから、1つまたは複数の親水性または疎水性のエチレン性不飽和モノマーから、および上に定義されるものなどの1つまたは複数の架橋剤から得られるコポリマーである。疎水性エチレン性不飽和モノマーは、脂肪鎖を含まず、好ましくは、少量で存在する。
− (メタ)アクリル酸、
− スチレンスルホン酸、
− ビニルスルホン酸および(メタ)アリルスルホン酸、
− ビニルホスホン酸、
− マレイン酸、
− イタコン酸、
− クロトン酸、
− 以下の式(A):
− R1が、H、−CH3、−C2H5および−C3H7から選択され、
− X1が、タイプ−OR2のアルキルオキシドから選択され、ここで、R2が、少なくとも1つのスルホン酸基(−SO3−)および/または硫酸基(−SO4−)および/またはリン酸基(−PO4H2−)で置換される、1〜6個の炭素原子を含有する直鎖状または分枝鎖状、飽和または不飽和炭化水素ベースの基である)の水溶性ビニルモノマー。
− (メタ)アクリルアミド、
− N−ビニルアセトアミドおよびN−メチル−N−ビニルアセトアミド、
− N−ビニルホルムアミドおよびN−メチル−N−ビニルホルムアミド、
− 無水マレイン酸、
− ビニルアミン、
− N−ビニルピロリドン、N−ブチロラクタムおよびN−ビニルカプロラクタムなどの、4〜9個の炭素原子を含有する環状アルキル基を含むN−ビニルラクタム、
− 式CH2=CHOHのビニルアルコール、
− 以下の式(B):
− R3が、H、−CH3、−C2H5および−C3H7から選択され、
− X2が、タイプ−OR4のアルキルオキシドから選択され、ここで、R4が、ハロゲン(ヨウ素、臭素、塩素またはフッ素)原子で任意選択的に置換される、1〜6個の炭素原子を含有する直鎖状または分枝鎖状、飽和または不飽和炭化水素ベースの基;ヒドロキシル(−OH)基;エーテルである)の水溶性ビニルモノマー。
− 4−ブチルスチレン、α−メチルスチレンおよびビニルトルエンなどの、スチレンおよびその誘導体;
− 式CH2=CH−OCOCH3の酢酸ビニル;
− 式CH2=CHOR(ここで、Rが、1〜6個の炭素を含有する直鎖状または分枝鎖状、飽和または不飽和炭化水素ベースの基である)のビニルエーテル;
− アクリロニトリル;
− カプロラクトン;
− 塩化ビニルおよび塩化ビニリデン;
− 重合後、メタクリルオキシプロピルトリス(トリメチルシロキシ)シランおよびシリコーンメタクリルアミドなどのシリコーンポリマーを生じるシリコーン誘導体;
− 以下の式(C):
R4が、H、−CH3、−C2H5および−C3H7から選択され;
X3が、タイプ−OR5のアルキルオキシドから選択され、ここで、R5が、1〜6個の炭素原子を含有する直鎖状または分枝鎖状、飽和または不飽和炭化水素ベースの基である)の疎水性ビニルモノマーが挙げられ得る。
− 商品Simulgel 800(CTFA名:ポリアクリロイルジメチルタウリン酸ナトリウム)に使用されるものなどの架橋ナトリウムアクリルアミド−2−メチルプロパンスルホネートポリマー、欧州特許第0 815 928 B1号明細書に記載されるものなどおよびClariant社によって商標Hostacerin AMPS(登録商標)で販売される製品などの架橋アンモニウムアクリルアミド−2−メチルプロパンスルホネートポリマー(INCI名:アンモニウムポリジメチルタウリン酸アミド(tauramide))、
− 商品Sepigel 305(INCI名:ポリアクリルアミド/C13〜C14イソパラフィン/ラウレス−7)に使用されるもの、またはSEPPIC社によってSimulgel 600の名称で販売される商品(INCI名:アクリルアミド/アクリロイルジメチルタウリン酸ナトリウム/イソヘキサデカン/ポリソルベート−80)に使用されるものなどの架橋アクリルアミド/ナトリウムアクリルアミド−2−メチルプロパンスルホネートコポリマー;
− 水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムで中和される以外は、Clariant社によってAristoflex AVC(登録商標)の名称で販売される商品(CTFA名:アクリロイルジメチルタウリン酸アンモニウム/VPコポリマー)に使用されるものなどの、AMPS(登録商標)とビニルピロリドンまたはビニルホルムアミドとのコポリマー;
− AMPS(登録商標)とナトリウムアクリレートとのコポリマー、例えば、SEPPIC社によってSimulgel EG(登録商標)の名称または商標Sepinov EMで販売される商品(CTFA名:ヒドロキシエチルアクリレート/アクリロイルジメチルタウリン酸ナトリウムコポリマー)に使用されるものなどの、AMPS/ナトリウムアクリレートコポリマー;
− AMPS(登録商標)とヒドロキシエチルアクリレートとのコポリマー、例えば、SEPPIC社によってSimulgel NS(登録商標)の名称で販売される商品(CTFA名:ヒドロキシエチルアクリレート/アクリロイルジメチルタウリン酸ナトリウムコポリマー(および)スクアラン(および)ポリソルベート60)に使用されるものなど、またはナトリウムアクリルアミド−2−メチルプロパンスルホネート/ヒドロキシエチルアクリレートコポリマーの名称で販売される製品など、商品Sepinov EMT 10(INCI名:ヒドロキシエチルアクリレート/アクリロイルジメチルタウリン酸ナトリウムコポリマー)などの、AMPS(登録商標)/ヒドロキシエチルアクリレートコポリマーが挙げられ得る。
− 以下の式(1):
本発明に係る組成物は、5以下のHLBを有する1つまたは複数の界面活性剤も含む。
本発明に係る組成物は、カルボン酸とC6〜C30脂肪鎖を含むアルコールとのエステルのタイプの少なくとも1つのモノマーと、ポリアルキルシロキサン鎖を含有する少なくとも1つのモノマーとの共重合から得られる1つまたは複数のシリコーンコポリマーも含む。
R1が、水素原子またはメチルを表し、
R2が、直鎖状または分枝鎖状、飽和または不飽和C6〜C30、好ましくは、C7〜C24アルキル鎖を表す)の化合物およびそれらの混合物から選択される。
R3が、水素原子またはメチルを表し、
同じかまたは異なり得るR4、R5、R6、R7およびR8が、互いに独立して、直鎖状または分枝鎖状、飽和または不飽和C1〜C30アルキル鎖を表し、
nおよびmが、互いに独立して、1以上の整数を表す)のシリコーン基でエステル化された(メタ)アクリル酸タイプのモノマーから選択される。
本発明に係る組成物は、任意選択的に、1つまたは複数の効率ブースター(efficiency booster)も含み得る。
本発明に係る組成物は、任意選択的に、UV遮蔽特性または効率ブースター特性を有さない1つまたは複数の不溶性粒子も含み得る。
本発明に係る組成物は、任意選択的に、1つまたは複数の添加剤も含んでもよく、これは、本発明の化合物と異なり、通常、化粧品、特に、日焼け止め製品、ケア製品およびメイクアップ製品の分野に使用される。
本発明に係る組成物は、連続水相中に分散された油滴を含有する水中油型エマルジョン(直接エマルジョンとしても知られている、またはO/Wエマルジョンと略記される)の形態である。
− 例えば、ラウリン酸、パルミチン酸、オレイン酸およびステアリン酸などの、8〜30個の炭素原子を含む脂肪酸から選択される脂肪酸;
− ラノリン、蜜ろう、カルナウバまたはカンデリラろう、パラフィンワックス、亜炭ワックス、微結晶ワックス、セレシンもしくはオゾケライトなどのワックス、またはポリエチレンワックスもしくはフィッシャー・トロプシュワックスなどの合成ワックスから選択されるワックス;
− シリコーンガム(ジメチコノール)から選択されるガム;
− ポリマーまたは非ポリマーシリコーン化合物、グリセロールオリゴマーのエステル、プロピオン酸アラキジル、脂肪酸トリグリセリドおよびその誘導体などのペースト状化合物;
− およびそれらの混合物であり得る。
1)組成物の調製
以下の本発明に係る組成物(A1)、ならびに比較例の組成物(B1)、(B2)および(B3)を、含量が以下の表に示される成分から調製した。
上記の組成物のそれぞれについて、65℃で機械的撹拌しながら、以下の成分:フェノキシエタノール、EDTA二ナトリウム、スチレン/アクリレートコポリマー、プロパンジオールおよび水を混合することによって、水相を調製する。
日焼け止めのレベルは、B.L.Diffey,J.Soc.Cosmet.Chem.40,127−133,(1989)によって記載される「インビトロ」方法にしたがって決定される日焼け止め指数(SPF)によって定義される。
上で得られた組成物のそれぞれを、皮膚代替物である基材に適用した。
結果が、以下の表に示される。
1)組成物の調製
以下の組成物(A1)、(A2)および(A3)を、含量が以下の表に示される成分から、本発明にしたがって調製した。
組成物(A1)、(A2)および(A3)を、上述されるものと同じプロトコルにしたがって調製した。
結果が、以下の表に示される。
Claims (19)
- a)連続水相中に分散された油相と、
b)1つまたは複数のUV遮蔽剤と、
c)1つまたは複数のアニオン性架橋親水性ポリマーと、
d)5以下のHLBを有する1つまたは複数の界面活性剤と、
e)カルボン酸とC6〜C30脂肪鎖を含むアルコールとのエステルのタイプの少なくとも1つのモノマーと、ポリアルキルシロキサン鎖を含有する少なくとも1つのモノマーとの共重合から得られる1つまたは複数のシリコーンコポリマーと
を含む、水中油型エマルジョンの形態の組成物。 - 前記UV遮蔽剤が、水溶性有機UV遮蔽剤、脂溶性有機UV遮蔽剤、不溶性有機UV遮蔽剤、無機UV遮蔽剤、およびそれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項1に記載の組成物。
- 前記UV遮蔽剤が、脂溶性有機UV遮蔽剤から選択され、好ましくは、ジベンゾイルメタン化合物、サリチル酸化合物、β,β−ジフェニルアクリレート化合物、ベンゾフェノン化合物、フェニルベンゾトリアゾール化合物、トリアジン化合物およびそれらの混合物から、より優先的に、ホモサレート、サリチル酸エチルヘキシル、ドロメトリゾールトリシロキサン、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、オクトクリレン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、エチルヘキシルトリアゾン、n−ヘキシル2−(4−ジエチルアミノ−2−ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾンおよびそれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項1または2に記載の組成物。
- 前記UV遮蔽剤の量が、前記組成物の総重量に対して、0.1重量%〜50重量%、好ましくは、10重量%〜50重量%、より優先的に、20重量%〜50重量%、さらに良好には、20重量%〜40重量%の範囲であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記アニオン性架橋親水性ポリマーが、架橋2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ホモポリマーおよびコポリマー、少なくとも1つのα,β−エチレン性不飽和カルボン酸モノマーのホモポリマーおよびコポリマー、およびそれらの混合物から、好ましくは、少なくとも1つのα,β−エチレン性不飽和カルボン酸モノマーを含むポリマーから、より優先的に、架橋(メタ)アクリル酸ホモポリマーから選択されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記アニオン性架橋親水性ポリマーの量が、前記組成物の総重量に対して、0.05重量%〜5重量%、好ましくは、0.08重量%〜2.5重量%、より優先的に、0.1重量%〜1.5重量%の範囲であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の組成物。
- 5以下のHLBを有する前記界面活性剤が、非イオン性であり、好ましくは、ポリ(エチレンオキシド)のアルキルおよびポリアルキルエステル;オキシアルキレン化脂肪族アルコール;ポリ(エチレンオキシド)のアルキルおよびポリアルキルエーテル;ソルビタンのポリオキシエチレン化または非ポリオキシエチレン化アルキルおよびポリアルキルエステル;ソルビタンの非ポリオキシエチレン化アルキルおよびポリアルキルエーテル;アルキル−およびポリアルキルグリコシドまたはポリグリコシド、特に、アルキル−およびポリアルキルグルコシドまたはポリグルコシド;スクロースのアルキルおよびポリアルキルエステル;グリセロールのポリオキシエチレン化または非ポリオキシエチレン化アルキルおよびポリアルキルエステル;グリセロールのポリオキシエチレン化または非ポリオキシエチレン化アルキルおよびポリアルキルエーテル;およびそれらの混合物から選択され、これらの化合物は、6〜30個の炭素原子、好ましくは、12〜30個の炭素原子、より優先的に、14〜24個の炭素原子を含む少なくとも1つの脂肪鎖を含むことを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の組成物。
- 5以下のHLBを有する前記界面活性剤が、ステアレス−2、ベヘネス−2、オレス−2、ジステアリン酸スクロース、モノオレイン酸グリセリル、ステアリン酸グリセリル、イソステアリン酸グリセリル、ジステアリン酸ジグリセリル、トリステアリン酸テトラグリセリル、デカステアリン酸デカグリセリル、モノステアリン酸ジグリセリル、トリステアリン酸ヘキサグリセリル、ペンタステアリン酸デカグリセリル、ソルビタンモノステアレート、ソルビタントリステアレート、ジエチレングリコールモノステアレート、グリセロールとパルミチン酸およびステアリン酸とのエステル、モノベヘン酸グリセリル、ジベヘン酸グリセリル、およびそれらの混合物;好ましくは、モノオレイン酸グリセリルから選択されることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の組成物。
- 5以下のHLBを有する前記界面活性剤の量が、前記組成物の総重量に対して、0.1重量%〜3重量%、好ましくは、0.2重量%〜2重量%、より優先的に、0.3重量%〜1重量%の範囲であることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の組成物。
- R2が、分枝鎖状、飽和または不飽和C7〜C24アルキル鎖を表すことを特徴とする、請求項10に記載の組成物。
- 前記シリコーンコポリマーが、1つまたは複数のさらなるモノマー、好ましくは、カルボン酸とC1〜C5のアルコールとのエステルである1つまたは複数のモノマーも含み、より優先的に、(メタ)アクリル酸とC1〜C4アルコールとのエステルおよびそれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記シリコーンコポリマーが、ポリジメチルシロキサン鎖を含有するステアリルメタクリレート/メチルメタクリレート/プロピルメタクリレートのコポリマー;ポリジメチルシロキサン鎖を含有するメチルメタクリレート/ブチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/プロピルメタクリレートのコポリマー;およびそれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項1〜13のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記シリコーンコポリマーの量が、前記組成物の総重量に対して、0.5重量%〜10重量%、好ましくは、1重量%〜8重量%、より優先的に、2重量%〜5重量%の範囲であることを特徴とする、請求項1〜14のいずれか一項に記載の組成物。
- シリコーンコポリマーの量と、アニオン性架橋親水性ポリマーの量との間の重量比が、5以下、好ましくは、4.5以下であり、より優先的に、1〜4.5の範囲であることを特徴とする、請求項1〜15のいずれか一項に記載の組成物。
- 1つまたは複数の効率ブースターも含み、好ましくは、スチレンとアクリレートとのコポリマーの粒子;ワックス;ゲル化親油性ポリマー;およびそれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項1〜16のいずれか一項に記載の組成物。
- 1つまたは複数の不溶性粒子も含むことを特徴とする、請求項1〜17のいずれか一項に記載の組成物。
- 紫外線に対して、皮膚、特に、人の皮膚を処置するための化粧方法であって、請求項1〜18のいずれか一項に記載の組成物を前記皮膚に適用する工程を含む方法。
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