JPH04290882A

JPH04290882A - γ−ピロン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及び化粧料

Info

Publication number: JPH04290882A
Application number: JP5493491A
Authority: JP
Inventors: Masakazu Yamaguchi; 真主山口; Koichi Aranaka; 新中　幸一; Akira Kawamata; 章川俣
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 1991-03-19
Filing date: 1991-03-19
Publication date: 1992-10-15

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】【０００１】【産業上の利用分野】本発明は、広い波長領域にわたり
優れた紫外線吸収作用を示す新規なγ−ピロン誘導体、
並びにこれを含有し、日焼け防止効果に優れた紫外線吸
収剤及び化粧料に関する。【０００２】【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】紫外線
は、皮膚にさまざまな変化をもたらすことが知られてい
る。皮膚科学的には作用波長を、４００〜３２０ｎｍの
長波長紫外線、３２０〜２９０ｎｍの中波長紫外線及び
２９０ｎｍ以下の短波長紫外線に分け、それぞれＵＶ−
Ａ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃと呼んでいる。太陽光線中の紫
外線はＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂであり、ＵＶ−Ｃはオゾン
層において吸収され地上にはほとんど達しない。【０００３】ＵＶ−Ｂはある一定以上の光量が皮膚に照
射されると紅斑や水泡を形成し、またメラニン形成を亢
進し、色素沈着を生じさせる等の変化を皮膚にもたらす
。近年の大気汚染に基づく上空のオゾン層の破壊は、こ
のＵＶ−Ｂの増加をもたらすため、重大な問題となって
いる。これに対し、ＵＶ−Ａは照射直後に皮膚を黒化さ
せる作用（即時黒化）を引き起こし、またそのエネルギ
ーは真皮にまで到達するため、血管壁や結合組織中の弾
性繊維に変化をもたらす。このようなＵＶ−Ａ及びＵＶ
−Ｂの両方の作用は皮膚の老化を促進し、しみ、しわ、
ソバカス等の発生原因になるとともに、長期的には皮膚
癌の原因になると考えられている。【０００４】このように、紫外線がヒトの皮膚に及ぼす
影響が明らかになるに伴い、ＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂを吸
収する化合物の開発が行われるようになってきている。このような紫外線吸収剤は、（１）ＵＶ−Ｂ又はＵＶ−
Ａの光を可能な限り完全に吸収すること、（２）光や熱
に対して安定であること、（３）皮膚に対する毒性、刺
激性、さらに他の有毒作用がないこと、（４）効果が持
続すること、（５）化粧料基剤との相溶性に優れている
こと、等の条件をすべて満足することが望ましいとされ
ている。【０００５】従来、ＵＶ−Ａ吸収剤としては、例えば、
ジベンゾイルメタン誘導体が、ＵＶ−Ｂ吸収剤としては
、例えば桂皮酸エステル、ベンゾフェノン、ｐ−アミノ
安息香酸、サリチル酸等の誘導体が用いられている。【０００６】しかしながら、これら従来の紫外線吸収剤
は、ＵＶ−Ａ又はＵＶ−Ｂのある特定の波長領域にのみ
吸収を有しているにすぎず、必ずしも上記条件を充分満
足するものではなかった。【０００７】従って、ＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂの吸収効果
に優れた化合物、並びに日焼け防止効果に優れた紫外線
吸収剤及び化粧料が望まれていた。【０００８】【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、後記一般式（１）で
表されるγ−ピロン誘導体が、広い波長領域にわたり優
れた紫外線吸収作用を示し、これを配合すれば優れた日
焼け防止効果を有する化粧料が得られることを見出し、
本発明を完成した。【０００９】すなわち、本発明は、次の一般式（１）【
００１０】【化３】【００１１】〔式中、Ｒは同一又は異なって、炭素数１
〜８のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、水酸
基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数２〜８のアル
ケニルオキシ基、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル
基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基、炭素数
２〜１０のアシル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン
原子を示し、また、２個のＲがα−メチレンジオキシ基
を形成してもよく、ｎ及びｍはそれぞれ０〜４の整数を
示し、ｎ＋ｍは１以上である〕で表されるγ−ピロン誘
導体を含有することを特徴とする紫外線吸収剤及び化粧
料を提供するものである。【００１２】【化４】【００１３】〔式中、Ｒは同一又は異なって、炭素数１
〜８のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、水酸
基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数２〜８のアル
ケニルオキシ基、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル
基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基、炭素数
２〜１０のアシル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン
原子を示し、また、２個のＲがα−メチレンジオキシ基
を形成してもよく、ｎ及びｍはそれぞれ０〜４の整数を
示し、ｎ＋ｍは１以上である（但し、ｎ＝１、ｍ＝０で
メチル基、メトキシ基又はニトロ基がベンゼン核上の４
位に結合している場合；ｎ＝１、ｍ＝１でメチル基、ト
リフルオロメチル基、メトキシ基もしくはｎ−ブトキシ
基がベンゼン核上の４位及び４′位に結合している場合
、又はニトロ基がベンゼン核上の３位及び３′位に結合
している場合；ｎ＝２、ｍ＝２で水酸基がベンゼン核上
の２位、４位、２′位及び４′位に結合している場合；
ｎ＝３、ｍ＝０でメトキシ基がベンゼン核上の２位、４
位及び５位に結合している場合；ｎ＝３、ｍ＝３で水酸
基がベンゼン核上の２位、４位、６位、２′位、４′位
及び６′位に結合している場合、又は水酸基がベンゼン
核上の２位、４位、２′位及び４′位に結合し、かつメ
チル基がベンゼン核上の６位及び６′位に結合している
場合、又は水酸基がベンゼン核上の２位、４位、２′位
及び４′位に結合し、かつアセチル基もしくはベンゾイ
ル基がベンゼン核上の５位及び５′位に結合している場
合を除く）〕で表されるγ−ピロン誘導体をも提供する
ものである。【００１４】本発明において、一般式（１）及び（１’
）中、Ｒで示される置換基が複数結合している場合は、
これらは同一でも異なっていてもよく、炭素数１〜８の
アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓ
ｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−メ
チルブチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ；炭素数６
〜１０のアリール基としては、例えばフェニル基、１−
ナフチル基、２−ナフチル基、トルイル基等が挙げられ
；炭素数１〜８のアルコキシ基としては、例えばメトキ
シ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポ
キシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉｓｏ−ブトキシ基、ｔ−ブ
トキシ基等が挙げられ；炭素数２〜８のアルケニルオキ
シ基としては、例えばアリルオキシ基、ブテニルオキシ
基、ペンテニルオキシ基、ヘキセニルオキシ基等が挙げ
られ；炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基としては
、例えばトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル
基、ヘプタフルオロプロピル基等が挙げられ；炭素数１
〜１０のアルコキシカルボニル基としては、例えばメト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシ
カルボニル基等が挙げられ；炭素数２〜１０のアシル基
としては、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリ
ル基、イソブチリル基、バレリル基、ベンゾイル基等が
挙げられ；ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素、
ヨウ素が挙げられる。また、２個のＲがα−メチレンジ
オキシ基を形成してもよい。これらＲのうち、特に炭素
数１〜５のアルキル基、炭素数６〜８のアリール基、水
酸基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜５のア
ルケニルオキシ基、炭素数１〜３のパーフルオロアルキ
ル基、炭素数１〜７のアルコキシカルボニル基、炭素数
２〜７のアシル基、ニトロ基、シアノ基又はフッ素原子
が好ましい。また、ｎ及びｍは０〜４の整数でｎ＋ｍは
１以上であるが、特に２又は３が好ましい。【００１５】本発明のγ−ピロン誘導体は、例えば公知
の方法〔Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ　Ｃｏｌ
ｌｅｃｔｉｖｅ　Ｖｏｌｕｍｎ　５，７１８　（１９７
３）〕に従い、次に示す方法により製造することができ
る。【００１６】【化５】【００１７】〔式中、Ｒ’　はメチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基又はｎ−ブチル基を示し、Ｒ、ｎ及びｍは
前記と同じ意味を有する〕すなわち、ベンゾイルアセト
ン誘導体（２）と安息香酸誘導体（３）とを非プロトン
性溶媒中、触媒として塩基を用い、２０〜１５０℃で数
十分〜十数時間縮合させて得られるペンタントリオン誘
導体（４）を、無溶媒又はアルコール、非プロトン性溶
媒中、強酸を作用させて脱水環化することにより本発明
のγ−ピロン誘導体（１）を製造することができる。【００１８】ここで用いられる塩基としては、例えば水
素化ナトリウムなどの金属水素化物；ブチルリチウムな
どの金属アルキル化物；トリエチルアミンなどのアミン
類；ナトリウムアミドなどの金属アミド類；ナトリウム
メトキシドなどの金属アルコキシド；水酸化ナトリウム
などの金属水酸化物等が挙げられ、非プロトン性溶媒と
しては、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等が挙げられ、強酸としては、例えば１〜１００％
硫酸、１〜３８％塩酸などの無機酸；ｐ−トルエンスル
ホン酸、シュウ酸などの有機酸等が挙げられる。【００１９】本発明の紫外線吸収剤は、上記の如くして
得られるγ−ピロン誘導体（１）の１種又は２種以上を
そのまま使用してもよいが、担体に加えて混和せしめた
形態のものが好ましい。担体としては、上記γ−ピロン
誘導体（１）に対して不活性なものであれば特に制限さ
れず、固体、液体、乳剤、泡状体、ゲル等のいずれであ
ってもよい。その代表的なものとしては、例えば水、ア
ルコール、油脂（例えば炭化水素オイル、脂肪酸エステ
ル、長鎖アルコール、シリコーン油等）、微粉末（例え
ば澱粉、タルク等）、エアゾール噴射剤として使用され
る低沸点炭化水素又はハロゲン化炭化水素等が挙げられ
る。さらに、本発明の紫外線吸収剤には、γ−ピロン誘
導体（１）の紫外線吸収作用を損なわない範囲で、他の
成分、例えば防腐剤、香料、着色料、界面活性剤等を適
宜配合することができる。【００２０】本発明の化粧料は、γ−ピロン誘導体（１
）を含有するものであり、その化粧料基剤に対して親和
性を有するγ−ピロン誘導体（１）の１種又は２種以上
を、常法により公知の化粧料基剤に配合することにより
製造され、クリーム、溶液、油剤、スプレー、スティッ
ク、乳液、ファンデーション、軟膏等の剤型とすること
ができる。すなわち、γ−ピロン誘導体（１）を化粧料
基剤に合わせて選択使用することにより、オイル基剤の
化粧油、多量にオイルを配合する油性クリームや油性乳
液、水を多量に配合する弱油性クリームや弱油性乳液、
水ベースの化粧水等の基礎化粧料から、油剤を基剤とす
るファンデーションやリップスティック等のメイクアッ
プ化粧料に至るまで、紫外線吸収作用を有するあらゆる
形態の化粧料を製造することができる。これらに適した
基剤及び溶剤としては、固体状又は液状パラフィン、ク
リスタルオイル、セレシン、オゾケライト、モンタンろ
うなどの炭化水素類；オリーブ油、地ろう、カルナウバ
ろう、ラノリン、鯨ろうなどの植物油又は動物性油脂や
ろう；ステアリン酸、パルミチン酸、オレイン酸、グリ
セリンモノステアリン酸エステル、グリセリンジステア
リン酸エステル、グリセリンモノオレイン酸エステル、
イソプロピルミリスチン酸エステル、イソプロピルステ
アリン酸エステル、ブチルステアリン酸エステルなどの
脂肪酸及びそのエステル類；エチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアル
コール、パルミチルアルコール、ヘキシルドデシルアル
コールなどのアルコール類等が挙げられる。また、グリコール、グリセリン、ソルビトールなどの保
湿作用を有する多価アルコール類も使用することができ
る。【００２１】本発明の紫外線吸収剤及び化粧料において
、γ−ピロン誘導体の配合量は、使用形態により変動す
るため、特に制限されず有効量存在すればよいが、一般
には全組成物中に　０．１〜２０重量％、好ましくは　
０．５〜１０重量％配合される。【００２２】本発明の紫外線吸収剤及び化粧料は、γ−
ピロン誘導体（１）以外に、更に他のＵＶ−Ｂ吸収剤又
はＵＶ−Ａ吸収剤と組み合わせ、通常の日焼け止め化粧
料として使用するのがより好ましい。このようなＵＶ−
Ｂ吸収剤としては、例えばｐ−メチルベンジリデン−Ｄ
（Ｌ）−ショウノウ又はそのスルホン酸ナトリウム塩、
２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸ナト
リウム塩、３，４−ジメチルフェニルグリオキシル酸ナ
トリウム塩、４−フェニルベンゾフェノン、４−フェニ
ルベンゾフェノン−２′−カルボン酸イソオクチルエス
テル、ｐ−メトキシ桂皮酸エステル、２−フェニル−５
−メチルベンズオキサゾール、ｐ−ジメチルアミノ安息
香酸エステル類等が挙げられ、ＵＶ−Ａ吸収剤としては
、例えば４−メトキシ−２′−カルボキシジベンゾイル
メタン、４−メトキシ−４′−ｔ−ブチルジベンゾイル
メタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ジベンジリデ
ンカンファー類等が挙げられる。【００２３】本発明の化粧料には、前記成分のほか、種
々の添加剤、例えば通常用いられるＷ／Ｏ型及びＯ／Ｗ
型の乳化剤；メチルセルロース、エチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース、ポリアクリル酸、トラガカ
ント、寒天、ゼラチンなどの増粘剤；その他香料、防腐
剤、保湿剤、乳化安定剤、薬効成分、生理的に許容し得
る着色剤等を、本発明の効果を損なわない範囲で適宜配
合することができる。【００２４】【実施例】次に、実施例を挙げて、本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。実施例１２−（３，４−ジメトキシフェニル）−６−フェニル−
４Ｈ−ピラン−４−オン（本発明化合物１；一般式（１
）中、Ｒ＝ＯＣＨ３，ｎ＝２，ｍ＝０）の合成：攪拌装
置、滴下漏斗、還流冷却器及び窒素導入管を備えた　５
００ｍｌの三口フラスコに、６０％水素化ナトリウム３
０．０ｇ（０．７５ｍｏｌ）　を入れ、２００ｍｌ　の
テトラヒドロフランに分散混合し、加熱還流した。これ
に、ベンゾイルアセトン２４．３ｇ（０．１５ｍｏｌ）
　及び３，４−ジメトキシ安息香酸メチル４４．１ｇ（
０．２２５ｍｏｌ）を　１５０ｍｌのテトラヒドロフラ
ンに溶かした溶液を、約４５分かけて注意深く滴下し、
５時間加熱攪拌を続けた。放冷後、反応混合物を１規定
塩酸　１００ｍｌに注ぎ、２規定水酸化ナトリウム水溶
液でｐＨを９に調整した。有機物をクロロホルムで２回
抽出し、抽出物を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒を留去した後、ジエチルエーテル　１０
０ｍｌに溶解して結晶化させると、深緑色の粗結晶が得
られた。この粗結晶をエタノール８０ｍｌから再結晶す
ると、ペンタントリオン誘導体を黄緑色針状晶として３
６．５ｇ（収率７５％）得た。磁気攪拌装置をつけた　
１００ｍｌの三角フラスコに濃硫酸５０ｍｌを入れ、氷
冷した。これに、上記ペンタントリオン誘導体１０．０
ｇ（３０ｍｍｏｌ）を少量ずつ加えた後、さらに１時間
攪拌を続けた。反応終了後、反応混合物を　３００ｍｌ
の氷水に注ぎ、水酸化ナトリウム約７５ｇを加え、ｐＨ
を７に調整した。一夜放置した後、析出してきた白色結
晶を濾過して集め、粗生成物１０．０ｇを得た。この粗
生成物をエタノール　１６０ｍｌから再結晶し、目的の
標記化合物を白色針状晶として８．４３ｇ（収率８９％
）得た。融点：１７４．５℃ ＩＲ（ν　ＫＢｒ，　ｃｍ−１）：３０７０，　２８４
０，　１６４０，　１６００，　１５１０，　１５００
，　１４７０，　１４５０，　１４３０，　１３９０，
　１３５０，　１３３０，　１２７０，　１２４０，　
１２２０，　１１８０，　１１５０，　１０８０，　１
０５０，　１０３０，　９４０，８８０，　８５０，　
８００，　７７０，　７２０，　６９０，　６７０，　
６４０，　６１０，　５６０，　５２０，　４６０１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：３．９３（ｓ，６Ｈ
，−ＯＣＨ３），　６．６８〜６．７９（ｍ，２Ｈ），
　６．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，Ａｒｏｍａｔ
ｉｃ），　７．２５　〜７．３０（ｍ，１Ｈ，Ａｒｏｍ
ａｔｉｃ），　７．４３　〜７．５９（ｍ，４Ｈ，Ａｒ
ｏｍａｔｉｃ），　７．７８　〜７．８８（ｍ，２Ｈ，
Ａｒｏｍａｔｉｃ）【００２５】実施例２２−（４−シアノフェニル）−６−フェニル−４Ｈ−ピ
ラン−４−オン（本発明化合物２；一般式（１）におい
てＲ＝ＣＮ，ｎ＝１，ｍ＝０）の合成：実施例１と同様
の操作により、ベンゾイルアセトン８．１ｇ（０．０５
　ｍｏｌ）とｐ−シアノ安息香酸メチル１２．１ｇ（０
．０７５ｍｏｌ）とからペンタントリオン誘導体を１２
．９ｇ（収率８９％）得、ついでこのうちの５．０ｇ（
０．０１７ｍｏｌ）を濃硫酸で脱水環化して目的の２−
（３−シアノフェニル）−６−フェニル−４Ｈ−ピラン
−４−オンを白色針状晶として３．３３ｇ（収率７１％
）得た。融点：　２４３．４℃ ＩＲ（νＫＢｒ，ｃｍ−１）：３１００，　２２３０，
　１６７０，　１６２０，　１５９０，　１５８０，　
１４５０，　１４２０，　１３９０，９５０，　８５０
，　７７０，　６８０１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）
：６．８３（ｓ，２Ｈ），　７．４０（ｍ，９Ｈ，Ａｒ
ｏｍａｔｉｃ）【００２６】実施例３２−（２−フルオロフェニル）−６−フェニル−４Ｈ−
ピラン−４−オン（本発明化合物３；一般式（１）にお
いてＲ＝Ｆ，ｎ＝１，ｍ＝０）の合成：実施例１と同様
の操作により、ベンゾイルアセトン８．１ｇ（０．０５
　ｍｏｌ）とｏ−フルオロ安息香酸メチル１１．５５ｇ
（０．０７５ｍｏｌ）とからペンタントリオン誘導体を
７．３１ｇ（収率５１％）得、ついでこのうちの４．０
ｇ（０．０１４ｍｏｌ）を濃硫酸で脱水環化して目的の
２−（２−フルオロフェニル）−６−フェニル−４Ｈ−
ピラン−４−オンを白色針状晶として２．８４ｇ（収率
７６％）得た。融点：　１２５．８℃ ＩＲ（νＫＢｒ，ｃｍ−１）：３０７０，　１６５０，
　１６１０，　１５９０，　１５８０，　１４９０，　
１４５０，　１３９０，　１３４０，１２８０，　１２
４０，　１２３０，　１２１０，　１１１０，　１０８
０，　１０２０，　９５０，　９１０，　８７０，　８
５０，　７９０，　７７０，６８０，　６４０１Ｈ−Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：６．７７（ｍ，２Ｈ），　７
．０３〜８．０５（ｍ，９Ｈ，Ａｒｏｍａｔｉｃ）【００２７】実施例４２−（４−トリフルオロメチルフェニル）−６−フェニ
ル−４Ｈ−ピラン−４−オン（本発明化合物４；一般式
（１）においてＲ＝ＣＦ３，ｎ＝１，ｍ＝０）の合成：
実施例１と同様の操作により、ベンゾイルアセトン８．
１ｇ（０．０５　ｍｏｌ）とｐ−トリフルオロ安息香酸
メチル１５．３ｇ（０．０７５ｍｏｌ）とからペンタン
トリオン誘導体を１４．１５ｇ（収率８５％）得、つい
でこのうちの５．０ｇ（０．０１５ｍｏｌ）を濃硫酸で
脱水環化して目的の２−（４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−６−フェニル−４Ｈ−ピラン−４−オンを白色
針状晶として４．４６ｇ（収率９４％）得た。融点：　１７７．４℃ ＩＲ（νＫＢｒ，ｃｍ−１）：３０６０，　１６５０，
　１６２０，　１５９０，　１４５０，　１４２０，　
１３９０，　１３２０，　１１７０，１１３０，　１１
１０，　１０８０，　１０７０，　１０１０，９５０，
　８５０１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：６．８７（ｓ，２Ｈ
），　７．４０〜８．２０（ｍ，９Ｈ，Ａｒｏｍａｔｉ
ｃ）【００２８】実施例５２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−６−（３，４
−ジメトキシフェニル）−４Ｈ−ピラン−４−オン（本
発明化合物５；一般式（１）においてＲ＝ｔｅｒｔ−ブ
チル，ｎ＝１，Ｒ＝ＯＣＨ３　　ｍ＝２）の合成：実施
例１と同様の操作により１−（３，４−ジメトキシフェ
ニル）−ブタン−１，３−ジオン１１．１２ｇ（０．０
５０ｍｏｌ）とｐ−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸メチル１
４．７２ｇ（０．０７７ｍｏｌ）とからペンタントリオ
ン誘導体を１５．６８ｇ（収率８２％）得、ついでこの
うちの３．１１ｇ（８．１３ｍｍｏｌ）を濃硫酸で脱水
環化して目的の２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）
−６−（３，４−ジメトキシフェニル）−４Ｈ−ピラン
−４−オンを白色針状晶として２．５８ｇ（収率８７％
）得た。融点：　１４０．６〜１４１．５　℃ ＩＲ（νＫＢｒ，ｃｍ−１）：３０８０，　２９６０，
　２９１０，　２８７０，　２８４０，　２３００，　
１６４０，　１６００，　１５１０，１４７０，　１４
２０，　１３９０，　１３７０，　１３３０，　１３０
０，　１２８０，　１２５０，　１２２０，　１１７０
，　１１５０，１１３０，１１１０，　１０９０，　１
０３０，　９４０，　８８０，　８５０，　８３０，　
８１０，　８００，　７７０，　７３０，　７１０，　
６７０，　６４０，６１０，　５７０，　５４０，　４
５０１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．３０（ｓ，
９Ｈ，ｔ−Ｂｕ），　３．８２（ｓ，３Ｈ，ＯＣＨ３）
，　３．８４（ｓ，３Ｈ，ＯＣＨ３），６．５３（ｂｓ
，２Ｈ，Ｈ−３，５），　６．７８　〜７．８８（ｍ，
７Ｈ，Ａｒｏｍａｔｉｃ）【００２９】試験例１実施例１で得られた本発明化合物１及び５、比較化合物
として２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン（
ＵＶ−Ａ吸収剤；比較化合物１）及び２−エチルヘキシ
ル−ｐ−メトキシ桂皮酸（ＵＶ−Ｂ吸収剤；比較化合物
２）を用い、紫外線吸収効果（吸光度）を調べた。結果
を表１に示す。（測定方法）被験化合物をエタノール（９９．５％試薬
特級）に溶解して２．５×１０−５ｍｏｌ／ｌ　濃度の
溶液を調製し、石英セル（１ｃｍ×１ｃｍ）に入れた後
、自記分光光度計（日立製Ｕ−３４１０型）により吸光
度を測定した。【００３０】【表１】【００３１】表１から明らかなように、本発明化合物は
比較化合物に比べ、ＵＶ−Ａ紫外線及びＵＶ−Ｂ紫外線
に対する吸収効果が強く、日焼け止め効果の高いことが
わかる。【００３２】実施例２　　　　　　　　　　Ｏ／Ｗ型ク
リーム：常法により、下記組成のＯ／Ｗ型クリームを製
造した。（組成）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（重量％）　　２−（３，４−ジメトキシフェニル）−
６−フェニル−　　４Ｈ−ピラン−４−オン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　２．０　　ステアリン酸　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　１．０　　親油型モノステアリ
ン酸グリセリド　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　２．０　　ポリオキシエチレン（２３）
ソルビタンモノステアレート　　　　　　　　　１．０
　　セチルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　１．０　　ステアリルアルコール　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　１．０　　スクワラン　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　１０．０　　流動パラフィン　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　２０．０　　ワセリン　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．
０　　ブチルパラベン　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　０．１　　メチルパラベン　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　０．１　　トリエタノールアミン　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　１．０　　グリセリン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０　　香料　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　適量　　水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　バランス　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００．０　
　【００３３】実施例３　　　　　　　　　　Ｗ／Ｏ型
クリーム：常法により、下記組成のＷ／Ｏ型クリームを
製造した。（組成）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（重量％）　　２−（３，４−ジメトキシフェニル）−
６−フェニル−　　４Ｈ−ピラン−４−オン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　２．０　　ソルビタンセスキオレエート　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　４．０　　ステアリン酸アルミニウム　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　０．５　　セチルアルコール　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　４．０　　流動パラフィン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　１６．０　　スクワラン　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０　　
ミリスチン酸イソプロピル　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．０　　
安息香酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．
３　　グリセリン　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　１０．０　　香料　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　適量　　水　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　バランス　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　１００．０【００３４】実施例４　　　
　　　　　　　Ｏ／Ｗ型乳液：常法により、下記組成の
Ｏ／Ｗ型乳液を製造した。（組成）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（重量％）　　２−（３，４−ジメトキシフェニル）−
６−フェニル−　　４Ｈ−ピラン−４−オン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　３．０　　ステアリン酸　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　２．０　　モノステアリン酸ソ
ルビタン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　１．５　　ポリオキシエチレン（
２３）ソルビタンモノステアレート　　　　　　　　　
１．０　　セチルアルコール　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　０．４　　ステアリルアルコール　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　０．３　　ミリスチン酸イソプロピル　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　７．０　　スクワラン　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　５．０　　流動パラフィン
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．０　　固形
パラフィン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．
０　　エチルパラベン　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　０．１　　メチルパラベン　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　０．１　　カルボキシビニルポリマー
（カーボポール，グッド　　　　　　　　　　　　　　
　　リッチ社製）　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　０．２　　水酸化カリウム　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　０．４　　香料　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　適量　　水　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　バラン
ス　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　１００．０【００３５】実施例５
　　　　　　　　　　化粧水：常法により、下記組成の
化粧水を製造した。（組成）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（重量％）　　２−（３，４−ジメトキシフェニル）−
６−フェニル−　　４Ｈ−ピラン−４−オン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　２．０　　ポリオキシエチレン（２３）ラウ
リルエーテル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
４．０　　エタノール　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　１０．０　　グリセリン　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　３．０　　ジプロピレン
グリコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　７．０　　乳酸　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
０．０５　　　乳酸ナトリウム　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　０．１２　　　メチルパラベン　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　０．１　　香料　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　適量
　　色素　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　微量　　水　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　バランス　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１
００．０【００３６】【発明の効果】γ−ピロン誘導体（１）は、広い波長領
域にわたり優れた紫外線吸収作用を示すものであり、こ
れを含有する本発明の紫外線吸収剤及び化粧料は、日焼
け防止効果に優れたものである。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　一般式（１）【化１】〔式中、Ｒは同一又は異なって、炭素数１〜８のアルキ
ル基、炭素数６〜１０のアリール基、水酸基、炭素数１
〜８のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ
基、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基、炭素数１
〜１０のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１０のア
シル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を示し、
また、２個のＲがα−メチレンジオキシ基を形成しても
よく、ｎ及びｍはそれぞれ０〜４の整数を示し、ｎ＋ｍ
は１以上である〕で表されるγ−ピロン誘導体を含有す
ることを特徴とする紫外線吸収剤。
【請求項２】　　請求項１記載のγ−ピロン誘導体を含
有することを特徴とする化粧料。
【請求項３】　　一般式（１’）【化２】〔式中、Ｒは同一又は異なって、炭素数１〜８のアルキ
ル基、炭素数６〜１０のアリール基、水酸基、炭素数１
〜８のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ
基、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基、炭素数１
〜１０のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１０のア
シル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を示し、
また、２個のＲがα−メチレンジオキシ基を形成しても
よく、ｎ及びｍはそれぞれ０〜４の整数を示し、ｎ＋ｍ
は１以上である（但し、ｎ＝１、ｍ＝０でメチル基、メ
トキシ基又はニトロ基がベンゼン核上の４位に結合して
いる場合；ｎ＝１、ｍ＝１でメチル基、トリフルオロメ
チル基、メトキシ基もしくはｎ−ブトキシ基がベンゼン
核上の４位及び４′位に結合している場合、又はニトロ
基がベンゼン核上の３位及び３′位に結合している場合
；ｎ＝２、ｍ＝２で水酸基がベンゼン核上の２位、４位
、２′位及び４′位に結合している場合；ｎ＝３、ｍ＝
０でメトキシ基がベンゼン核上の２位、４位及び５位に
結合している場合；ｎ＝３、ｍ＝３で水酸基がベンゼン
核上の２位、４位、６位、２′位、４′位及び６′位に
結合している場合、又は水酸基がベンゼン核上の２位、
４位、２′位及び４′位に結合し、かつメチル基がベン
ゼン核上の６位及び６′位に結合している場合、又は水
酸基がベンゼン核上の２位、４位、２′位及び４′位に
結合し、かつアセチル基もしくはベンゾイル基がベンゼ
ン核上の５位及び５′位に結合している場合を除く）〕
で表されるγ−ピロン誘導体。