JPH0753451A - α−オキシ桂皮酸誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及び化粧料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 次の一般式（１） 【化１】 〔式中、Ｒはアルキル基、フェニル基又は置換基を有す
るフェニル基を示し、Ｘはカルボキシル基若しくはその
塩又はエステル基を示し、Ｙは同一又は異なってアルキ
ル基、アリール基、水酸基、アルコキシ基、アルケニル
オキシ基、パーフルオロアルキル基、アルコキシカルボ
ニル基、アシル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原
子を示すか、又は２個のＹでα−メチレンジオキシ基を
形成してもよく、ｎはそれぞれ０〜５の整数を示す〕で
表わされるα−オキシ桂皮酸誘導体を含有することを特
徴とする紫外線吸収剤及び化粧料。 【効果】 優れた紫外線吸収効果を示し、さらに光に対
し安定である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は紫外線吸収作用を有し、
かつ優れた光安定性を有するα−オキシ桂皮酸誘導体、
及びこれを含有し日焼け防止効果の優れた紫外線吸収剤
及び化粧料に関する。

【０００２】

【従来の技術】紫外線は、皮膚にさまざまな変化をもた
らすことが知られている。皮膚科学的には作用波長によ
り、４００〜３２０nmの長波長紫外線、３２０〜２９０
nmの中波長紫外線及び２９０nm以下の短波長紫外線に分
け、それぞれＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃと呼んでい
る。地上に達する太陽光線中の紫外線はＵＶ−Ａ及びＵ
Ｖ−Ｂであり、ＵＶ−Ｃはオゾン層において吸収され地
上にはほとんど達しない。

【０００３】ＵＶ−Ｂはある一定以上の光量が皮膚に照
射されると紅斑や水疱を形成し、またメラニン形成を亢
進し、色素沈着を生じせしめる等の変化を皮膚にもたら
す。近年の大気汚染に基づく上空のオゾン層の破壊はこ
のＵＶ−Ｂの増加をもたらすため重大な問題となってい
る。これに対しＵＶ−Ａは照射直後に皮膚を黒化させる
作用（即時黒化）を引き起こし、またそのエネルギーは
真皮にまで到達するため、血管壁や結合組織中の弾性繊
維に変化をもたらす。このようなＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂ
の両方の作用は皮膚の老化を促進し、しみ、しわ、ソバ
カス等の発生原因になるとともに、長期的には皮膚癌の
原因になると考えられている。

【０００４】このように紫外線がヒトの皮膚に及ぼす影
響が明らかになるに伴い、ＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂを吸収
する化合物の開発が行われるようになっている。このよ
うな紫外線吸収剤は、（１）ＵＶ−Ｂ又はＵＶ−Ａの光
を可能な限り完全に吸収すること、（２）光や熱に対し
て安定であること、（３）皮膚に対する毒性、刺激性、
さらに他の有害作用がないこと、（４）効果が持続する
こと、（５）化粧品基剤との相溶性に優れていること等
の条件をすべて満足することが望ましいとされている。
従来、ＵＶ−Ａ吸収剤としては、例えば、ジベンゾイル
メタン誘導体が、ＵＶ−Ｂ吸収剤としては、例えば桂皮
酸エステル、ベンゾフェノン、ｐ−アミノ安息香酸、サ
リチル酸等の誘導体が用いられている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、これら従来の
紫外線吸収剤は必ずしも上記の条件を充分満足するもの
ではなく、特に光に対する安定性は不充分であり、紫外
線による分解や反応が起こることが知られている〔Ｉｎ
ｔ．Ｊ．Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｓｃｉｅｎｃｅ，１０，５
３（１９８８）〕。こうした紫外線吸収剤の分解は、効
果の持続の低下を招くのみならず、分解物自身あるいは
配合物との反応によって生成した生成物の皮膚への影響
も無視できない〔フレグランス ジャーナル、８４、３
２（１９８７）〕。従って、本発明の目的は、前記条件
を満足する紫外線吸収剤、特に光に対する安定性に優れ
た紫外線吸収剤を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】かかる事情に鑑み、本発
明者らは数多くのα−オキシ桂皮酸誘導体を合成し、そ
の性質を検討してきたところ、後記一般式（１）で表わ
されるα−オキシ桂皮酸誘導体が優れた紫外線吸収作用
を有し、かつ光に対して極めて安定であること、さらに
これを配合すれば優れた日焼け防止効果を有する化粧料
が得られることを見出し、本発明を完成した。すなわ
ち、本発明は次の一般式（１）

【０００７】

【化４】

【０００８】〔式中、Ｒはアルキル基、フェニル基又は
置換基を有するフェニル基を示し、Ｘはカルボキシル基
若しくはその塩又はエステル基を示し、Ｙは同一又は異
なってアルキル基、アリール基、水酸基、アルコキシ
基、アルケニルオキシ基、パーフルオロアルキル基、ア
ルコキシカルボニル基、アシル基、ニトロ基、シアノ基
又はハロゲン原子を示すか、又は２個のＹでα−メチレ
ンジオキシ基を形成してもよく、ｎはそれぞれ０〜５の
整数を示す〕で表わされるα−オキシ桂皮酸誘導体を含
有することを特徴とする紫外線吸収剤及び化粧料を提供
するものである。

【０００９】上記一般式（１）で表わされるα−オキシ
桂皮酸誘導体のうち次の一般式（１′）

【００１０】

【化５】

【００１１】〔式中、Ｒ¹ は炭素数６以上のアルキル
基、フェニル基又は塩素原子以外の置換基を有するフェ
ニル基を示し、Ｘ¹ はカルボキシル基若しくはその塩又
はエステル基を示し、Ｙ¹ は同一又は異なってアルキル
基、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、又は
アシル基を示すか、又は２個のＹ¹ でα−メチレンジオ
キシ基を形成してもよく、ｎ１はそれぞれ０〜３の整数
を示す。ただし、ｎ１が０であり、Ｒ¹ がフェニル基で
あり、かつＸ¹ がカルボキシル基若しくはそのメチルエ
ステルである場合；ｎ１が１であり、Ｙ¹ が４位のメト
キシ基若しくは４位のメチル基であり、Ｒ¹ がフェニル
基であり、かつＸがカルボキシル基若しくは、このメチ
ルエステルである場合；ｎ１が２であり、Ｙ¹ が３位と
４位が結ばれるα−メチレンジオキシ基であり、Ｒ¹ が
フェニル基であり、かつＸがカルボキシル基若しくは、
このメチルエステルである場合；ｎ１が２であり、Ｙ¹
が３位と４位の双方に存在するメトキシ基であり、Ｒ¹
がフェニル基若しくは２位にメトキシ基を有するフェニ
ル基であり、かつＸ¹ がカルボキシル基若しくは、この
メチルエステルである場合を除く。〕で表わされるα−
オキシ桂皮酸誘導体は新規化合物であり、本発明は当該
化合物（１′）を提供するものである。

【００１２】一般式（１）で表わされるα−オキシ桂皮
酸誘導体において、式中、Ｒで示されるアルキル基とし
ては、炭素数１〜１８のものが好ましく、具体的には、
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、２−メチルブチル基、ｎ−ヘキシ
ル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘ
キシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−テトラ
デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−オクタデシル基等
が例示されるが、特に炭素数１〜１０のアルキル基が好
ましい。

【００１３】また、Ｒで示される置換基を有するフェニ
ル基の置換基としては、アルキル基、水酸基、アルコキ
シ基、アルケニルオキシ基、パーフルオロアルキル基、
アルコキシカルボニル基、アシル基、ニトロ基、シアノ
基、ハロゲン原子が例示され、このうち、アルキル基と
しては、炭素数１〜８のものが好ましく、具体的には、
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、２−メチルブチル基、ｎ−ヘキシ
ル基、ｎ−オクチル基等が挙げられるが、特に炭素数１
〜５のものが好ましい。アルコキシ基としては、炭素数
１〜１８のもの、例えば上記アルキル基に酸素原子が結
合したものが好適な例として挙げられるが、特に炭素数
１〜１０のものが好ましい。アルケニルオキシ基として
は、例えば２〜８のものが好ましく、例えばアリルオキ
シ基、ブテニルオキシ基、ペンテニルオキシ基、ヘキセ
ニルオキシ基が挙げられるが、特に炭素数２〜５のもの
が好ましい。パーフルオロアルキル基としては、炭素数
１〜８のもの、例えばトリフルオロメチル基、ペンタフ
ルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基等が好まし
いが、特に炭素数１〜３のものが好ましい。アルコキシ
カルボニル基としては、炭素数１〜１０のものが好まし
く、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、プロポキシカルボニル基等が挙げられるが、特に炭
素数１〜７のものが好ましい。アシル基としては、炭素
数２〜１０、特に２〜７のものが好ましく、具体的に
は、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブ
チル基、バレリル基、ベンゾイル基等が挙げられる。ま
た、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素等が挙げられる。また、Ｒで示される置換基を有する
フェニル基の置換基としては、水酸基、ニトロ基又はシ
アノ基も好ましい例として挙げられる。これらフェニル
基の置換基は、１〜３個であることが好ましい。

【００１４】一般式（１）中、Ｘで示されるカルボキシ
ル基の塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩等の金属
塩、第四級化アミン塩が好ましく、エステル基として
は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の飽和若
しくは不飽和の直鎖若しくは分岐鎖のアルコールに由来
するエステル基が好ましく、具体的には、例えばメチル
エステル基、エチルエステル基、ｎ−プロピルエステル
基、ｉｓｏ−プロピルエステル基、ｎ−ブチルエステル
基、ｉｓｏ−ブチルエステル基、ｔ−ブチルエステル
基、ｎ−ペンチルエステル基、２−メチルブチルエステ
ル基、ｎ−ヘキシルエステル基、ｎ−ヘプチルエステル
基、シクロヘキシルメチルエステル基、ｎ−オクチルエ
ステル基、２−エチルヘキシルエステル基、ｎ−デシル
エステル基、ｎ−ドデシルエステル基、ｎ−テトラデシ
ルエステル基、ｎ−ヘキサデシルエステル基、ｎ−オク
タデシルエステル基、ビニルエステル基、アリルエステ
ル基、１−メチル−２−ブテンエステル基、ベンジルエ
ステル基が挙げられる。

【００１５】一般式（１）中、Ｙで示される基として
は、アルキル基、アリール基、水酸基、アルコキシ基、
アルケニルオキシ基、パーフルオロアルキル基、アルコ
キシカルボニル基、アシル基、ニトロ基、シアノ基、ハ
ロゲン原子、α−メチレンジオキシ基が例示され、この
うち、アルキル基としては、炭素数１〜８のものが好ま
しく、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−メチルブチ
ル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基等が挙げられる
が、特に炭素数１〜５のものが好ましい。アリール基と
しては、炭素数６〜１０のもの、例えばフェニル基、１
−ナフチル基、２−ナフチル基、トルイル基等が好まし
く、特に炭素数６〜８のものが好ましい。アルコキシ基
としては、炭素数１〜１８のもの、例えば上記アルキル
基に酸素原子が結合したものが好適な例として挙げられ
るが、特に炭素数１〜１０のものが好ましい。アルケニ
ルオキシ基としては炭素数２〜８のものが好ましく、例
えばアリルオキシ基、ブテニルオキシ基、ペンテニルオ
キシ基、ヘキセニルオキシ基が挙げられるが、特に炭素
数２〜５のものが好ましい。パーフルオロアルキル基と
しては、炭素数１〜８のもの、例えばトリフルオロメチ
ル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピ
ル基等が好ましいが、特に炭素数１〜３のものが好まし
い。アルコキシカルボニル基としては、炭素数１〜１０
のものが好ましく、例えばメトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等が挙げら
れるが、特に炭素数１〜７のものが好ましい。アシル基
としては、炭素数２〜１０、特に２〜７のものが好まし
く、具体的には、アセチル基、プロピオニル基、ブチリ
ル基、イソブチル基、バレリル基、ベンゾイル基等が挙
げられる。また、ハロゲン原子としては、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。また、Ｙとしては、
水酸基、ニトロ基又はシアノ基も好ましい例として挙げ
られる。

【００１６】また、一般式（１）中、ｎは０〜５の整数
であるが、１〜３のものが特に好ましい。

【００１７】一般式（１）で表わされるα−オキシ桂皮
酸誘導体の具体例としては、次のものが挙げられる。α
−フェノキシ−４−メトキシ桂皮酸、α−フェノキシ−
４−ヒドロキシ桂皮酸、α−フェノキシ−４−エトキシ
桂皮酸、α−フェノキシ−４−ｎ−ブトキシ桂皮酸、α
−フェノキシ−４−ｎ−ヘキシルオキシ桂皮酸、α−フ
ェノキシ−４−メチル桂皮酸、α−フェノキシ−４−エ
チル桂皮酸、α−フェノキシ−４−イソブチル桂皮酸、
α−フェノキシ−３，４−ジメトキシ桂皮酸、α−フェ
ノキシ−（２−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂皮酸、α
−フェノキシ−（４−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂皮
酸、α−フェノキシ−３，４−ジメトキシ桂皮酸、α−
フェノキシ−３，４−ジメチル桂皮酸、α−フェノキシ
−２，３，４−トリメトキシ桂皮酸、α−フェノキシ−
３，４，５−トリメトキシ桂皮酸、α−フェノキシ−
２，４，５−トリメチル桂皮酸、α−フェノキシ−４−
フェニル桂皮酸、α−フェノキシ−４−アリルオキシ桂
皮酸、α−フェノキシ−４−アセチル桂皮酸、α−フェ
ノキシ桂皮酸、α−フェノキシ−３，４−メチレンジオ
キシ桂皮酸、α−メトキシ−４−メトキシ桂皮酸、α−
メトキシ−４−ヒドロキシ桂皮酸、α−メトキシ−４−
エトキシ桂皮酸、α−メトキシ−４−ｎ−ブトキシ桂皮
酸、α−メトキシ−４−ｎ−ヘキシルオキシ桂皮酸、α
−メトキシ−４−メチル桂皮酸、α−メトキシ−４−エ
チル桂皮酸、α−メトキシ−４−イソブチル桂皮酸、α
−メトキシ−３，４−ジメトキシ桂皮酸、α−メトキシ
−（２−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂皮酸、α−メト
キシ−（４−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂皮酸、α−
メトキシ−３，４−ジメトキシ桂皮酸、α−メトキシ−
３，４−ジメチル桂皮酸、α−メトキシ−２，３，４−
トリメトキシ桂皮酸、α−メトキシ−３，４，５−トリ
メトキシ桂皮酸、α−メトキシ−２，４，５−トリメチ
ル桂皮酸、α−メトキシ−４−フェニル桂皮酸、α−メ
トキシ−４−アリルオキシ桂皮酸、α−メトキシ−４−
アセチル桂皮酸、α−メトキシ桂皮酸、α−メトキシ−
３，４−メチレンジオキシ桂皮酸、α−エトキシ−４−
メトキシ桂皮酸、α−エトキシ−４−ヒドロキシ桂皮
酸、α−エトキシ−４−エトキシ桂皮酸、α−エトキシ
−４−ｎ−ブトキシ桂皮酸、α−エトキシ−４−ｎ−ヘ
キシルオキシ桂皮酸、α−エトキシ−４−メチル桂皮
酸、α−エトキシ−４−エチル桂皮酸、α−エトキシ−
４−イソブチル桂皮酸、α−エトキシ−３，４−ジメト
キシ桂皮酸、α−エトキシ−（２−ヒドロキシ−３−メ
トキシ）桂皮酸、α−エトキシ−（４−ヒドロキシ−３
−メトキシ）桂皮酸、α−エトキシ−３，４−ジメトキ
シ桂皮酸、α−エトキシ−３，４−ジメチル桂皮酸、α
−エトキシ−２，３，４−トリメトキシ桂皮酸、α−エ
トキシ−３，４，５−トリメトキシ桂皮酸、α−エトキ
シ−２，４，５−トリメチル桂皮酸、α−エトキシ−４
−フェニル桂皮酸、α−エトキシ−４−アリルオキシ桂
皮酸、α−エトキシ−４−アセチル桂皮酸、α−エトキ
シ桂皮酸、α−エトキシ−３，４−メチレンジオキシ桂
皮酸、α−ｎ−ブトキシ−４−メトキシ桂皮酸、α−ｎ
−ブトキシ−４−ヒドロキシ桂皮酸、α−ｎ−ブトキシ
−４−エトキシ桂皮酸、α−ｎ−ブトキシ−４−ｎ−ブ
トキシ桂皮酸、α−ｎ−ブトキシ−４−ｎ−ヘキシルオ
キシ桂皮酸、α−ｎ−ブトキシ−４−メチル桂皮酸、α
−ｎ−ブトキシ−４−エチル桂皮酸、α−ｎ−ブトキシ
−４−イソブチル桂皮酸、α−ｎ−ブトキシ−３，４−
ジメトキシ桂皮酸、α−ｎ−ブトキシ−（２−ヒドロキ
シ−３−メトキシ）桂皮酸、α−ｎ−ブトキシ−（４−
ヒドロキシ−３−メトキシ）桂皮酸、α−ｎ−ブトキシ
−３，４−ジメトキシ桂皮酸、α−ｎ−ブトキシ−３，
４−ジメチル桂皮酸、α−ｎ−ブトキシ−２，３，４−
トリメトキシ桂皮酸、α−ｎ−ブトキシ−３，４，５−
トリメトキシ桂皮酸、α−ｎ−ブトキシ−２，４，５−
トリメチル桂皮酸、α−ｎ−ブトキシ−４−フェニル桂
皮酸、α−ｎ−ブトキシ−４−アリルオキシ桂皮酸、α
−ｎ−ブトキシ−４−アセチル桂皮酸、α−ｎ−ブトキ
シ桂皮酸、α−ｎ−ブトキシ−３，４−メチレンジオキ
シ桂皮酸、α−ｎ−ヘキシルオキシ−４−メトキシ桂皮
酸、α−ｎ−ヘキシルオキシ−４−ヒドロキシ桂皮酸、
α−ｎ−ヘキシルオキシ−４−エトキシ桂皮酸、α−ｎ
−ヘキシルオキシ−４−ｎ−ブトキシ桂皮酸、α−ｎ−
ヘキシルオキシ−４−ｎ−ヘキシルオキシ桂皮酸、α−
ｎ−ヘキシルオキシ−４−メチル桂皮酸、α−ｎ−ヘキ
シルオキシ−４−エチル桂皮酸、α−ｎ−ヘキシルオキ
シ−４−イソブチル桂皮酸、α−ｎ−ヘキシルオキシ−
３，４−ジメトキシ桂皮酸、α−ｎ−ヘキシルオキシ−
（２−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂皮酸、α−ｎ−ヘ
キシルオキシ−（４−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂皮
酸、α−ｎ−ヘキシルオキシ−３，４−ジメトキシ桂皮
酸、α−ｎ−ヘキシルオキシ−３，４−ジメチル桂皮
酸、α−ｎ−ヘキシルオキシ−２，３，４−トリメトキ
シ桂皮酸、α−ｎ−ヘキシルオキシ−３，４，５−トリ
メトキシ桂皮酸、α−ｎ−ヘキシルオキシ−２，４，５
−トリメチル桂皮酸、α−ｎ−ヘキシルオキシ−４−フ
ェニル桂皮酸、α−ｎ−ヘキシルオキシ−４−アリルオ
キシ桂皮酸、α−ｎ−ヘキシルオキシ−４−アセチル桂
皮酸、α−ｎ−ヘキシルオキシ桂皮酸、α−ｎ−ヘキシ
ルオキシ−３，４−メチレンジオキシ桂皮酸、α−ｎ−
オクチルオキシ−４−メトキシ桂皮酸、α−ｎ−オクチ
ルオキシ−４−ヒドロキシ桂皮酸、α−ｎ−オクチルオ
キシ−４−エトキシ桂皮酸、α−ｎ−オクチルオキシ−
４−ｎ−ブトキシ桂皮酸、α−ｎ−オクチルオキシ−４
−ｎ−ヘキシルオキシ桂皮酸、α−ｎ−オクチルオキシ
−４−メチル桂皮酸、α−ｎ−オクチルオキシ−４−エ
チル桂皮酸、α−ｎ−オクチルオキシ−４−イソブチル
桂皮酸、α−ｎ−オクチルオキシ−３，４−ジメトキシ
桂皮酸、α−ｎ−オクチルオキシ−（２−ヒドロキシ−
３−メトキシ）桂皮酸、α−ｎ−オクチルオキシ−（４
−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂皮酸、α−ｎ−オクチ
ルオキシ−３，４−ジメトキシ桂皮酸、α−ｎ−オクチ
ルオキシ−３，４−ジメチル桂皮酸、α−ｎ−オクチル
オキシ−２，３，４−トリメトキシ桂皮酸、α−ｎ−オ
クチルオキシ−３，４，５−トリメトキシ桂皮酸、α−
ｎ−オクチルオキシ−２，４，５−トリメチル桂皮酸、
α−ｎ−オクチルオキシ−４−フェニル桂皮酸、α−ｎ
−オクチルオキシ−４−アリルオキシ桂皮酸、α−ｎ−
オクチルオキシ−４−アセチル桂皮酸、α−ｎ−オクチ
ルオキシ桂皮酸、α−ｎ−オクチルオキシ−３，４−メ
チレンジオキシ桂皮酸、α−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−４−メトキシ桂皮酸、α−（２−エチルヘキシル
オキシ）−４−ヒドロキシ桂皮酸、α−（２−エチルヘ
キシルオキシ）−４−エトキシ桂皮酸、α−（２−エチ
ルヘキシルオキシ）−４−ｎ−ブトキシ桂皮酸、α−
（２−エチルヘキシルオキシ）−４−ｎ−ヘキシルオキ
シ桂皮酸、α−（２−エチルヘキシルオキシ）−４−メ
チル桂皮酸、α−（２−エチルヘキシルオキシ）−４−
エチル桂皮酸、α−（２−エチルヘキシルオキシ）−４
−イソブチル桂皮酸、α−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−３，４−ジメトキシ桂皮酸、α−（２−エチルヘ
キシルオキシ）−（２−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂
皮酸、α−（２−エチルヘキシルオキシ）−（４−ヒド
ロキシ−３−メトキシ）桂皮酸、α−（２−エチルヘキ
シルオキシ）−３，４−ジメトキシ桂皮酸、α−（２−
エチルヘキシルオキシ）−３，４−ジメチル桂皮酸、α
−（２−エチルヘキシルオキシ）−２，３，４−トリメ
トキシ桂皮酸、α−（２−エチルヘキシルオキシ）−
３，４，５−トリメトキシ桂皮酸、α−（２−エチルヘ
キシルオキシ）−２，４，５−トリメチル桂皮酸、α−
（２−エチルヘキシルオキシ）−４−フェニル桂皮酸、
α−（２−エチルヘキシルオキシ）−４−アリルオキシ
桂皮酸、α−（２−エチルヘキシルオキシ）−４−アセ
チル桂皮酸、α−（２−エチルヘキシルオキシ）桂皮
酸、α−（２−エチルヘキシルオキシ）−３，４−メチ
レンジオキシ桂皮酸、α−（２−メトキシフェノキシ）
−４−メトキシ桂皮酸、α−（２−メトキシフェノキ
シ）−４−ヒドロキシ桂皮酸、α−（２−メトキシフェ
ノキシ）−４−エトキシ桂皮酸、α−（２−メトキシフ
ェノキシ）−４−ｎ−ブトキシ桂皮酸、α−（２−メト
キシフェノキシ）−４−ｎ−ヘキシルオキシ桂皮酸、α
−（２−メトキシフェノキシ）−４−メチル桂皮酸、α
−（２−メトキシフェノキシ）−４−エチル桂皮酸、α
−（２−メトキシフェノキシ）−４−イソブチル桂皮
酸、α−（２−メトキシフェノキシ）−３，４−ジメト
キシ桂皮酸、α−（２−メトキシフェノキシ）−（２−
ヒドロキシ−３−メトキシ）桂皮酸、α−（２−メトキ
シフェノキシ）−（４−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂
皮酸、α−（２−メトキシフェノキシ）−３，４−ジメ
トキシ桂皮酸、α−（２−メトキシフェノキシ）−３，
４−ジメチル桂皮酸、α−（２−メトキシフェノキシ）
−２，３，４−トリメトキシ桂皮酸、α−（２−メトキ
シフェノキシ）−３，４，５−トリメトキシ桂皮酸、α
−（２−メトキシフェノキシ）−２，４，５−トリメチ
ル桂皮酸、α−（２−メトキシフェノキシ）−４−フェ
ニル桂皮酸、α−（２−メトキシフェノキシ）−４−ア
リルオキシ桂皮酸、α−（２−メトキシフェノキシ）−
４−アセチル桂皮酸、α−（２−メトキシフェノキシ）
桂皮酸、α−（２−メトキシフェノキシ）−３，４−メ
チレンジオキシ桂皮酸、α−（２−ヒドロキシフェノキ
シ）−４−メトキシ桂皮酸、α−（２−ヒドロキシフェ
ノキシ）−４−ヒドロキシ桂皮酸、α−（２−ヒドロキ
シフェノキシ）−４−エトキシ桂皮酸、α−（２−ヒド
ロキシフェノキシ）−４−ｎ−ブトキシ桂皮酸、α−
（２−ヒドロキシフェノキシ）−４−ｎ−ヘキシルオキ
シ桂皮酸、α−（２−ヒドロキシフェノキシ）−４−メ
チル桂皮酸、α−（２−ヒドロキシフェノキシ）−４−
エチル桂皮酸、α−（２−ヒドロキシフェノキシ）−４
−イソブチル桂皮酸、α−（２−ヒドロキシフェノキ
シ）−３，４−ジメトキシ桂皮酸、α−（２−ヒドロキ
シフェノキシ）−（２−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂
皮酸、α−（２−ヒドロキシフェノキシ）−（４−ヒド
ロキシ−３−メトキシ）桂皮酸、α−（２−ヒドロキシ
フェノキシ）−３，４−ジメトキシ桂皮酸、α−（２−
ヒドロキシフェノキシ）−３，４−ジメチル桂皮酸、α
−（２−ヒドロキシフェノキシ）−２，３，４−トリメ
トキシ桂皮酸、α−（２−ヒドロキシフェノキシ）−
３，４，５−トリメトキシ桂皮酸、α−（２−ヒドロキ
シフェノキシ）−２，４，５−トリメチル桂皮酸、α−
（２−ヒドロキシフェノキシ）−４−フェニル桂皮酸、
α−（２−ヒドロキシフェノキシ）−４−アリルオキシ
桂皮酸、α−（２−ヒドロキシフェノキシ）−４−アセ
チル桂皮酸、α−（２−ヒドロキシフェノキシ）桂皮
酸、α−（２−ヒドロキシフェノキシ）−３，４−メチ
レンジオキシ桂皮酸、α−（４−メトキシフェノキシ）
−４−メトキシ桂皮酸、α−（４−メトキシフェノキ
シ）−４−ヒドロキシ桂皮酸、α−（４−メトキシフェ
ノキシ）−４−エトキシ桂皮酸、α−（４−メトキシフ
ェノキシ）−４−ｎ−ブトキシ桂皮酸、α−（４−メト
キシフェノキシ）−４−ｎ−ヘキシルオキシ桂皮酸、α
−（４−メトキシフェノキシ）−４−メチル桂皮酸、α
−（４−メトキシフェノキシ）−４−エチル桂皮酸、α
−（４−メトキシフェノキシ）−４−イソブチル桂皮
酸、α−（４−メトキシフェノキシ）−３，４−ジメト
キシ桂皮酸、α−（４−メトキシフェノキシ）−（２−
ヒドロキシ−３−メトキシ）桂皮酸、α−（４−メトキ
シフェノキシ）−（４−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂
皮酸、α−（４−メトキシフェノキシ）−３，４−ジメ
トキシ桂皮酸、α−（４−メトキシフェノキシ）−３，
４−ジメチル桂皮酸、α−（４−メトキシフェノキシ）
−２，３，４−トリメトキシ桂皮酸、α−（４−メトキ
シフェノキシ）−３，４，５−トリメトキシ桂皮酸、α
−（４−メトキシフェノキシ）−２，４，５−トリメチ
ル桂皮酸、α−（４−メトキシフェノキシ）−４−フェ
ニル桂皮酸、α−（４−メトキシフェノキシ）−４−ア
リルオキシ桂皮酸、α−（４−メトキシフェノキシ）−
４−アセチル桂皮酸、α−（４−メトキシフェノキシ）
桂皮酸、α−（４−メトキシフェノキシ）−３，４−メ
チレンジオキシ桂皮酸、α−（４−ブトキシフェノキ
シ）−４−メトキシ桂皮酸、α−（４−ブトキシフェノ
キシ）−４−ヒドロキシ桂皮酸、α−（４−ブトキシフ
ェノキシ）−４−エトキシ桂皮酸、α−（４−ブトキシ
フェノキシ）−４−ｎ−ブトキシ桂皮酸、α−（４−ブ
トキシフェノキシ）−４−ｎ−ヘキシルオキシ桂皮酸、
α−（４−ブトキシフェノキシ）−４−メチル桂皮酸、
α−（４−ブトキシフェノキシ）−４−エチル桂皮酸、
α−（４−ブトキシフェノキシ）−４−イソブチル桂皮
酸、α−（４−ブトキシフェノキシ）−３，４−ジメト
キシ桂皮酸、α−（４−ブトキシフェノキシ）−（２−
ヒドロキシ−３−メトキシ）桂皮酸、α−（４−ブトキ
シフェノキシ）−（４−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂
皮酸、α−（４−ブトキシフェノキシ）−３，４−ジメ
トキシ桂皮酸、α−（４−ブトキシフェノキシ）−３，
４−ジメチル桂皮酸、α−（４−ブトキシフェノキシ）
−２，３，４−トリメトキシ桂皮酸、α−（４−ブトキ
シフェノキシ）−３，４，５−トリメトキシ桂皮酸、α
−（４−ブトキシフェノキシ）−２，４，５−トリメチ
ル桂皮酸、α−（４−ブトキシフェノキシ）−４−フェ
ニル桂皮酸、α−（４−ブトキシフェノキシ）−４−ア
リルオキシ桂皮酸、α−（４−ブトキシフェノキシ）−
４−アセチル桂皮酸、α−（４−ブトキシフェノキシ）
桂皮酸、α−（４−ブトキシフェノキシ）−３，４−メ
チレンジオキシ桂皮酸、α−（２，６−ジメトキシフェ
ノキシ）−４−メトキシ桂皮酸、α−（２，６−ジメト
キシフェノキシ）−４−ヒドロキシ桂皮酸、α−（２，
６−ジメトキシフェノキシ）−４−エトキシ桂皮酸、α
−（２，６−ジメトキシフェノキシ）−４−ｎ−ブトキ
シ桂皮酸、α−（２，６−ジメトキシフェノキシ）−４
−ｎ−ヘキシルオキシ桂皮酸、α−（２，６−ジメトキ
シフェノキシ）−４−メチル桂皮酸、α−（２，６−ジ
メトキシフェノキシ）−４−エチル桂皮酸、α−（２，
６−ジメトキシフェノキシ）−４−イソブチル桂皮酸、
α−（２，６−ジメトキシフェノキシ）−３，４−ジメ
トキシ桂皮酸、α−（２，６−ジメトキシフェノキシ）
−（２−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂皮酸、α−
（２，６−ジメトキシフェノキシ）−（４−ヒドロキシ
−３−メトキシ）桂皮酸、α−（２，６−ジメトキシフ
ェノキシ）−３，４−ジメトキシ桂皮酸、α−（２，６
−ジメトキシフェノキシ）−３，４−ジメチル桂皮酸、
α−（２，６−ジメトキシフェノキシ）−２，３，４−
トリメトキシ桂皮酸、α−（２，６−ジメトキシフェノ
キシ）−３，４，５−トリメトキシ桂皮酸、α−（２，
６−ジメトキシフェノキシ）−２，４，５−トリメチル
桂皮酸、α−（２，６−ジメトキシフェノキシ）−４−
フェニル桂皮酸、α−（２，６−ジメトキシフェノキ
シ）−４−アリルオキシ桂皮酸、α−（２，６−ジメト
キシフェノキシ）−４−アセチル桂皮酸、α−（２，６
−ジメトキシフェノキシ）桂皮酸、α−（２，６−ジメ
トキシフェノキシ）−３，４−メチレンジオキシ桂皮
酸、α−（３，５−ジメトキシフェノキシ）−４−メト
キシ桂皮酸、α−（３，５−ジメトキシフェノキシ）−
４−ヒドロキシ桂皮酸、α−（３，５−ジメトキシフェ
ノキシ）−４−エトキシ桂皮酸、α−（３，５−ジメト
キシフェノキシ）−４−ｎ−ブトキシ桂皮酸、α−
（３，５−ジメトキシフェノキシ）−４−ｎ−ヘキシル
オキシ桂皮酸、α−（３，５−ジメトキシフェノキシ）
−４−メチル桂皮酸、α−（３，５−ジメトキシフェノ
キシ）−４−エチル桂皮酸、α−（３，５−ジメトキシ
フェノキシ）−４−イソブチル桂皮酸、α−（３，５−
ジメトキシフェノキシ）−３，４−ジメトキシ桂皮酸、
α−（３，５−ジメトキシフェノキシ）−（２−ヒドロ
キシ−３−メトキシ）桂皮酸、α−（３，５−ジメトキ
シフェノキシ）−（４−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂
皮酸、α−（３，５−ジメトキシフェノキシ）−３，４
−ジメトキシ桂皮酸、α−（３，５−ジメトキシフェノ
キシ）−３，４−ジメチル桂皮酸、α−（３，５−ジメ
トキシフェノキシ）−２，３，４−トリメトキシ桂皮
酸、α−（３，５−ジメトキシフェノキシ）−３，４，
５−トリメトキシ桂皮酸、α−（３，５−ジメトキシフ
ェノキシ）−２，４，５−トリメチル桂皮酸、α−
（３，５−ジメトキシフェノキシ）−４−フェニル桂皮
酸、α−（３，５−ジメトキシフェノキシ）−４−アリ
ルオキシ桂皮酸、α−（３，５−ジメトキシフェノキ
シ）−４−アセチル桂皮酸、α−（３，５−ジメトキシ
フェノキシ）桂皮酸、α−（３，５−ジメトキシフェノ
キシ）−３，４−メチレンジオキシ桂皮酸、α−（４−
メチルフェノキシ）−４−メトキシ桂皮酸、α−（４−
メチルフェノキシ）−４−ヒドロキシ桂皮酸、α−（４
−メチルフェノキシ）−４−エトキシ桂皮酸、α−（４
−メチルフェノキシ）−４−ｎ−ブトキシ桂皮酸、α−
（４−メチルフェノキシ）−４−ｎ−ヘキシルオキシ桂
皮酸、α−（４−メチルフェノキシ）−４−メチル桂皮
酸、α−（４−メチルフェノキシ）−４−エチル桂皮
酸、α−（４−メチルフェノキシ）−４−イソブチル桂
皮酸、α−（４−メチルフェノキシ）−３，４−ジメト
キシ桂皮酸、α−（４−メチルフェノキシ）−（２−ヒ
ドロキシ−３−メトキシ）桂皮酸、α−（４−メチルフ
ェノキシ）−（４−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂皮
酸、α−（４−メチルフェノキシ）−３，４−ジメトキ
シ桂皮酸、α−（４−メチルフェノキシ）−３，４−ジ
メチル桂皮酸、α−（４−メチルフェノキシ）−２，
３，４−トリメトキシ桂皮酸、α−（４−メチルフェノ
キシ）−３，４，５−トリメトキシ桂皮酸、α−（４−
メチルフェノキシ）−２，４，５−トリメチル桂皮酸、
α−（４−メチルフェノキシ）−４−フェニル桂皮酸、
α−（４−メチルフェノキシ）−４−アリルオキシ桂皮
酸、α−（４−メチルフェノキシ）−４−アセチル桂皮
酸、α−（４−メチルフェノキシ）−桂皮酸、α−（４
−メチルフェノキシ）−３，４−メチレンジオキシ桂皮
酸、α−（４−エチルフェノキシ）−４−メトキシ桂皮
酸、α−（４−エチルフェノキシ）−４−ヒドロキシ桂
皮酸、α−（４−エチルフェノキシ）−４−エトキシ桂
皮酸、α−（４−エチルフェノキシ）−４−ｎ−ブトキ
シ桂皮酸、α−（４−エチルフェノキシ）−４−ｎ−ヘ
キシルオキシ桂皮酸、α−（４−エチルフェノキシ）−
４−メチル桂皮酸、α−（４−エチルフェノキシ）−４
−エチル桂皮酸、α−（４−エチルフェノキシ）−４−
イソブチル桂皮酸、α−（４−エチルフェノキシ）−
３，４−ジメトキシ桂皮酸、α−（４−エチルフェノキ
シ）−（２−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂皮酸、α−
（４−エチルフェノキシ）−（４−ヒドロキシ−３−メ
トキシ）桂皮酸、α−（４−エチルフェノキシ）−３，
４−ジメトキシ桂皮酸、α−（４−エチルフェノキシ）
−３，４−ジメチル桂皮酸、α−（４−エチルフェノキ
シ）−２，３，４−トリメトキシ桂皮酸、α−（４−エ
チルフェノキシ）−３，４，５−トリメトキシ桂皮酸、
α−（４−エチルフェノキシ）−２，４，５−トリメチ
ル桂皮酸、α−（４−エチルフェノキシ）−４−フェニ
ル桂皮酸、α−（４−エチルフェノキシ）−４−アリル
オキシ桂皮酸、α−（４−エチルフェノキシ）−４−ア
セチル桂皮酸、α−（４−エチルフェノキシ）桂皮酸、
α−（４−エチルフェノキシ）−３，４−メチレンジオ
キシ桂皮酸、α−（３，５−ジメチルフェノキシ）−４
−メトキシ桂皮酸、α−（３，５−ジメチルフェノキ
シ）−４−ヒドロキシ桂皮酸、α−（３，５−ジメチル
フェノキシ）−４−エトキシ桂皮酸、α−（３，５−ジ
メチルフェノキシ）−４−ｎ−ブトキシ桂皮酸、α−
（３，５−ジメチルフェノキシ）−４−ｎ−ヘキシルオ
キシ桂皮酸、α−（３，５−ジメチルフェノキシ）−４
−メチル桂皮酸、α−（３，５−ジメチルフェノキシ）
−４−エチル桂皮酸、α−（３，５−ジメチルフェノキ
シ）−４−イソブチル桂皮酸、α−（３，５−ジメチル
フェノキシ）−３，４−ジメトキシ桂皮酸、α−（３，
５−ジメチルフェノキシ）−（２−ヒドロキシ−３−メ
トキシ）桂皮酸、α−（３，５−ジメチルフェノキシ）
−（４−ヒドロキシ−３−メトキシ）桂皮酸、α−
（３，５−ジメチルフェノキシ）−３，４−ジメトキシ
桂皮酸、α−（３，５−ジメチルフェノキシ）−３，４
−ジメチル桂皮酸、α−（３，５−ジメチルフェノキ
シ）−２，３，４−トリメトキシ桂皮酸、α−（３，５
−ジメチルフェノキシ）−３，４，５−トリメトキシ桂
皮酸、α−（３，５−ジメチルフェノキシ）−２，４，
５−トリメチル桂皮酸、α−（３，５−ジメチルフェノ
キシ）−４−フェニル桂皮酸、α−（３，５−ジメチル
フェノキシ）−４−アリルオキシ桂皮酸、α−（３，５
−ジメチルフェノキシ）−４−アセチル桂皮酸、α−
（３，５−ジメチルフェノキシ）桂皮酸、α−（３，５
−ジメチルフェノキシ）−３，４−メチレンジオキシ桂
皮酸

【００１８】また、上記の化合物のナトリウム塩、メチ
ルエステル、エチルエステル、ｎ−プロピルエステル、
ｎ−ブチルエステル、ｉｓｏ−ブチルエステル、ｔ−ブ
チルエステル、ｎ−ペンチルエステル、ｎ−ヘキシルエ
ステル、ｎ−オクチルエステル、２−エチルヘキシルエ
ステル及びアリルエステルも例示される。本発明のα−
オキシ桂皮酸誘導体は、例えば次式に示す如き公知の方
法〔Ｐｒｏｃ．Ｉｎｄｉａｎ Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．，８
２Ｂ，２２４（１９７５）やＡｃｔａ Ｃｈｅｍ．Ａｃ
ａｎｄ．，Ｂ３１，７２５（１９７７）〕に従い、製造
することができる。

【００１９】

【化６】

【００２０】〔式中、Ｒ、Ｙ及びｎは前記と同じものを
示し、Ｚはエステル基を示す〕すなわち、ベンズアルデ
ヒド誘導体（２）とα−オキシ酢酸エステル（３）とを
塩基触媒下、２０〜１５０℃で数時間〜十数時間反応さ
せることにより、α−オキシ桂皮酸誘導体（１ａ）又は
α−オキシ桂皮酸エステル誘導体（１ｂ）を製造するこ
とができる。

【００２１】ここで化合物（１ａ）とエステル体（１
ｂ）のいずれが生成するかは、用いられる塩基及び溶媒
により決定される。すなわち、化合物（１ａ）を得るた
めには水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの金属水
素化物とジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、
テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの非プロトン性溶媒を用い、エステル体（１ｂ）を得
るためにはナトリウムメトキシドとメタノール、ナトリ
ウムエトキシドとエタノール、カリウム−ｔ−ブトキシ
ドとｔ−ブタノールなどの金属アルコラート類と対応す
るアルコール類を用いればよい。得られた化合物（１
ａ）は、常法により種々のエステル体や塩とすることが
できる。

【００２２】本発明の紫外線吸収剤は、上記の如くして
得られるα−オキシ桂皮酸誘導体（１）の１種又は２種
以上をそのまま使用してもよいが、担体に加えて混和せ
しめた形態のものが好ましい。担体としては、上記α−
オキシ桂皮酸誘導体（１）に対して不活性なものであれ
ば特に制限されず、固体、液体、乳剤、泡状体、ゲル等
のいずれであってもよい。その代表的なものとしては、
例えば水、アルコール、油脂（例えば炭化水素オイル、
脂肪酸エステル、長鎖アルコール、シリコーン油）、澱
粉又はタルク等の微粉末、エアゾール噴射剤として使用
される低沸点炭化水素又はハロゲン化炭化水素等が挙げ
られる。

【００２３】さらに本発明の紫外線吸収剤には、α−オ
キシ桂皮酸誘導体（１）の紫外線吸収作用を損わない限
りにおいて、他の成分、例えば防腐剤、香料、着色料、
界面活性剤等を添加配合することができる。

【００２４】α−オキシ桂皮酸誘導体（１）を含有する
化粧料（以下、「本発明化粧料」と称する）は、その化
粧料基剤に対して親和性を有するα−オキシ桂皮酸誘導
体（１）の１種又は２種以上を適宜選択し、これを常法
により公知の化粧料基剤に配合し、クリーム、溶液、油
剤、スプレー、スティック、乳液、ファンデーション、
軟膏等の剤型にすることにより調製される。

【００２５】すなわち、α−オキシ桂皮酸誘導体（１）
を化粧料基剤に合わせて選択使用することにより、オイ
ル基剤の化粧油、多量にオイルを配合する油性クリーム
や油性乳液、水を多量に配合する弱油性クリームや弱油
性乳液、水ベースの化粧水等の基礎化粧品から油剤を基
剤とするファンデーションやリップスティック等のメイ
クアップ化粧料に至るまで、紫外線吸収作用を有するあ
らゆる形態の化粧品を製造することができる。これに適
した基剤及び溶剤としては、固体状あるいは液状パラフ
ィン、クリスタルオイル、セレシン、オゾケライト又は
モンタンろうなどの炭化水素類；オリーブ、地ろう、カ
ルナウバロウ、ラノリン又は鯨ろうなどの植物油もしく
は動物性油脂やろう；さらにステアリン酸、パルミチン
酸、オレイン酸、グリセリンモノステアリン酸エステ
ル、グリセリンジステアリン酸エステル、グリセリンモ
ノオレイン酸エステル、イソプロピルミリスチン酸エス
テル、イソプロピルステアリン酸エステル又はブチルス
テアリン酸エステル等の脂肪酸及びそのエステル類；メ
チルポリシロキサン、メチルポリシクロシロキサン、メ
チルフェニルポリシロキサン、シリコーンポリエーテル
コポリマーなどのシリコーン類；エチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、セチルアルコール、ステアリル
アルコール、パルミチルアルコール又はヘキシルドデシ
ルアルコール等のアルコール類などが挙げられる。ま
た、グリコール、グリセリン又はソルビトールなどの保
湿作用を有する多価アルコール類も使用することができ
る。

【００２６】さらに、また基剤としては、マイカ、タル
ク、セリサイト、カオリン、ナイロンパウダー、ポリメ
チルシルセスキオキサン、硫酸バリウム等の体質顔料、
赤色２０２号、赤色２２６号、黄色４号、アルミニウム
レーキ等の有機顔料、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄等
の紫外線散乱剤も使用することができる。酸化チタン、
酸化亜鉛は粒径が１００nm以下の市販の微粒子酸化チタ
ン、微粒子酸化亜鉛をそのまま用いてもよく、また特開
平１−１７５９２１号公報記載の薄片状酸化亜鉛を用い
ることもできる。これらの体質顔料、有機顔料、紫外線
錯乱剤は、公知の方法でメチルハイドロジェンポリシロ
キサン等でシリコン処理したものや、パーフルオロアル
キルリン酸エステル、金属石鹸、Ｎ−アシルグルタミン
酸、シリカ、アルミナ、シリカ・アルミナ等で表面処理
したものも使用できる。

【００２７】本発明紫外線吸収剤及び化粧料中のα−オ
キシ桂皮酸誘導体の配合量は、使用形態により変動し得
るので特に限定されず、有効量存在すればよいが、一般
には全組成物中に０．１〜２０重量％、好ましくは０．
５〜１０重量％となるように配合するのがよい。

【００２８】本発明紫外線吸収剤及び化粧料はα−オキ
シ桂皮酸誘導体（１）を配合したのみでもよいが、さら
に他の紫外線吸収剤と組み合わせて、通常の日焼け止め
化粧料として使用するのがより好ましい。このような紫
外線吸収剤としては、例えばｐ−メチルベンジリデン−
Ｄ、Ｌ−ショウノウ又はそのスルホン酸ナトリウム塩；
２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸ナト
リウム塩、３，４−ジメチルフェニルグリオキシル酸ナ
トリウム塩、４−フェニルベンゾフェノン、４−フェニ
ルベンゾフェノン−２′−カルボン酸イソオクチルエス
テル、４−メトキシ桂皮酸エステル、２−フェニル−５
−メチルベンズオキサゾール、４−ジメチルアミノ安息
香酸エステル、４−メトキシ−２′−カルボキシジベン
ゾイルメタン、４−メトキシ−４′−ｔ−ブチルジベン
ゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、
２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン又はジベ
ンジリデンカンファー類などが挙げられる。

【００２９】本発明化粧料には、上記成分のほか、種々
の添加剤を加えることができる。適当な添加剤として
は、例えばＷ／Ｏ型及びＯ／Ｗ型の乳化剤が挙げられ
る。乳化剤としては、市販の乳化剤が使用できる。さら
に、シリコーン類の乳化にあたり、ポリエーテル変性シ
リコーン、ポリエーテル・アルキル変性シリコーン、グ
リセリルエーテル変性シリコーンを配合してもよい。

【００３０】またメチルセルロース、エチルセルロース
又はカルボキシメチルセルロース、ポリアクリル酸、ト
ラガカント、寒天又はゼラチン等の増粘剤も添加剤とし
て加えることもできる。さらに、必要に応じて、香料、
防腐剤、保湿剤、乳化安定剤、薬効成分及び／又は生理
的に許容し得る着色剤を添加してもよい。

【００３１】

【発明の効果】本発明の紫外線吸収剤及び化粧料は、優
れた紫外線吸収効果を示し、さらに光に対して安定であ
る。

【００３２】

【実施例】次に、実施例を挙げて、本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではない。なお、以下の本発明化合物の番号は実施例及
び試験例のみに適用される。

【００３３】実施例１ α−フェノキシ−４−メトキシ桂皮酸（本発明化合物
１；一般式（１）中、Ｒ＝Ｐｈ、Ｘ＝ＣＯ₂Ｈ、Ｙ＝Ｏ
Ｍｅ、ｎ＝１）の合成：

【００３４】攪拌装置、滴下漏斗及び窒素導入管を備え
た３００mlの三口フラスコに６０％水素化ナトリウム
３．３６ｇ（０．０８４mol）を入れ、３０mlのトルエ
ンに分散混合し、６０℃に加熱した。これに、フェノキ
シ酢酸メチル５．４８ｇ（０．０３３mol）及び４−メ
トキシベンズアルデヒド４．０８ｇ（０．０３０mol）
を４０mlのトルエンに溶かした溶液を、約１時間かけて
注意深く滴下し、７時間加熱攪拌を続けた。放冷後、反
応混合物に希塩酸を注いでpHを６に調節した。これをジ
エチルエーテルで希釈したのち、５％重曹水で３回抽出
した。抽出した水層を希塩酸でpHを２に調節後、ジエチ
ルエーテルで３回抽出した。抽出した有機層を水洗した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、
アセトンに溶かし結晶化させると黄色の粗結晶が得られ
た。この粗結晶をアセトンから再結晶し、目的の標記化
合物を白色結晶として３．７８ｇ（収率４７％）得た。

【００３５】融点：202.7℃ IR（νKBr, cm^-1）：3140, 3085, 2600, 1705, 1640, 1
600, 1510, 1485,1405, 1365, 1300, 1255, 1210, 117
0, 1105, 1075,1020, 895, 820, 750, 690, 520.¹ H-NMR(CDCl₃,δ)：3.80(3H,s), 6.85(2H,d,J=8.9Hz),
6.95-7.10(2H,m),7.20-7.40(2H,m), 7.46(1H,s), 7.67
(2H,d,J=8.9Hz).

【００３６】実施例２ α−フェノキシ−４−メトキシ桂皮酸ナトリウム（本発
明化合物２；一般式（１）中、Ｒ＝Ｐｈ、Ｘ＝ＣＯ₂Ｎ
ａ、Ｙ＝ＯＭｅ、ｎ＝１）の合成：

【００３７】攪拌装置、滴下漏斗を備えた２００mlの三
口フラスコに実施例１で得られたα−フェノキシ−４−
メトキシ桂皮酸（本発明化合物１）０．４０ｇ（０．０
０１５mol）を入れ、７０mlの２−プロパノールに溶解
させた。これに、２規定水酸化ナトリウム水溶液０．７
４ml（０．００１５mol）を滴下し、２０℃で３時間攪
拌を続けた。溶媒を留去し、メタノールと水の混合溶媒
から再結晶し、目的の標記化合物を白色結晶として０．
４１２ｇ（収率９５％）得た。

【００３８】融点：300℃以上 IR（νKBr, cm^-1）：3440, 3010, 1650, 1585, 1510, 1
490, 1395, 1335,1300, 1260, 1210, 1170, 1100, 102
5, 910, 825, 795,750, 520.¹ H-NMR(DMSO-d₆,δ)：3.70(3H,s), 6.75-7.00(7H,m),
7.15-7.30(2H,m),7.49(2H,d,J=8.8Hz).

【００３９】実施例３ α−フェノキシ−４−メトキシ桂皮酸エチル（本発明化
合物３；一般式（１）中、Ｒ＝Ｐｈ、Ｘ＝ＣＯ₂Ｅｔ、
Ｙ＝ＯＭｅ、ｎ＝１）の合成：

【００４０】攪拌装置、還流冷却器を備えた２００mlの
三口フラスコに実施例１で得られたα−フェノキシ−４
−メトキシ桂皮酸（本発明化合物１）０．４５ｇ（０．
００１７mol）を入れ、６０mlのエタノールに溶解させ
た。これに、濃硫酸３mlを加え、１０時間加熱還流を続
けた。反応混合物を濃縮後、酢酸エチルにて希釈して飽
和重曹水で３回、続いて水で２回洗浄した。有機層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣を
ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒（１０：１）に溶かし
結晶化させると白色の粗結晶が得られた。この粗結晶を
ヘキサンから再結晶し、目的の標記化合物を白色結晶と
して０．４５ｇ（収率９１％）得た。

【００４１】融点：60.8 ℃ IR（νKBr, cm^-1）：3420, 2990, 1710, 1640, 1600, 1
570, 1510, 1495,1445, 1425, 1395, 1355, 1310, 125
5, 1210, 1175,1115, 1100, 1020, 810, 745, 525.¹ H-NMR(CCl₄,δ)：1.13(3H,t,J=6.5Hz), 3.74(3H,s),
4.10(2H,q,J=6.5Hz),6.63-7.80(10H,m).

【００４２】実施例４ α−メトキシ−４−メトキシ桂皮酸（本発明化合物４；
一般式（１）中、Ｒ＝Ｍｅ、Ｘ＝ＣＯ₂Ｈ、Ｙ＝ＯＭ
ｅ、ｎ＝１）の合成：

【００４３】６０％水素化ナトリウム１０．０８ｇ
（０．２５２mol）、メトキシ酢酸エチル１４．０５ｇ
（０．１３５mol）、４−メトキシベンズアルデヒド１
２．２４ｇ（０．０９０mol）及びトルエン２００mlを
使用し、実施例１と同様にして、６０℃で１２時間反応
させることにより、目的の標記化合物を白色結晶として
６．１５ｇ（収率３３％）得た。

【００４４】融点：166.0℃ IR（νKBr, cm^-1）：2970, 2950, 2845, 2650, 2600, 2
560, 1670, 1625,1600, 1570, 1505, 1445, 1425, 136
0, 1310, 1280,1255, 1210, 1175, 1110, 1000, 920, 8
95, 820, 710,530, 500.¹ H-NMR(CDCl₃,δ)：3.80(3H,s), 3.85(3H,s), 6.92(2H,
d,J=8.8Hz),7.14(1H,s), 7.76(2H,d,J=8.8Hz).

【００４５】実施例５ α−メトキシ−４−メトキシ桂皮酸ナトリウム（本発明
化合物５；一般式（１）中、Ｒ＝Ｍｅ、Ｘ＝ＣＯ₂Ｎ
ａ、Ｙ＝ＯＭｅ、ｎ＝１）の合成：

【００４６】実施例４で得られたα−メトキシ−４−メ
トキシ桂皮酸（本発明化合物４）０．６０ｇ（０．００
２９mol）、２規定水酸化ナトリウム水溶液１．４４ml
（０．００２９mol）及び２−プロパノール１２０mlを
使用し、実施例２と同様にして、２０℃で４時間反応さ
せることにより、目的の標記化合物を白色結晶として
０．４８ｇ（収率７３％）得た。

【００４７】融点：204.3℃（分解） IR（νKBr, cm^-1）：3405, 2965, 1645, 1585, 1510, 1
465, 1390, 1320,1300, 1255, 1175, 1095, 1030, 100
0, 820, 775, 670.¹ H-NMR(DMSO-d₆,δ)：3.67(3H,s), 3.72(3H,s), 6.34(1
H,s),6.85(2H,d,J=8.8Hz), 7.53(2H,d,J=8.8Hz).

【００４８】実施例６ α−メトキシ−４−メトキシ桂皮酸エチル（本発明化合
物６；一般式（１）中、Ｒ＝Ｍｅ、Ｘ＝ＣＯ₂Ｅｔ、Ｙ
＝ＯＭｅ、ｎ＝１）の合成：

【００４９】実施例４で得られたα−メトキシ−４−メ
トキシ桂皮酸（本発明化合物４）０．７０ｇ（０．００
３４mol）、硫酸５ml及びエタノール１００mlを使用
し、実施例３と同様にして、１２時間加熱還流させるこ
とにより、目的の標記化合物を無色油状物として０．７
３ｇ（収率９２％）得た。

【００５０】IR（νneat, cm^-1）：2980, 2840, 1710,
1630, 1605, 1510, 1450, 1420,1365, 1300, 1250, 120
0, 1175, 1095, 1025, 885, 830.¹ H-NMR(CCl₄,δ)：1.34(3H,t,J=6.5Hz), 3.73(3H,s),
3.77(3H,s),4.21(2H,q,J=6.5Hz), 6.76(2H,d,J=8.8Hz),
6.77(1H,s),7.83(2H,d,J=8.8Hz).

【００５１】実施例７ α−（２−メトキシフェノキシ）−４−メトキシ桂皮酸
エチル（本発明化合物７；一般式（１）中、Ｒ＝２−Ｍ
ｅＯＣ₆Ｈ₄，Ｘ＝ＣＯ₂Ｅｔ、Ｙ＝ＯＭｅ、ｎ＝１）の
合成：

【００５２】攪拌装置及び窒素導入管を備えた２００ml
の三口フラスコにカリウム−ｔ−ブトキシド１．８５ｇ
（０．０１７mol）を入れ、４０mlのｔ−ブタノールに
分散混合した。これに、４−メトキシベンズアルデヒド
１．８９ｇ（０．０１５mol）及び２−メトキシフェノ
キシ酢酸エチル３．４７ｇ（０．０１７mol）を加え、
２０℃で２時間攪拌を続けた。反応混合物に希塩酸を注
いでpHを５に調節後、溶媒を留去した。残渣をジエチル
エーテルで希釈したのち、５％重曹水で３回、水で２回
洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を留去して黄色の油状物を得た。この油状物をヘキサ
ン＋酢酸エチル（１０：１〜５：１）を展開溶媒として
シリカゲルカラムクロマトグラフィーを行い、目的の標
記化合物を無色油状物として２．６２ｇ（収率５３％）
得た。

【００５３】IR（νneat, cm^-1）：2975, 2840, 1710,
1640, 1605, 1500, 1460, 1350,1300, 1260, 1210, 117
0, 1120, 1090, 1020, 905,825, 740.¹ H-NMR(CCl₄,δ)：1.12(3H,t,J=6.5Hz), 3.72(3H,s),
3.85(3H,s),4.05(2H,q,J=6.5Hz), 6.59-7.00(6H,m), 7.
13(1H,s),7.57(2H,d,J=9.0Hz).

【００５４】試験例１ 本発明化合物の紫外線吸収効果：本発明化合物として前
記実施例で得られた１〜７を用い、比較化合物として公
知の紫外線吸収剤２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フェノン（比較化合物１）及び４−メトキシ桂皮酸２−
エチルヘキシル（比較化合物２）を用い、紫外線吸収効
果（吸光度）を下記測定方法により調べた。結果を表１
に示す。

【００５５】（測定方法）被験化合物をエタノール（９
９．５％試薬特級）に溶解して２．５×１０^-5mol／ｌ
濃度の溶液を調製し、石英セル（１cm×１cm）に入れた
後、自記分光光度計（日立製Ｕ−３４１０型）により吸
光度を測定した。

【００５６】

【表１】

【００５７】表１から明らかなように、本発明化合物は
ＵＶ−Ｂ紫外線に対して、紫外線吸収剤として汎用され
ている比較化合物より吸収効果が強く、日焼け止め効果
の高いことがわかる。

【００５８】試験例２ 本発明化合物の紫外線に対する安定性：前記実施例で得
た本発明化合物１〜７の化合物を用い、比較化合物とし
て４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシルを用い、乳化
系モデルであるドデシル硫酸ナトリウム水溶液によりも
たらされるミセル中での光安定性を、下記実験方法によ
り試験した。結果を表２に示す。

【００５９】（実験方法）８mmol／ｌドデシル硫酸ナト
リウム水溶液中、本発明化合物並びに比較化合物を０．
１mmol／ｌになるように溶解し、石英セル（１cm×１c
m）に入れた後、太陽光に極めて近似の波長及び強度を
有するキセノン耐光試験機を用いて２時間紫外線を照射
した。紫外線照射前の試験溶液及び紫外線２時間照射後
の試験溶液各３mlそれぞれに９９．５％エタノール２ml
を加えたのちに紫外線吸収効果（吸光度）を測定し、そ
の残存率から光安定性を評価した結果を表２に示す。

【００６０】

【表２】

【００６１】表２の結果より、紫外線吸収剤として汎用
されている４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシルと比
較し、本発明化合物は紫外線に対して安定性が優れてい
ることが明らかである。

【００６２】実施例８ パウダーファンデーション：常法により、下記組成のパ
ウダーファンデーションを製造した。

【表３】 （組成） （重量％） １．マイカ 残量 ２．タルク ２０ ３．酸化チタン １０ ４．ベンガラ １ ５．黄酸化鉄 ２ ６．黒酸化鉄 １ ７．流動パラフィン １０ ８．ミツロウ ２ ９．防腐剤 適量 １０．本発明化合物３ ５１１．香料 適量 計 １００．０

【００６３】実施例９ クリーム状ファンデーション：常法により、下記組成の
クリーム状ファンデーションを製造した。

【表４】 （組成） （重量％） １．ステアリン酸 ５ ２．親油型モノステアリン酸グリセリン ３ ３．セトステアリルアルコール １ ４．モノラウリン酸プロピレングリコール ３ ５．スクワラン ７ ６．オリーブ油 ８ ７．精製水 残量 ８．防腐剤 適量 ９．トリエタノールアミン １．２ １０．ソルビット ３ １１．酸化チタン １０ １２．タルク ５ １３．着色顔料 適量 １４．本発明化合物３ ７１５．香料 適量 計 １００．０

【００６４】実施例１０ 油性ファンデーション：常法により、下記組成の油性フ
ァンデーションを製造した。

【表５】 （組成） （重量％） １．本発明化合物３ ５ ２．タルク 残量 ３．カオリン １２ ４．酸化チタン １３ ５．ベンガラ １．５ ６．黄酸化鉄 ２０ ７．黒酸化鉄 ０．５ ８．流動パラフィン １５ ９．パルミチン酸イソプロピル １０ １０．ラノリンアルコール ３ １１．マイクロクリスタリンワックス ７ １２．オゾケライト ８ １３．防腐剤 適量１４．香料 適量 計 １００．０

【００６５】実施例１１ クリーム：常法により、下記組成のＯ／Ｗクリームを製
造した。

【表６】 （組成） （重量％） １．ミツロウ ６ ２．セタノール ５ ３．水添ラノリン ７ ４．スクワラン ３３ ５．脂肪酸グリセリン ３．５ ６．親油型モノステアリン酸グリセリン ２ ７．ポリオキシエチレン（E.O.20）ソルビタン モノラウリン酸エステル ２ ８．本発明化合物３ ６ ９．香料 微量 １０．防腐剤 適量 １１．酸化防止剤 適量１２．精製水 残量 計 １００．０

【００６６】実施例１２ クリーム：常法により、下記組成のＷ／Ｏクリームを製
造した。

【表７】 （組成） （重量％） １．本発明化合物３ ５ ２．４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ３ ３．シリコン処理酸化チタン ０．５ ４．ジメチルポリシロキサン・メチル（ポリオキシ エチレン）シロキサン共重合体 ３ ５．メチルポリシロキサン １０ ６．メチルポリシクロポリシロキサン １０ ７．スクワラン ５ ８．硫酸マグネシウム ０．７ ９．グリセリン ７ １０．香料 微量 １１．防腐剤 適量 １２．酸化防止剤 適量１３．精製水 残量 計 １００．０

【００６７】実施例１３ クリーム：常法により、下記組成のＷ／Ｏクリームを製
造した。

【表８】 （組成） （重量％） １．本発明化合物３ ４ ２．シリコン処理薄片状酸化亜鉛 ２ ３．４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ４ ４．ジメチルポリシロキサン・メチル（ポリオキシ エチレン）シロキサン共重合体 ３ ５．メチルポリシロキサン １０ ６．メチルポリシクロポリシロキサン １０ ７．スクワラン ４ ８．硫酸マグネシウム ０．５ ９．グリセリン ７ １０．香料 微量 １１．防腐剤 適量 １２．酸化防止剤 適量１３．精製水 残量 計 １００．０

【００６８】実施例１４ 乳液：常法により、下記組成のＯ／Ｗ乳液を製造した。

【表９】 （組成） （重量％） １．本発明化合物３ ４ ２．シリコン処理酸化チタン １ ３．４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ４ ４．ソルビタンセスキオレイン酸エステル ０．８ ５．ポリオキシエチレン（E.O.20）オレイルエーテル １．２ ６．スクワラン ５ ７．ワセリン ２ ８．ミツロウ ０．５ ９．シリコン処理タルク ５ １０．プロピレングリコール ５ １１．エタノール ５ １２．カルボキシビニルポリマー１０％水溶液 ２０ １３．水酸化カリウム ０．１１４．精製水 残量 計 １００．０

【００６９】実施例１５ 乳液：常法により、下記組成のＯ／Ｗ乳液を製造した。

【表１０】 （組成） （重量％） １．本発明化合物３ ５ ２．４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ２ ３．シリコン処理酸化チタン １ ４．親油型モノオレイン酸グリセリン ２ ５．ポリオキシエチレン（E.O.20）ソルビタンモノラウリン 酸エステル １ ６．スクワラン １０ ７．シリコン処理タルク ５ ８．グリセリン ５ ９．防腐剤 適量 １０．香料 適量 １１．酸化防止剤 残量１２．精製水 残量 計 １００．０

【００７０】実施例１６ クリーム：常法により、下記組成のＷ／Ｏクリームを製
造した。

【表１１】 （組成） （重量％） １．α−フェノキシ−４−ヒドロキシ桂皮酸２− エチルヘキシル ４ ２．シリコン処理薄片状酸化亜鉛 ２ ３．４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ４ ４．ジメチルポリシロキサン・メチル（ポリオキシ エチレン）シロキサン共重合体 ３ ５．メチルポリシロキサン １０ ６．メチルポリシクロポリシロキサン １０ ７．スクワラン ４ ８．硫酸マグネシウム ０．５ ９．グリセリン ７ １０．香料 微量 １１．防腐剤 適量 １２．酸化防止剤 適量１３．精製水 残量 計 １００．０

【００７１】実施例１７ クリーム：常法により、下記組成のＷ／Ｏクリームを製
造した。

【表１２】 （組成） （重量％） １．α−エトキシ−４−メチル桂皮酸２−エチルヘキシル ４ ２．シリコン処理薄片状酸化亜鉛 ２ ３．４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ４ ４．ジメチルポリシロキサン・メチル（ポリオキシ エチレン）シロキサン共重合体 ３ ５．メチルポリシロキサン １０ ６．メチルポリシクロポリシロキサン １０ ７．スクワラン ４ ８．硫酸マグネシウム ０．５ ９．グリセリン ７ １０．香料 微量 １１．防腐剤 適量 １２．酸化防止剤 適量１３．精製水 残量 計 １００．０

【００７２】実施例１８ クリーム：常法により、下記組成のＷ／Ｏクリームを製
造した。

【表１３】 （組成） （重量％） １．α−フェノキシ−３，４−ジメトキシ桂皮酸２− エチルヘキシル ４ ２．シリコン処理薄片状酸化亜鉛 ２ ３．４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ４ ４．ジメチルポリシロキサン・メチル（ポリオキシ エチレン）シロキサン共重合体 ３ ５．メチルポリシロキサン １０ ６．メチルポリシクロポリシロキサン １０ ７．スクワラン ４ ８．硫酸マグネシウム ０．５ ９．グリセリン ７ １０．香料 微量 １１．防腐剤 適量 １２．酸化防止剤 適量１３．精製水 残量 計 １００．０

【００７３】実施例１９ クリーム：常法により、下記組成のＷ／Ｏクリームを製
造した。

【表１４】 （組成） （重量％） １．α−フェノキシ−３，４，５−トリメトキシ桂皮酸 ２−エチルヘキシル ４ ２．シリコン処理薄片状酸化亜鉛 ２ ３．４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ４ ４．ジメチルポリシロキサン・メチル（ポリオキシ エチレン）シロキサン共重合体 ３ ５．メチルポリシロキサン １０ ６．メチルポリシクロポリシロキサン １０ ７．スクワラン ４ ８．硫酸マグネシウム ０．５ ９．グリセリン ７ １０．香料 微量 １１．防腐剤 適量 １２．酸化防止剤 適量１３．精製水 残量 計 １００．０

【００７４】実施例２０ クリーム：常法により、下記組成のＷ／Ｏクリームを製
造した。

【表１５】 （組成） （重量％） １．α−フェノキシ−４−アリルオキシ桂皮酸２−エチ ルヘキシル ４ ２．シリコン処理薄片状酸化亜鉛 ２ ３．４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ４ ４．ジメチルポリシロキサン・メチル（ポリオキシ エチレン）シロキサン共重合体 ３ ５．メチルポリシロキサン １０ ６．メチルポリシクロポリシロキサン １０ ７．スクワラン ４ ８．硫酸マグネシウム ０．５ ９．グリセリン ７ １０．香料 微量 １１．防腐剤 適量 １２．酸化防止剤 適量１３．精製水 残量 計 １００．０

【００７５】実施例２１ クリーム：常法により、下記組成のＷ／Ｏクリームを製
造した。

【表１６】 （組成） （重量％） １．α−フェノキシ−４−アセチル桂皮酸２−エチルヘキシル ４ ２．シリコン処理薄片状酸化亜鉛 ２ ３．４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ４ ４．ジメチルポリシロキサン・メチル（ポリオキシ エチレン）シロキサン共重合体 ３ ５．メチルポリシロキサン １０ ６．メチルポリシクロポリシロキサン １０ ７．スクワラン ４ ８．硫酸マグネシウム ０．５ ９．グリセリン ７ １０．香料 微量 １１．防腐剤 適量 １２．酸化防止剤 適量１３．精製水 残量 計 １００．０

【００７６】実施例２２ クリーム：常法により、下記組成のＷ／Ｏクリームを製
造した。

【表１７】 （組成） （重量％） １．α−ｎ−ブトキシ−４−メトキシ桂皮酸ナトリウム ４ ２．シリコン処理薄片状酸化亜鉛 ２ ３．４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ４ ４．ジメチルポリシロキサン・メチル（ポリオキシ エチレン）シロキサン共重合体 ３ ５．メチルポリシロキサン １０ ６．メチルポリシクロポリシロキサン １０ ７．スクワラン ４ ８．硫酸マグネシウム ０．５ ９．グリセリン ７ １０．香料 微量 １１．防腐剤 適量 １２．酸化防止剤 適量１３．精製水 残量 計 １００．０

【００７７】実施例２３ クリーム：常法により、下記組成のＷ／Ｏクリームを製
造した。

【表１８】 （組成） （重量％） １．α−フェノキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ４ ２．シリコン処理薄片状酸化亜鉛 ２ ３．４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ４ ４．ジメチルポリシロキサン・メチル（ポリオキシ エチレン）シロキサン共重合体 ３ ５．メチルポリシロキサン １０ ６．メチルポリシクロポリシロキサン １０ ７．スクワラン ４ ８．硫酸マグネシウム ０．５ ９．グリセリン ７ １０．香料 微量 １１．防腐剤 適量 １２．酸化防止剤 適量１３．精製水 残量 計 １００．０

【００７８】実施例２４ クリーム：常法により、下記組成のＷ／Ｏクリームを製
造した。

【表１９】 （組成） （重量％） １．α−（２−エチルヘキシルオキシ）−４−メト キシ桂皮酸エチル ４ ２．シリコン処理薄片状酸化亜鉛 ２ ３．４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ４ ４．ジメチルポリシロキサン・メチル（ポリオキシ エチレン）シロキサン共重合体 ３ ５．メチルポリシロキサン １０ ６．メチルポリシクロポリシロキサン １０ ７．スクワラン ４ ８．硫酸マグネシウム ０．５ ９．グリセリン ７ １０．香料 微量 １１．防腐剤 適量 １２．酸化防止剤 適量１３．精製水 残量 計 １００．０

【００７９】実施例２５ クリーム：常法により、下記組成のＷ／Ｏクリームを製
造した。

【表２０】 （組成） （重量％） １．α−フェノキシ−３，４−メチレンジオキシ桂皮酸ブチル ４ ２．シリコン処理薄片状酸化亜鉛 ２ ３．４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ４ ４．ジメチルポリシロキサン・メチル（ポリオキシ エチレン）シロキサン共重合体 ３ ５．メチルポリシロキサン １０ ６．メチルポリシクロポリシロキサン １０ ７．スクワラン ４ ８．硫酸マグネシウム ０．５ ９．グリセリン ７ １０．香料 微量 １１．防腐剤 適量 １２．酸化防止剤 適量１３．精製水 残量 計 １００．０

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/734 Ｚ 9279−4Ｈ 69/76 Ｚ 9279−4Ｈ 205/56 255/57 Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４ Ｚ (72)発明者 山木 和広 千葉県船橋市習志野台１−21−25

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 次の一般式（１） 【化１】 〔式中、Ｒはアルキル基、フェニル基又は置換基を有す
   るフェニル基を示し、Ｘはカルボキシル基若しくはその
   塩又はエステル基を示し、Ｙは同一又は異なってアルキ
   ル基、アリール基、水酸基、アルコキシ基、アルケニル
   オキシ基、パーフルオロアルキル基、アルコキシカルボ
   ニル基、アシル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原
   子を示すか、又は２個のＹでα−メチレンジオキシ基を
   形成してもよく、ｎはそれぞれ０〜５の整数を示す〕で
   表わされるα−オキシ桂皮酸誘導体を含有することを特
   徴とする紫外線吸収剤。
2. 【請求項２】 次の一般式（１） 【化２】 〔式中、Ｒはアルキル基、フェニル基又は置換基を有す
   るフェニル基を示し、Ｘはカルボキシル基若しくはその
   塩又はエステル基を示し、Ｙは同一又は異なってアルキ
   ル基、アリール基、水酸基、アルコキシ基、アルケニル
   オキシ基、パーフルオロアルキル基、アルコキシカルボ
   ニル基、アシル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原
   子を示すか、又は２個のＹでα−メチレンジオキシ基を
   形成してもよく、ｎはそれぞれ０〜５の整数を示す〕で
   表わされるα−オキシ桂皮酸誘導体を含有することを特
   徴とする化粧料。
3. 【請求項３】 次の一般式（１′） 【化３】 〔式中、Ｒ¹ は炭素数６以上のアルキル基、フェニル基
   又は塩素原子以外の置換基を有するフェニル基を示し、
   Ｘ¹ はカルボキシル基若しくはその塩又はエステル基を
   示し、Ｙ¹ は同一又は異なってアルキル基、水酸基、ア
   ルコキシ基、アルケニルオキシ基又はアシル基を示す
   か、又は２個のＹ¹ でα−メチレンジオキシ基を形成し
   てもよく、ｎ１はそれぞれ０〜３の整数を示す。ただ
   し、ｎ１が０であり、Ｒ¹ がフェニル基であり、かつＸ
   ¹ がカルボキシル基若しくはそのメチルエステルである
   場合；ｎ１が１であり、Ｙ¹ が４位のメトキシ基若しく
   は４位のメチル基であり、Ｒ¹ がフェニル基であり、か
   つＸがカルボキシル基若しくは、このメチルエステルで
   ある場合；ｎ１が２であり、Ｙ¹ が３位と４位が結ばれ
   るα−メチレンジオキシ基であり、Ｒ¹ がフェニル基で
   あり、かつＸがカルボキシル基若しくは、このメチルエ
   ステルである場合；ｎ１が２であり、Ｙ¹ が３位と４位
   の双方に存在するメトキシ基であり、Ｒ¹ がフェニル基
   若しくは２位にメトキシ基を有するフェニル基であり、
   かつＸ¹ がカルボキシル基若しくは、このメチルエステ
   ルである場合を除く。〕で表わされるα−オキシ桂皮酸
   誘導体。