JP2018182018A - 離間装置および離間方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、切断手段を備えれば、接着シート上で相互間隔が広げられた被着体を別の工程に搬送する際、接着シートの端部が搬送の妨げになることを防止することができる。
さらに、間隔維持部材として、基材と保持用接着剤層との少なくとも2層の積層体を採用すれば、間隔維持部材の選択自由度がさらに広がり、汎用性が欠如することを効果的に防止することができる。
また、維持部材取付手段が積層手段を備えれば、予め基材と保持用接着剤層とが積層された間隔維持部材を用意する必要がなくなる。
さらに、間隔維持部材として、他の接着シートを採用すれば、当該間隔維持部材を簡単に接着シートに取り付けることができる。
なお、本実施形態におけるX軸、Y軸、Z軸は、それぞれが直交する関係にあり、X軸およびY軸は、所定平面内の軸とし、Z軸は、前記所定平面に直交する軸とする。さらに、本実施形態では、Y軸と平行な矢印BD方向から観た場合を基準とし、基準となる図を挙げることなく方向を示した場合、「上」がZ軸の矢印方向で「下」がその逆方向、「左」がX軸の矢印方向で「右」がその逆方向、「前」がY軸の矢印方向で「後」がその逆方向とする。
なお、接着シートASは、基材シートの一方の面に接着剤層が積層され、張力が付与された後、当該張力が解除されると、変形前の状態に近付こうとする性質を備えている。
すなわち、維持部材取付手段50は、Y軸方向に移動するスライダ51Aを備えた駆動機器としてのリニアモータ51と、スライダ51Aに支持され、X軸方向に移動するスライダ52Aを備えた駆動機器としてのリニアモータ52と、スライダ52Aに支持された駆動機器としての直動モータ53と、その出力軸53Aに支持され、減圧ポンプや真空エジェクタ等の図示しない減圧手段によって間隔維持部材DMを支持可能な支持面54Aを有する支持テーブル54と、硝子板GPに両面接着シートBAを積層し、間隔維持部材DMを形成する積層手段55とを備えている。
積層手段55は、両面接着シートBAの一方の面が帯状の剥離シートRL上に仮着され、他方の面にカバーシートCSが仮着された原反RSを支持する支持ローラ55Aと、原反RSを案内するガイドローラ55Bと、剥離シートRLを折り返し、当該剥離シートRLから両面接着シートBAを剥離する剥離手段としての剥離板55Cと、カバーシートCSを介して硝子板GPに両面接着シートBAを押圧して貼付するとともに、両面接着シートBAからカバーシートCSを剥離する押圧手段としての押圧ローラ55Dと、駆動機器としての回動モータ55Eによって駆動され、カバーシートCSを回収する第1回収ローラ55Fと、駆動機器としての回動モータ55Gによって駆動され、ピンチローラ55Jとの間に剥離シートRLを挟み込む駆動ローラ55Hと、図示しない駆動機器によって駆動し、剥離シートRLを回収する第2回収ローラ55Kとを備えている。
先ず、各部材が図1(A)、(B)中実線で示す初期位置で待機している離間装置10に対し、当該離間装置10の使用者(以下、単に「使用者」という)が原反RSを同図のようにセットした後、操作パネルやパーソナルコンピュータ等の図示しない操作手段を介して自動運転開始の信号を入力する。その後、作業者または、駆動機器やコンベア等の図示しない搬送手段が、硝子板GPを支持面54A上に載置すると、維持部材取付手段50が図示しない減圧手段を駆動し、当該硝子板GPの吸着保持を開始する。なお、本実施形態の硝子板GPおよび両面接着シートBAは、被着体CPを避けるための貫通孔を有しない平面視四角形の部材が採用されている。
なお、離間装置10Aにおいて、離間装置10と同等の構成で同等の機能を有するものは、当該離間装置10と同じ番号を付してその構成説明は省略し、動作説明は簡略化する。
維持部材取付手段50Aは、Y軸方向に移動するスライダ56Aを備えた駆動機器としてのリニアモータ56の当該スライダ56A上に、直動モータ53を介して支持テーブル54が支持されている。
当接手段70は、ベースプレートBP上に支持され、手前側に維持部材取付手段50Aの出入りを許容する切欠71Aが形成された円筒状の当接部材71を備えている。
保持手段20は、メカチャックやチャックシリンダ等の把持手段、クーロン力、接着剤、粘着剤、磁力、ベルヌーイ吸着、駆動機器等で接着シートASの端部を保持する構成でもよい。
保持手段20は、離間装置10の場合、例えば、右方へ移動する当該保持手段20を1体とし、左方へ移動する当該保持手段20を1体とした2体で構成してもよいし、例えば、右方、左方およびその他の方向へ移動する3体以上で構成してもよい。
保持手段20は、離間装置10Aの場合、1体でもよいし2体以上でもよい。
離間手段30は、相互間隔を3軸以上の方向(例えば、X軸方向、Y軸方向およびその他の軸方向)に広げる構成でもよいし、例えば、X軸方向に移動させた複数の保持手段20をそれぞれY軸方向に移動させる構成(Y軸方向に移動させた複数の保持手段20をそれぞれX軸方向に移動させる構成)とし、被着体CPの相互間隔を広げてもよいし、被着体CPの相互間隔が所定間隔となるように作動できない構成、または、各被着体CPの全体的な集合形状が基の全体的な集合形状に対して相似関係となるように作動できない構成でもよい。
離間手段30Aは、保持手段20を停止または移動させつつ、当接手段70を移動させることで、保持手段20および当接手段70を相対移動させ、被着体CPの相互間隔を広げてもよい。
離間手段30、30Aは、作業者がボタンやレバー等を操作して、リニアモータ31、直動モータ33を駆動してもよく、この場合、例えば、検知手段40による検知結果をモニタや検出器等の表示器に表示するように構成し、この表示器に表示される検知結果によって被着体CPの相互間隔が所定間隔となるように、または、各被着体CPの全体的な集合形状が基の全体的な集合形状に対して相似関係となるように、作業者がリニアモータ31、直動モータ33を駆動させてもよい。
維持部材取付手段50、間隔維持部材DMとして、予め接着シートASに取り付けることができるものが備わっているものを採用してもよく、この場合、積層手段55はなくてもよい。
維持部材取付手段50Aは、間隔維持部材DMとして、硝子板GP上に予め両面接着シートBAが積層されていないものを採用し、離間装置10と同等の積層手段55で硝子板GP上に両面接着シートBAを積層するように構成してもよい。
保持用接着剤層は、基材シートの両面に同じ成分または異なる成分で構成された接着剤層を有する両面接着シートや、液体またはジェル状の接着剤でもよい。
間隔維持部材DMは、保持用接着剤層を用いずに、濡れ性、磁着、吸着、ベルヌーイ吸着等で接着シートASに取り付くものを採用してもよい。
被着体CPは、予め接着シートAS上で複数存在していてもよいし、離間手段30、30Aで接着シートASに張力を付与した時点で個片化し、接着シートAS上に複数存在するようになるものでもよい。このような接着シートASに張力を付与した時点で複数存在するようになる被着体CPとしては、例えば、半導体ウエハにレーザを照射し、当該半導体ウエハに線状や格子状等の脆弱な脆弱ラインを形成しておき、接着シートASに張力を付与した時点で個片化し、複数の被着体CPとなるものや、例えば、樹脂や硝子板にカッター刃で切り込み、当該樹脂や硝子板に線状や格子状等の表裏に貫通することのない切断予定ラインや、ミシン目の切断予定ライン等を形成しておき、接着シートASに張力を付与した時点で複数の被着体CPとなるもの等、何ら限定されるものではない。
20…保持手段
30、30A…離間手段
50、50A…維持部材取付手段
55…積層手段
60…切断手段
70…当接手段
AS…接着シート
AS1…一方の面
AS2…他方の面
BA…両面接着シート(保持用接着剤層)
CE…被着体接着領域
CP…被着体
HE…保持領域
DM…間隔維持部材
GP…硝子板(基材)
Claims (8)
- 一方の面に複数の被着体が貼付された接着シートの端部を保持する複数の保持手段と、
前記接着シートの端部を保持した前記保持手段を相対移動させ、前記被着体の相互間隔を広げる離間手段と、
前記離間手段によって広げられた前記被着体の相互間隔を維持可能な間隔維持部材を前記接着シートに取り付ける維持部材取付手段とを備え、
前記維持部材取付手段は、前記間隔維持部材を前記接着シートの他方の面に取り付けることを特徴とする離間装置。 - 一方の面に複数の被着体が貼付された接着シートの端部を保持する保持手段と、
前記接着シートにおける前記複数の被着体が貼付された被着体接着領域よりも外側であって、前記保持手段が保持した保持領域の内側で当該接着シートに当接する当接手段と、
前記接着シートの端部を保持した前記保持手段および当接手段を相対移動させ、前記被着体の相互間隔を広げる離間手段と、
前記離間手段によって広げられた前記被着体の相互間隔を維持可能な間隔維持部材を前記接着シートに取り付ける維持部材取付手段とを備え、
前記維持部材取付手段は、前記間隔維持部材を前記接着シートの他方の面に取り付けることを特徴とする離間装置。 - 前記接着シートを切断する切断手段を備えていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の離間装置。
- 前記接着シートは、前記離間手段による作用が解かれると、変形前の状態に近付こうとする性質を備え、
前記間隔維持部材は、前記接着シートが変形前の状態に近付こうとする力に打ち勝つことが可能な剛性を備えた基材と、当該基材に貼付された保持用接着剤層との少なくとも2層の積層体によって構成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項3に記載の離間装置。 - 前記維持部材取付手段は、前記基材に前記保持用接着剤層を積層する積層手段を備えていることを特徴とする請求項4に記載の離間装置。
- 前記接着シートは、前記離間手段による作用が解かれると、変形前の状態に近付こうとする性質を備え、
前記間隔維持部材は、前記接着シートが変形前の状態に近付こうとする力に打ち勝つことが可能な剛性を備えた他の接着シートとされ、
前記維持部材取付手段は、前記他の接着シートを前記接着シートに貼付することを特徴とする請求項1ないし請求項3に記載の離間装置。 - 一方の面に複数の被着体が貼付された接着シートの端部を複数の保持手段で保持する保持工程と、
前記接着シートの端部を保持した前記保持手段を相対移動させ、前記被着体の相互間隔を広げる離間工程と、
前記離間工程で広げられた前記被着体の相互間隔を維持可能な間隔維持部材を前記接着シートに取り付ける維持部材取付工程とを有し、
前記維持部材取付工程では、前記間隔維持部材を前記接着シートの他方の面に取り付けることを特徴とする離間方法。 - 一方の面に複数の被着体が貼付された接着シートの端部を保持手段で保持する保持工程と、
前記接着シートにおける前記複数の被着体が貼付された被着体接着領域よりも外側であって、前記保持手段が保持した保持領域の内側で当該接着シートに当接する当接手段および、前記接着シートの端部を保持した前記保持手段を相対移動させ、前記被着体の相互間隔を広げる離間工程と、
前記離間工程によって広げられた前記被着体の相互間隔を維持可能な間隔維持部材を前記接着シートに取り付ける維持部材取付工程とを有し、
前記維持部材取付工程では、前記間隔維持部材を前記接着シートの他方の面に取り付けることを特徴とする離間方法。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006013000A (ja) * | 2004-06-23 | 2006-01-12 | Sekisui Chem Co Ltd | Icチップの製造方法 |
JP2008192910A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Joyo Kogaku Kk | ダイシング用粘着シートおよびダイシング方法 |
JP2014007257A (ja) * | 2012-06-22 | 2014-01-16 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
JP2014063793A (ja) * | 2012-09-20 | 2014-04-10 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工方法 |
JP2014067944A (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウェーハの加工方法 |
JP2016111188A (ja) * | 2014-12-05 | 2016-06-20 | リンテック株式会社 | 離間装置および離間方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005209829A (ja) * | 2004-01-22 | 2005-08-04 | Taiyo Yuden Co Ltd | 半導体ウェハ固定方法及び装置、並びに半導体ウェハが固定された構造体 |
JP2006054246A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの分離方法 |
JP4772559B2 (ja) | 2006-03-31 | 2011-09-14 | 株式会社ディスコ | チップ間隔維持方法及びチップ間隔維持装置 |
JP2008140874A (ja) | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Disco Abrasive Syst Ltd | テープ拡張装置 |
CN101850538B (zh) * | 2009-04-01 | 2012-10-10 | 日月光半导体制造股份有限公司 | 晶圆的支撑治具与研磨、输送及切割晶圆的方法 |
JP2011166002A (ja) | 2010-02-12 | 2011-08-25 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
JP6045837B2 (ja) * | 2012-07-26 | 2016-12-14 | 日東電工株式会社 | 半導体ウエハのマウント方法および半導体ウエハのマウント装置 |
CN105027273B (zh) * | 2013-03-07 | 2019-01-22 | 住友电木株式会社 | 粘接膜、叠层体及其固化物、和半导体装置及其制造方法 |
JP6096017B2 (ja) * | 2013-03-19 | 2017-03-15 | リンテック株式会社 | シート貼付装置および貼付方法 |
JP2016092207A (ja) * | 2014-11-05 | 2016-05-23 | 株式会社ディスコ | フレームユニットの製造方法 |
JP6393596B2 (ja) * | 2014-11-19 | 2018-09-19 | リンテック株式会社 | 整列装置および整列方法 |
JP6417236B2 (ja) | 2015-02-26 | 2018-10-31 | 株式会社ディスコ | ウエーハの分割方法及びチャックテーブル |
TWI603393B (zh) * | 2015-05-26 | 2017-10-21 | 台虹科技股份有限公司 | 半導體裝置的製造方法 |
JP6559013B2 (ja) * | 2015-08-20 | 2019-08-14 | リンテック株式会社 | シート貼付装置および貼付方法 |
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JP2008192910A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Joyo Kogaku Kk | ダイシング用粘着シートおよびダイシング方法 |
JP2014007257A (ja) * | 2012-06-22 | 2014-01-16 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
JP2014063793A (ja) * | 2012-09-20 | 2014-04-10 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工方法 |
JP2014067944A (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウェーハの加工方法 |
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