JP2018107167A - 半導体装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体基体10のおもて面には、第1n-型ドリフト領域2a、第2n型ドリフト領域2b、第3n+型ドリフト領域2cが設けられる。半導体基体10のおもて面には、n+型ソース領域4およびp型ベース領域3を貫通し、第2n型ドリフト領域2bに達するゲートトレンチ5が設けられる。隣り合うゲートトレンチ5間には、n+型ソース領域4およびp型ベース領域3を貫通し、第2、第3n型ドリフト領域2b、2cを経てp型半導体領域13に達するコンタクトトレンチ8が設けられる。コンタクトトレンチ8の内部に埋め込まれたソース電極11は、コンタクトトレンチ8の底部8aおよびコーナー部8bにおいてp型半導体領域13に接し、コンタクトトレンチ8の側壁8cに第2n型ドリフト領域2b、第3n+型ドリフト領域2cとのショットキー接合を形成する。
【選択図】図1
Description
実施の形態1にかかる半導体装置の構造について説明する。図1は、実施の形態1にかかる半導体装置の活性領域の構造を示す断面図である。図2は、図1のコンタクトトレンチ付近の平面レイアウトを示す平面図である。図2では、後述するゲート絶縁膜6を図示省略する。図1に示す実施の形態1にかかる半導体装置は、活性領域において、半導体基体(半導体チップ)10のおもて面側に、ゲートトレンチ(第1トレンチ)5と、コンタクトトレンチ(第2トレンチ)8と、を備えたトレンチ型SiC−MOSFETである。活性領域とは、電流駆動を担う領域(オン状態のときに電流が流れる領域)である。ゲートトレンチ5とは、ゲート絶縁膜6を介してゲート電極7が埋め込まれたトレンチである。コンタクトトレンチ8とは、後述するおもて面電極(金属電極:ソース電極11および金属膜12)が埋め込まれ、当該おもて面電極とのコンタクト(電気的接触部)を内壁8a〜8cに形成したトレンチである。
次に、実施の形態2にかかる半導体装置の構造について説明する。図11は、実施の形態2にかかる半導体装置の活性領域の構造を示す断面図である。図11のコンタクトトレンチ8付近の平面レイアウトは、実施の形態1と同様である(図2参照)。実施の形態2にかかる半導体装置が実施の形態1にかかる半導体装置と異なる点は、第3n+型ドリフト領域2cの形状である。実施の形態2では、第3n+型ドリフト領域2cは、第2n型ドリフト領域2bの表面に選択的に設けられており、コンタクトトレンチ8の側壁8cと接し、ゲートトレンチ5の側壁と接していない。このように、実施の形態2では、第3n+型ドリフト領域2cの大きさが、実施の形態1よりも小さくなっている。
次に、実施の形態3にかかる半導体装置の構造について説明する。図13は、実施の形態3にかかる半導体装置の活性領域の構造を示す断面図である。図13のコンタクトトレンチ8付近の平面レイアウトは、実施の形態1と同様である(図2参照)。実施の形態3にかかる半導体装置が実施の形態1にかかる半導体装置と異なる点は、ゲートトレンチ51の底部51aおよびコーナー部51bの全面にわたってゲート絶縁膜6を介してゲート電極7を覆うp型半導体領域(以下、第2p型半導体領域(第4半導体領域)とする)52が設けられている点である。
次に、実施の形態4にかかる半導体装置の構造について説明する。図19は、実施の形態4にかかる半導体装置の活性領域の構造を示す断面図である。図19のコンタクトトレンチ8付近の平面レイアウトは、実施の形態1と同様である(図2参照)。実施の形態4にかかる半導体装置が実施の形態3にかかる半導体装置と異なる点は、第3n+型ドリフト領域2cの形状である。実施の形態4では、第3n+型ドリフト領域2cは、第2n型ドリフト領域2bの表面に選択的に設けられており、コンタクトトレンチ8の側壁8cと接し、ゲートトレンチ5の側壁と接していない。このように、実施の形態4では、第3n+型ドリフト領域2cの大きさが、実施の形態3よりも小さくなっている。
次に、実施の形態5にかかる半導体装置の構造について説明する。図21は、実施の形態5にかかる半導体装置の活性領域の構造を示す断面図である。図21のコンタクトトレンチ8付近の平面レイアウトは、実施の形態1と同様である(図2参照)。実施の形態5にかかる半導体装置が実施の形態1にかかる半導体装置と異なる点は、第3n+型ドリフト領域2cの形状と、第3n+型ドリフト領域2cのゲートトレンチ5側にn-型領域(第2炭化珪素半導体領域)(以下、第4n-型ドリフト領域とする)2dが設けられていることである。第3n+型ドリフト領域2cは、第2n型ドリフト領域2bの表面に選択的に設けられており、コンタクトトレンチ8の側壁8cと接し、コンタクトトレンチ8と反対側で第4n-型ドリフト領域2dと接している。第4n-型ドリフト領域2dは、ゲートトレンチ5の側壁と接し、コンタクトトレンチ8側で第3n+型ドリフト領域2cと接している。また、第4n-型ドリフト領域2dは、第3n+型ドリフト領域2cと同程度の膜厚で、ソース電極11側でp型ベース領域3と接し、n+型ドレイン層1側で第2n型ドリフト領域2bと接している。
次に、実施の形態6にかかる半導体装置の構造について説明する。図23は、実施の形態6にかかる半導体装置の活性領域の構造を示す断面図である。図23のコンタクトトレンチ8付近の平面レイアウトは、実施の形態1と同様である(図2参照)。実施の形態6にかかる半導体装置が実施の形態3にかかる半導体装置と異なる点は、第3n+型ドリフト領域2cの形状と、第3n+型ドリフト領域2cのゲートトレンチ5側に第4n-型ドリフト領域2dが設けられていることである。第3n+型ドリフト領域2cは、第2n型ドリフト領域2bの表面に選択的に設けられており、コンタクトトレンチ8の側壁8cと接し、コンタクトトレンチ8と反対側で第4n-型ドリフト領域2dと接している。第4n-型ドリフト領域2dは、ゲートトレンチ5の側壁と接し、コンタクトトレンチ8側で第3n+型ドリフト領域2cと接している。また、第4n-型ドリフト領域2dは、第3n+型ドリフト領域2cと同程度の膜厚で、ソース電極11側でp型ベース領域3と接し、n+型ドレイン層1側で第2n型ドリフト領域2bと接している。
次に、実施の形態7にかかる半導体装置の構造について説明する。図25は、実施の形態7にかかる半導体装置の活性領域の構造を示す断面図である。図25のコンタクトトレンチ8付近の平面レイアウトは、実施の形態1と同様である(図2参照)。実施の形態7にかかる半導体装置が実施の形態5にかかる半導体装置と異なる点は、第3n+型ドリフト領域2cのコンタクトトレンチ8側にn型領域(第3炭化珪素半導体領域)(以下、第5n型ドリフト領域とする)2eが設けられていることである。第5n型ドリフト領域2eは、ゲートトレンチ5側で第3n+型ドリフト領域2cと接し、ゲートトレンチ5と反対側でコンタクトトレンチ8と接している。また、第5n型ドリフト領域2eは、第3n+型ドリフト領域2cと同程度の膜厚で、ソース電極11側でp型ベース領域3と接し、n+型ドレイン層1側で第2n型ドリフト領域2bと接している。
次に、実施の形態8にかかる半導体装置の構造について説明する。図27は、実施の形態8にかかる半導体装置の活性領域の構造を示す断面図である。図27のコンタクトトレンチ8付近の平面レイアウトは、実施の形態1と同様である(図2参照)。実施の形態8にかかる半導体装置が実施の形態6にかかる半導体装置と異なる点は、、第3n+型ドリフト領域2cのコンタクトトレンチ8側に第5n型ドリフト領域2eが設けられていることである。第5n型ドリフト領域2eは、ゲートトレンチ5側で第3n+型ドリフト領域2cと接し、ゲートトレンチ5と反対側でコンタクトトレンチ8と接している。また、第5n型ドリフト領域2eは、第3n+型ドリフト領域2cと同程度の膜厚で、ソース電極11側でp型ベース領域3と接し、n+型ドレイン層1側で第2n型ドリフト領域2bと接している。
2 n型ドリフト領域
2a 第1n-型ドリフト領域
2b 第2n型ドリフト領域
2c 第3n+型ドリフト領域
2d 第4n-型ドリフト領域
2e 第5n型ドリフト領域
3 p型ベース領域
4 n+型ソース領域
5 ゲートトレンチ
6 ゲート絶縁膜
7 ゲート電極
8 コンタクトトレンチ
8a コンタクトトレンチの底部
8b コンタクトトレンチのコーナー部
8c コンタクトトレンチの側壁
9 層間絶縁膜
9a コンタクトホール
10 半導体基体
11 ソース電極
12 金属膜
13 p型半導体領域
14 p+型コンタクト領域
21,22 寄生pnダイオード
23 寄生ショットキーダイオード
31,32 空乏層
33 ソース・ドレイン間に流れる電流
d1 ゲートトレンチの深さ
d2 コンタクトトレンチの深さ
d3 ゲートトレンチの底部からコンタクトトレンチの底部のp型半導体領域の下面までの距離
d4 コンタクトトレンチの側壁のショットキー接合が形成されている部分の深さ方向の距離
w1 ゲートトレンチの幅
w2 コンタクトトレンチの幅
w3 コンタクトトレンチの底部のp型半導体領域の幅
w4 ゲートトレンチの底部のp型半導体領域の幅
w5 第3n+型ドリフト領域の幅
w6 コンタクトトレンチ間の幅
w7 第5n型ドリフト領域の幅
x ゲートトレンチおよびコンタクトトレンチのストライプ状に延びる方向(第1方向)
y ゲートトレンチおよびコンタクトトレンチが並ぶ方向(第2方向)
z 深さ方向
Claims (15)
- 第1導電型の第1炭化珪素半導体層の内部の、前記第1炭化珪素半導体層の表面よりも深い位置に選択的に設けられた第2導電型の第1半導体領域と、
前記第1炭化珪素半導体層の表面に設けられた、前記第1炭化珪素半導体層より高不純物濃度の第1導電型の第1炭化珪素半導体領域と、
前記第1炭化珪素半導体領域の表面に設けられた第2導電型の第2炭化珪素半導体層と、
前記第2炭化珪素半導体層の内部に選択的に設けられた第1導電型の第2半導体領域と、
前記第2半導体領域、前記第2炭化珪素半導体層および前記第1炭化珪素半導体領域を貫通して前記第1炭化珪素半導体層に達する第1トレンチと、
前記第1トレンチと離して設けられ、前記第2半導体領域、前記第2炭化珪素半導体層および前記第1炭化珪素半導体領域を貫通し、前記第1炭化珪素半導体層を経て前記第1半導体領域に達する第2トレンチと、
前記第1トレンチの内部にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極と、
前記第2半導体領域、前記第2炭化珪素半導体層および前記第1炭化珪素半導体領域に接し、かつ前記第2トレンチの底部およびコーナー部において前記第1半導体領域に接するように前記第2トレンチの内部に埋め込まれ、前記第2トレンチの側壁に前記第1炭化珪素半導体層および前記第1炭化珪素半導体領域とのショットキー接合を形成する金属電極と、
を備えることを特徴とする半導体装置。 - 前記第1炭化珪素半導体領域は、前記第1炭化珪素半導体層の表面に選択的に設けられ、
前記第2炭化珪素半導体層は、前記第1炭化珪素半導体層および前記第1炭化珪素半導体領域の表面に設けられることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第1炭化珪素半導体領域は、前記第1炭化珪素半導体層の表面に選択的に設けられ、
前記第1炭化珪素半導体層の表面に設けられた、前記第1炭化珪素半導体領域と前記第1トレンチと接する、前記第1炭化珪素半導体層より低不純物濃度の第1導電型の第2炭化珪素半導体領域をさらに備え、
前記第2炭化珪素半導体層は、前記第1炭化珪素半導体領域および前記第2炭化珪素半導体領域の表面に設けられることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第1炭化珪素半導体領域は、前記第1炭化珪素半導体層の表面に選択的に設けられ、
前記第1炭化珪素半導体層の表面に設けられた、前記第1炭化珪素半導体領域と前記第1トレンチと接する、前記第1炭化珪素半導体層より低不純物濃度の第1導電型の第2炭化珪素半導体領域と、
前記第1炭化珪素半導体層の表面に設けられた、前記第1炭化珪素半導体領域と前記第2トレンチと接する第1導電型の第3炭化珪素半導体領域と、
をさらに備え、
前記第2炭化珪素半導体層は、前記第1炭化珪素半導体領域、前記第2炭化珪素半導体領域および前記第3炭化珪素半導体領域の表面に設けられることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第1半導体領域の幅は、前記第2トレンチの幅よりも広いことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の半導体装置。
- 前記第2トレンチの深さは、前記第1トレンチの深さ以上であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の半導体装置。
- 前記第1炭化珪素半導体層の内部に選択的に設けられ、前記第1トレンチの底部およびコーナー部において前記ゲート絶縁膜を介して前記ゲート電極に対向する第2導電型の第4半導体領域をさらに備えることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の半導体装置。
- 前記第2トレンチの深さは、前記第1トレンチの深さ以下であることを特徴とする請求項7に記載の半導体装置。
- 前記第2炭化珪素半導体層の内部に選択的に設けられた、前記第2炭化珪素半導体層よりも不純物濃度の高い第2導電型の第5半導体領域をさらに備え、
前記第2半導体領域と前記第5半導体領域とは、前記第1トレンチと前記第2トレンチとが並ぶ方向と直交する方向に交互に配置されていることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一つに記載の半導体装置。 - 前記第1炭化珪素半導体層の、前記第2炭化珪素半導体層側に対して反対側の表面に設けられた、前記第1炭化珪素半導体層よりも不純物濃度の高い第1導電型の第3炭化珪素半導体層をさらに備えることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一つに記載の半導体装置。
- 第1導電型の第1炭化珪素半導体層の内部の、前記第1炭化珪素半導体層の表面よりも深い位置に第2導電型の第1半導体領域を選択的に形成する第1工程と、
前記第1炭化珪素半導体層の表面に、前記第1炭化珪素半導体層より高不純物濃度の第1導電型の第1炭化珪素半導体領域を形成する第2工程と、
前記第1炭化珪素半導体領域の表面に、第2導電型の第2炭化珪素半導体層を形成する第3工程と、
前記第2炭化珪素半導体層の内部に、第1導電型の第2半導体領域を選択的に形成する第4工程と、
前記第2半導体領域、前記第2炭化珪素半導体層および前記第1炭化珪素半導体領域を貫通して前記第1炭化珪素半導体層に達する第1トレンチを形成する第5工程と、
前記第1トレンチと離して、前記第2半導体領域、前記第2炭化珪素半導体層および前記第1炭化珪素半導体領域を貫通し、前記第1炭化珪素半導体層を経て前記第1半導体領域に達する第2トレンチを形成する第6工程と、
前記第1トレンチの内部にゲート絶縁膜を介してゲート電極を形成する第7工程と、
前記第2半導体領域、前記第2炭化珪素半導体層および前記第1炭化珪素半導体領域に接し、かつ前記第2トレンチの底部およびコーナー部において前記第1半導体領域に接するように前記第2トレンチの内部に金属電極を埋め込み、前記第2トレンチの側壁に前記第1炭化珪素半導体層および前記第1炭化珪素半導体領域と前記金属電極とのショットキー接合を形成する第8工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記第2工程においては、前記第1炭化珪素半導体層の表面に、前記第1導電型の第1炭化珪素半導体領域を選択的に形成し、
前記第3工程においては、前記第1炭化珪素半導体層および前記第1炭化珪素半導体領域の表面に前記第2炭化珪素半導体層を形成することを特徴とする請求項11に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第2工程は、前記第1炭化珪素半導体層の表面に、前記第1導電型の第1炭化珪素半導体領域を選択的に形成し、
前記第2工程の後、前記第3工程の前に、
前記第1炭化珪素半導体層の表面に、前記第1炭化珪素半導体領域と前記第1トレンチと接する、前記第1炭化珪素半導体層より低不純物濃度の第1導電型の第2炭化珪素半導体領域を形成する工程をさらに含み、
前記第3工程においては、前記第1炭化珪素半導体領域および前記第2炭化珪素半導体領域の表面に前記第2炭化珪素半導体層を形成することを特徴とする請求項11に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第2工程は、前記第1炭化珪素半導体層の表面に、前記第1導電型の第1炭化珪素半導体領域を選択的に形成し、
前記第2工程の後、前記第3工程の前に、
前記第1炭化珪素半導体層の表面に、前記第1炭化珪素半導体領域と前記第1トレンチと接する、前記第1炭化珪素半導体層より低不純物濃度の第1導電型の第2炭化珪素半導体領域を形成する工程と、
前記第1炭化珪素半導体層の表面に、前記第1炭化珪素半導体領域と前記第2トレンチと接する、第1導電型の第3炭化珪素半導体領域を形成する工程と、
をさらに含み、
前記第3工程においては、前記第1炭化珪素半導体領域、前記第2炭化珪素半導体領域および前記第3炭化珪素半導体領域の表面に前記第2炭化珪素半導体層を形成することを特徴とする請求項11に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1工程は、前記第1炭化珪素半導体層の内部に、前記第1トレンチの底部およびコーナー部において前記ゲート絶縁膜を介して前記ゲート電極に対向する第2導電型の第4半導体領域をさらに選択的に形成することを特徴とする請求項11〜14のいずれか一つに記載の半導体装置の製造方法。
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