JP2018067013A - 支持装置、移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6437884B2 (ja) * 2015-06-03 2018-12-12 旭化成エンジニアリング株式会社 平面移動装置
CN111722476B (zh) * 2019-03-22 2022-04-26 上海微电子装备（集团）股份有限公司 柔性连接件、柔性吸附装置及光刻系统

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000249185A (ja) * 1999-02-26 2000-09-12 Fujita Corp アクティブ型除振装置
JP2004063653A (ja) * 2002-07-26 2004-02-26 Nikon Corp 防振装置、ステージ装置及び露光装置
JP2005282696A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Canon Inc 除振マウント装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP2005299874A (ja) * 2004-04-15 2005-10-27 Tokkyokiki Corp 除振装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07307279A (ja) * 1994-05-10 1995-11-21 Canon Inc ステージ位置決め制御装置
JPH11294520A (ja) * 1998-04-08 1999-10-29 Canon Inc 除振装置、これを用いた露光装置およびデバイス製造方法、ならびに除振方法
JP2004100953A (ja) * 2002-08-23 2004-04-02 Nikon Corp 制振装置及び露光装置
DE602004030247D1 (de) * 2003-07-09 2011-01-05 Nippon Kogaku Kk Belichtungsvorrichtung und verfahren zur bauelementherstellung

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000249185A (ja) * 1999-02-26 2000-09-12 Fujita Corp アクティブ型除振装置
JP2004063653A (ja) * 2002-07-26 2004-02-26 Nikon Corp 防振装置、ステージ装置及び露光装置
JP2005282696A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Canon Inc 除振マウント装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP2005299874A (ja) * 2004-04-15 2005-10-27 Tokkyokiki Corp 除振装置

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