JP2018032740A - 実装方法および実装装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】半導体チップを安定して高精度に回路基板に実装することを課題とする。【解決手段】キャリア基板に第1の面を保持されたダイシング後の半導体チップ1を載置台に載置された回路基板に実装する実装方法であって、前記キャリア基板に保持された前記半導体チップの第1の面と反対側の面である第2の面を粘着シート4に貼付ける粘着シート貼付け工程と、前記キャリア基板を前記半導体チップから除去するキャリア基板除去工程と、前記粘着シートの粘着力を低減させる粘着力低減工程と、ヘッドが前記半導体チップの前記第1の面側を保持することにより、前記粘着シートから剥離して、前記第2の面側を前記回路基板に接合することにより前記半導体チップを前記回路基板に実装する実装工程と、を順次実行する。【選択図】図2

Description

本発明は、半導体チップを高精度に安定して実装する実装方法および実装装置に関するものである。
半導体チップは、コスト低減のために小型化し、小型化した半導体チップを高精度に実装するための取組みが行われている。特に、ディスプレイに用いられるLEDはマイクロLEDと呼ばれる50μm×50μm以下の半導体チップを数μmの精度で高速に実装することが求められている。
特許文献1には、マイクロLEDからなる半導体チップとサファイヤからなるキャリア基板との間にインジウムからなる接着層が設けられることにより半導体チップの実装面がキャリア基板に接着されており、加熱したヘッドで半導体チップを吸着することによりヘッドからの熱で接着層を溶融、半導体チップを剥離させた後、半導体チップを回路基板に実装する構成が記載されている。
特許文献1:特許第5783481号公報
しかしながら、特許文献1記載のものは、半導体チップに接着層が残るおそれがあり、その接着層の量のばらつきにより安定した実装が困難であるという問題があった。
本発明は、上記問題点を解決して、半導体チップを高精度に安定して回路基板に実装することを課題とする。
上記課題を解決するために本発明は、キャリア基板に第1の面を保持されたダイシング後の半導体チップを載置台に載置された回路基板に実装する実装方法であって、前記キャリア基板に保持された前記半導体チップの前記第1の面と反対側の面である第2の面を粘着シートに貼付ける粘着シート貼付け工程と、前記キャリア基板を前記半導体チップから除去するキャリア基板除去工程と、前記粘着シートの粘着力を低減させる粘着力低減工程と、ヘッドが前記半導体チップの前記第1の面側を保持することにより、前記粘着シートから剥離して、前記第2の面側を前記回路基板に接合することにより前記半導体チップを前記回路基板に実装する実装工程と、を順次実行することを特徴とする実装方法を提供するものである。
この構成により、粘着シートの粘着力が低減してからヘッドが半導体チップを保持し、実装するので、半導体チップに余計なものが残存することなく実装が可能であり、高精度に安定して回路基板に実装することができる。
前記キャリア基板除去工程は、レーザ光を照射して前記キャリア基板を剥離し除去する構成としてもよい。
この構成により、半導体チップに接着層が残ることなく、キャリア基板を安定して剥離することができる。
前記粘着力低減工程は、前記粘着シート及び前記半導体チップを所定温度に加熱することにより粘着力を低減させる構成としてもよい。
この構成により、粘着シートの粘着力を低減することができ、半導体チップを安定的に剥離することができるようになる。
前記実装工程は、前記半導体チップを前記粘着力低減工程における前記所定温度に維持したまま前記回路基板に実装可能に、前記ヘッド及び前記載置台を加熱制御する構成としてもよい。
この構成により、一旦加熱した半導体チップ、回路基板、粘着シートやヘッド等の温度の変動を防止することができ、半導体チップ、回路基板、粘着シートやヘッド等の実装に関係する部材全ての熱収縮を防止し、高精度で安定した実装を行うことができる。
前記回路基板に前記半導体チップを実装する際の前記回路基板と前記半導体チップの間の接合力は前記ヘッドの保持力よりも強く、前記ヘッドの保持力は粘着力が低減した前記粘着シートの粘着力よりも強い構成としてもよい。
この構成により、ヘッドによる半導体チップの吸着及び回路基板への実装を安定して行うことができる。
また、上記課題を解決するために本発明は、キャリア基板に第1の面を保持されたダイシング後の半導体チップを載置台に載置された回路基板に実装する実装装置であって、前記キャリア基板に保持された前記半導体チップの前記第1の面と反対側の面である第2の面を貼りつける粘着シートを保持する粘着シート保持部と、前記粘着シートに貼付けられた前記半導体チップから前記キャリア基板を除去するキャリア基板除去部と、前記粘着シートの粘着力を低減させる粘着力低減部と、前記第1の面側から前記半導体チップを保持可能なヘッドと、前記ヘッドが前記半導体チップを保持し、前記粘着シートから剥離して、前記第2の面側を前記回路基板に接合するように制御する制御部と、を有することを特徴とする実装装置を提供するものである。
この構成により、粘着シートの粘着力が低減してからヘッドが半導体チップを保持し、実装するので、半導体チップに余計なものが残存することなく実装が可能であり、高精度に安定して回路基板に実装することができる。
前記キャリア基板除去部は、前記キャリア基板にレーザ光を照射可能なレーザ光照射部を含む構成としてもよい。
この構成により、半導体チップに接着層が残ることなく、半導体チップからキャリア基板を安定して剥離し除去することができる。
前記粘着力低減部は、前記粘着シート及び前記半導体チップを所定温度に加熱する加熱部を含む構成としてもよい。
この構成により、粘着シートの粘着力を低減することができ、半導体チップを安定的に剥離することができるようになる。
前記ヘッド及び前記載置台はそれぞれを加熱することが可能であり、前記半導体チップを前記粘着力低減工程における前記所定温度に維持したまま前記回路基板に実装可能に、前記制御部が前記粘着力低減部、前記ヘッド及び前記載置台の加熱温度を制御する構成としてもよい。
この構成により、一旦加熱した半導体チップ、回路基板、粘着シートやヘッド等の温度の変動を防止することができ、半導体チップ、回路基板、粘着シートやヘッド等の実装に関係する部材全ての熱収縮を防止し、高精度で安定した実装を行うことができる。
前記回路基板に前記半導体チップを実装する際の前記回路基板と前記半導体チップの間の接合力は、前記ヘッドの保持力よりも強く、前記ヘッドの保持力は、粘着力が低減した前記粘着シートの粘着力よりも強い構成としてもよい。
この構成により、ヘッドによる半導体チップの吸着及び回路基板への実装を安定して行うことができる。
本発明の実装方法および実装装置により、半導体チップを高精度に安定して回路基板に実装することができる。
本発明の実施例1における実装方法の前半部分を説明する図である。 本発明の実施例1における実装方法の後半部分を説明する図である。 本発明の実施例1における実装装置を説明する図である。 本発明の実施例1における実装装置のヘッド部分を説明する図である。 本発明の実施例1における実装装置のヘッドの平行度調整を説明する図である。 本発明の実施例2における実装方法の後半部分を説明する図である。 本発明の実施例3における粘着力低減工程を説明する図である。
本発明の実施例1について、図1〜図5を参照して説明する。図1は、本発明の実施例1における実装方法の前半部分を説明する図である。図2は、本発明の実施例1における実装方法の後半部分を説明する図である。図3は、本発明の実施例1における実装装置を説明する図である。図4は、本発明の実施例1における実装装置のヘッド部分を説明する図である。図5は、本発明の実施例1における実装装置のヘッドの平行度調整を説明する図である。
なお、本発明において、半導体チップのもつ2つの主面のうち、キャリア基板に保持された面を第1の面とし、第1面と反対側の面を第2の面と定義し、第2の面にはバンプが形成されているものとする。
まず、本発明の実施例1における実装方法の各工程について、図1、図2を参照して説明する。図1(a)は、キャリア基板2に第1の面が保持されたダイシング後の複数の半導体チップ1を示している。キャリア基板2は図1、図2の奥行き方向にも広がっていて円形又は四角形を有しており、シリコン、ガリウムヒ素、サファイヤ等からなっている。また、半導体チップ1もキャリア基板2の広がりに沿って2次元に複数個(数百個〜数万個)が配列されている。マイクロLEDと呼ばれる小型の半導体チップ1では、50μm×50μm以下のサイズであり、このサイズにダイシング幅を加えたピッチで配列されている。このような小型の半導体チップ1は、高精度(例えば、1μm以下の精度)で回路基板6に実装することが求められている。実施例1における半導体チップ1は、事前に各半導体チップ1を検査し不良の半導体チップを除去している。具体的には、後述のレーザリフトオフの場合よりも強いレーザ光を照射し、不良チップを焼失させている。また、半導体チップ1の第2の面にはバンプが形成されている。
図1(b)は、半導体チップ1のキャリア基板2に保持された面である第1の面と反対側の面である第2の面を粘着シート4に貼付ける粘着シート貼付け工程を示している。粘着シート4は、粘着シート保持部17に真空吸着により保持されており、半導体チップ1を貼り付ける面には粘着膜3が形成されている。実施例1における粘着膜3は常温では粘着性を有するが、加熱することによって粘着力が低減する特性を有している。この粘着シート貼付け工程では、後述するヘッド14で半導体チップ1を保持したキャリア基板2を吸着、ハンドリングして、粘着シート保持部17に保持された粘着シート4の粘着膜3上に半導体チップ1の第2の面を貼り付ける。
次に、図1(c)に示すように、キャリア基板除去工程を実行する。キャリア基板除去工程では、レーザリフトオフと呼ばれる方法により半導体チップ1からキャリア基板2を剥離し除去する。例えば、マイクロLEDにおいては、キャリア基板2にエキシマレーザを照射することにより、半導体チップ1であるマイクロLEDのGaN層の一部をGaとNに分解させてサファイヤからなるキャリア基板2を剥離し除去する。剥離したキャリア基板2は、ヘッド14にて吸着して除去する。
なお、実施例1においては、キャリア基板除去工程にてキャリア基板2にレーザ光を照射してレーザリフトオフと呼ばれる方法により半導体チップ1からキャリア基板2を剥離して除去するようにしたが、必ずしもこれに限定されず適宜変更が可能である。例えば、キャリア基板2を半導体チップ1が設けられている側と反対側から削り落として除去するようにしてもよい。これは、バックグラインドと呼ばれ、特に赤色LEDの場合にはレーザリフトオフが適用できないのでこのバックグラインドの手法が用いられる。
続いて、図2(a)に示す粘着力低減工程を実行する。粘着力低減工程では、粘着シート4の粘着膜3を所定温度に加熱することにより粘着膜3の粘着力を低減させる。この粘着力を低減させる所定温度は、後述の実装工程における「バンプが接合可能な温度」である。この「バンプが接合可能な温度」を所定温度に設定するため、粘着膜3の種類を選択することにより、90℃、150℃、180℃等とすることができる。実施例1においては、「バンプが接合可能な温度」が150℃前後の温度であり、この温度で粘着力がほぼゼロとなる粘着膜3を採用した粘着シート4を用いている。つまり、150℃で粘着力がほぼゼロとなる粘着膜3を採用した粘着シート4を用い、150℃を所定温度に設定して粘着シート4を150℃に加熱することにより粘着膜3も150℃となって粘着力が低減し、半導体チップ1を容易に剥離することが可能となる。実施例1においては、粘着シート4の加熱時に半導体チップ1も同じ所定温度である150℃に加熱するように粘着シート保持部17におけるヒータ21を制御する。このように、後述する実装工程で半導体チップ1を回路基板6に接合する際に「バンプが接合可能な温度」と同じ温度を所定温度として粘着力低減工程でも採用することにより、半導体チップ1の温度を粘着力低減工程から実装工程に至るまで一定に保ち、膨張や収縮を避けることができ、高精度で安定した実装が実現できる。
次に、図2(b)及び(c)に示す実装工程を実行する。実装工程では、まず図2(b)に示すように、ヘッド14で粘着シート4上の半導体チップ1を複数個同時に吸着してピックアップする。ピックアップする半導体チップ1の数は、ヘッド14の構成により任意に設定できるが、高速実装を実現するにはできるだけ多くの半導体チップ1をピックアップすることが望ましい。実施例1においては、1万個の半導体チップ1をピックアップできるようにヘッド14を構成している。このピックアップの際に、ヘッド14内部に設けられたヒータ22によりピックアップした半導体チップ1の温度を粘着力低減工程における所定温度、つまり「バンプが接合可能な温度」(実施例1においては150℃)に加熱維持するように制御する。また、粘着シート保持部17におけるヒータ21も同様に半導体チップ1の温度を粘着力低減工程における所定温度、つまり「バンプが接合可能な温度」(実施例1においては150℃)に加熱維持するように制御する。ヘッド14で半導体チップ1をピックアップするピッチは、後述する回路基板6の半導体チップ1を実装するピッチに合わせて構成されている。ここで、「バンプが接合可能な温度」とは、半導体チップ1に設けたバンプと回路基板6の電極との接合に適した温度であり、この温度ではバンプに粘りがでて接合に適すが、この温度より低いと粘りが発生せず、この温度よりも高いとバンプが酸化して接合には適さない。
ヘッド14でピックアップした複数の半導体チップ1は、図2(c)に示すように、ヘッド14又は載置台13がX、Y、Z方向に適宜移動することにより、載置台13に保持された回路基板6に接合して実装される。実施例1における回路基板6は、ガラスの表面に回路が形成されている。一度に1万個の半導体チップ1を回路基板6に実装するには、X、Y方向に高精度に位置決めするだけでなく、半導体チップ1と回路基板6との平行度も調整する必要がある。後述する平行度調整を行うことによって、いずれの半導体チップ1も同じ高さ(Z方向)だけ移動することで実装できる。
載置台13にはヒータ24が設けられており、ヘッド14とともに載置台13を「バンプが接合可能な温度」に加熱制御することにより、半導体チップ1に設けたバンプと回路基板6の電極とが接合される。ヘッド14及び載置台13が加熱制御されることにより、半導体チップ1が粘着力低減工程における所定温度、すなわち「バンプが接合可能な温度」(実施例1においては150℃)に維持され、また回路基板6も同じ粘着力低減工程における所定温度に維持され、粘着力低減工程から実装工程まで、半導体チップ1はじめ回路基板6、粘着シート4やヘッド14を同じ所定温度に維持することができる。これにより、半導体チップ1や回路基板6が熱収縮することが避けられ、高精度な実装を安定して行うことができる。
実装工程において、回路基板6に半導体チップ1を実装する際の回路基板6と半導体チップ1の間の接合力はヘッド14の保持力よりも強く、ヘッド14の保持力は粘着力が低減した粘着シート4の粘着力よりも強くなるように構成されている。すなわち、ヘッド14は常時真空吸着をオンにしており、この真空吸着により半導体チップ1を保持する。この常時オンの真空吸着による保持力が、回路基板6に半導体チップ1を実装する際の回路基板6と半導体チップ1の間の接合力よりも弱く、粘着力が低減した粘着シート4の粘着力よりも強くなるように設定されている。これにより、真空吸着をオン−オフに関する制御を行う必要がなくなり、よりシンプルな構成とすることができる。
なお、実施例1においては、ヘッド14の保持力を常時オンの真空吸着によることとしたが、必ずしもこれに限定されず、ヘッド構成の都合により適宜変更が可能である。例えば、半導体チップ等を保持するときのみ真空吸着をオンにして、それ以外をオフとする制御を行う構成としてもよい。また、ヘッド先端面に粘着性を持たせた構成として、その粘着性による保持力を回路基板6に半導体チップ1を実装する際の回路基板6と半導体チップ1の間の接合力よりも弱く、粘着力が低減した粘着シート4の粘着力よりも強くなるように構成してもよい。
また、実施例1においては、粘着力低減工程において、粘着シート4の粘着膜3を所定温度に加熱することにより粘着膜3の粘着力を低減させる構成としたが、これに必ずしも限定されず、都合により適宜変更することができる。例えば、粘着シート4の粘着膜3に紫外線又はレーザ光を照射することにより粘着膜3の粘着力を低減させる構成としてもよい。この場合も粘着力低減工程において、前述の「バンプが接合可能な温度」である所定温度に半導体チップ1や粘着シート4の温度制御を行う。
(実装装置)
次に、本発明の実施例1における実装装置について、図3、図4を参照して説明する。図3は、本発明の実施例1における実装装置を説明する図である。図4は、本発明の実施例1における実装装置のヘッド部分を説明する図である。図5は、本発明の実施例1における実装装置のヘッドの平行度調整を説明する図である。
本発明の実施例1における実装装置50は、図3に示すように、キャリア基板保持部11、2視野光学系12、載置台13、ヘッド14、及び粘着シート保持部17を備え、また図示しないキャリア基板除去部、粘着力低減部、及び制御部を備えている。キャリア基板保持部11は、3つのキャリア基板2を保持できる構成になっており、3種類のキャリア基板2を1つずつ又は1種類のキャリア基板2を3つ保持可能で、半導体チップ1の第2の面を下にして保持する。例えば、マイクロLEDの場合は、赤、緑、青の各色のLEDを保持するキャリア基板をそれぞれ保持してもよいし、青のLEDを保持するキャリア基板を3つ保持するようにしてもよい。
載置台13は、回路基板6を載置して真空吸着により動かないように保持することができる。また載置台13に隣接した位置には、粘着シート保持部17が設けられている。粘着シート保持部17には、半導体チップ1を粘着させる粘着シート4を真空吸着により保持することができる。そして、キャリア基板保持部11、載置台13及び粘着シート保持部17はともに、X、Y方向に移動可能に構成されている。
ヘッド14は、図3に示すようにZ、θ、xφ、yφ方向に移動可能に構成され、キャリア基板2をキャリア基板保持部11からピックアップし、粘着シート保持部17に保持される粘着シート4の上に半導体チップ1の第2の面を下にして載置し粘着シート4に粘着させるとともに、粘着シート保持部17に保持される粘着シート4の粘着膜3の粘着力が低減された後に半導体チップ1をピックアップして、載置台13のX、Y方向への移動とヘッド14のZ、θ方向の移動とを連動させることによって回路基板6の上に実装することができる。ヘッド14のxφ、yφ方向への移動は、後述する平行度調整の際に実行される。
なお、実施例1においては、ヘッド14がZ、θ、xφ、yφ方向に移動し、キャリア基板保持部11、載置台13及び粘着シート保持部17はともに、X、Y方向に移動するように構成したが、必ずしもこれに限定されず、装置の都合により適宜変更が可能である。例えば、ヘッド14がX、Y、θ、xφ、yφ方向に移動し、キャリア基板保持部11、載置台13及び粘着シート保持部17はともにZ方向に移動する構成としてもよい。また、θとxφ、yφ方向の移動機構は必要がなければ省略することが可能である。例えば、半導体チップ1及び回路基板6の位置に回転ずれがない場合はθ方向の移動機構は省略できる。また、半導体チップ1と回路基板6との平行度調整の必要がない場合は、xφ、yφ方向の移動機構は省略できる。
2視野光学系12は、キャリア基板2のピックアップ時にヘッド14とキャリア基板2との間に侵入して双方の画像を撮像することができる。また、半導体チップ1のピックアップ時に粘着シート保持部17上の半導体チップ1の位置を撮像するとともに、ヘッド14がピックアップした半導体チップ1を載置台13上の回路基板6に実装する際に、ヘッド14と載置台13との間に侵入して半導体チップ1と回路基板6の画像を撮像することができる。撮像された各画像は、図示しない制御部で画像処理されてそれぞれの位置ずれを認識する。そして、制御部は、この位置ずれを考慮して、ヘッド14が半導体チップ1を保持し、粘着シート4から剥離して、半導体チップ1の第2の面側を回路基板6に接合するように制御する。
図示しないキャリア基板除去部は、キャリア基板2にレーザ光を照射可能なレーザ光照射部を含んで構成されている。このレーザ光照射部からレーザ光をキャリア基板2に照射することによりキャリア基板と半導体チップ1を容易に剥離することができる。例えば、マイクロLEDの場合は、エキシマレーザをサファイヤからなるキャリア基板に照射することにより、容易にマイクロLEDからサファイヤを剥離することができる。
図示しない粘着力低減部は、粘着シート4及び半導体チップ1を所定温度に加熱する加熱部を含んで構成されている。具体的には、粘着シート保持部17に設けられたヒータ21により、粘着膜3の粘着力が低減しほぼゼロとなる所定温度に粘着シート4及び半導体チップ1を加熱することができる。
半導体チップ1を回路基板6に実装する際には、2視野光学系12で半導体チップ1及び回路基板6の位置ずれを撮像してX、Y方向に高精度に実装する。実施例1における実装装置においては、このX、Y方向の精度に加えて半導体チップ1と回路基板6との平行度を調整することにより、Z方向の高精度化も実現している。
この平行度調整について、図4、図5を参照して説明する。図4に示すように、ヘッド14の両端部には、第1のレーザ変位計15、第2レーザ変位計16、及び図示しない第3のレーザ変位計が設けられている。これらの3つのレーザ変位計からレーザ光を回路基板6に照射してそれぞれの回路基板6までの距離を測定し、制御部にてそれら距離の違いを演算してヘッド14をxφ、yφ方向に調整移動させる(図4、図5(b)参照)。
また、このxφ、yφ方向調整に先立って、ヘッド14自身の平行度を調整する必要がある。これは、図5(a)に示すように、平坦に製作した治具31をヘッド14が吸着し、この治具31に第1のレーザ変位計15、第2のレーザ変位計16、及び図示しない第3のレーザ変位計からレーザ光を照射して自身の平行度を測定してxφ、yφ方向に自身を移動させて調整を行う。
以上、述べた実装装置50により、本発明の実施例1における実装方法を実行できる。そして、多くの半導体チップ1や回路基板6を一度加熱した温度を一定に保ったまま回路基板6に実装することにより、半導体チップを高速・高精度に安定して回路基板に実装することができる。
なお、実施例1においては、実装装置50にキャリア基板除去部を設ける構成としたが、必ずしもこれに限定されず、実装装置の都合により適宜変更が可能である。例えば、キャリア基板除去装置とキャリア基板除去部を有さない実装装置51の2台構成としてもよい。つまり実装装置51の前工程にキャリア基板除去装置を設け、このキャリア基板除去装置で粘着シート貼付け工程及びキャリア基板除去工程を実行する。キャリア基板除去装置でキャリア基板を除去した半導体チップ1を粘着シート4に粘着させた状態で実装装置51における粘着シート保持部17にロボット等の搬送手段で搬送する構成としてよい。これにより実装装置51はコンパクトに構成できる。
このように実施例1においては、キャリア基板に第1の面を保持されたダイシング後の半導体チップを載置台に載置された回路基板に実装する実装方法であって、前記キャリア基板に保持された前記半導体チップの前記第1の面と反対側の面である前記第2の面を粘着シートに貼付ける粘着シート貼付け工程と、前記キャリア基板を前記半導体チップから除去するキャリア基板除去工程と、前記粘着シートの粘着力を低減させる粘着力低減工程と、ヘッドが前記半導体チップの前記第1の面側を保持することにより、前記粘着シートから剥離して、前記第2の面側を前記回路基板に接合することにより前記半導体チップを前記回路基板に実装する実装工程と、を順次実行することを特徴とする実装方法により、粘着シートの粘着力が低減してからヘッドが半導体チップを保持し、実装するので、半導体チップに余計なものが残存することなく実装が可能であり、高精度に安定して回路基板に実装することができる。
また、キャリア基板に第1の面を保持されたダイシング後の半導体チップを載置台に載置された回路基板に実装する実装装置であって、前記キャリア基板に保持された前記半導体チップの前記第1の面と反対側の面である前記第2の面を貼りつける粘着シートを保持する粘着シート保持部と、前記粘着シートに貼付けられた前記半導体チップから前記キャリア基板を除去するキャリア基板除去部と、前記粘着シートの粘着力を低減させる粘着力低減部と、前記第1の面側から前記半導体チップを保持可能なヘッドと、前記ヘッドが前記半導体チップを保持し、前記粘着シートから剥離して、前記第2の面側を前記回路基板に接合するように制御する制御部と、を有することを特徴とする実装装置により、粘着シートの粘着力が低減してからヘッドが半導体チップを保持し、実装するので、半導体チップに余計なものが残存することなく実装が可能であり、高精度に安定して回路基板に実装することができる。
本発明の実施例2は、粘着力が低減した粘着シート4から半導体チップ1をピックアップするヘッド114が1つずつ半導体チップ1をピックアップするように構成された点で実施例1と異なっている。そして、このヘッド114も実施例1におけるヘッド14と同様にヒータ122からなる加熱部を備えている。
本発明の実施例2における実装方法について、図6を参照して説明する。図6は、本発明の実施例2における実装方法の後半部分を説明する図である。実施例2における実装方法の前半部分は実施例1と同じである。実施例2における実装方法の後半部分では、まず、実施例1と同様に図6(a)に示す粘着力低減工程を実行する。粘着力低減工程では、粘着シート4の粘着膜3を所定温度に加熱することにより粘着膜3の粘着力を低減させる。この所定温度は、粘着膜3の種類を選択することにより、90℃、150℃、180℃等任意に選択することができる。実施例2においても、150℃で粘着力がほぼゼロとなる粘着膜3を採用した粘着シート4を用いている。つまり、粘着シート4を150℃に加熱することにより粘着膜3の粘着力が低減し、半導体チップ1を容易に剥離することが可能となる。また、粘着シート4の加熱時に半導体チップ1も同じ所定温度である150℃に加熱するように粘着シート保持部17におけるヒータ21を制御する。これは、実施例1と同様に、実装工程で半導体チップ1を回路基板6に接合する際の温度150℃と同じ温度を所定温度として粘着力低減工程でも採用することにより、半導体チップ1の温度を粘着力低減工程から実装工程に至るまで一定に保ち、熱収縮を避けるためである。これにより、高精度で安定した実装が実現できる。
次に、図6(b)に示すように、ヘッド114で粘着シート4上の半導体チップ1を1個ずつ吸着してピックアップする。この際に、ヘッド114内部に設けられたヒータ122によりピックアップした半導体チップ1の温度を粘着力低減工程における所定温度、つまり実施例2においても150℃、に加熱維持するように制御する。また、粘着シート保持部17におけるヒータ21も同様に半導体チップ1の温度を粘着力低減工程における所定温度、つまり実施例2においても150℃、に加熱維持するように制御する。
ヘッド114でピックアップした1つの半導体チップ1は、図6(c)に示すように、ヘッド114がX、Y、Z方向に適宜移動することにより、載置台13に保持された回路基板6に接合して実装される。回路基板6の表面には転写層5が設けられていて、この転写層5により半導体チップ1が動かないように保持できる。そして、載置台13にはヒータ24が設けられており、ヘッド114とともに載置台13を加熱制御することにより、半導体チップ1に設けたバンプと回路基板6の電極とが接合される。ヘッド114及び載置台13が加熱制御されることにより、半導体チップ1が粘着力低減工程における所定温度、実施例2においても150℃、に維持され、また回路基板6も同じ粘着力低減工程における所定温度に維持され、粘着力低減工程から実装工程まで、半導体チップ1を同じ所定温度に維持することができる。これにより、半導体チップ1が熱収縮することが避けられ、高精度な実装を安定して行うことができる。
実施例2における実装方法は、特に、回路基板6に実装した半導体チップ1が位置ずれや実装できなかった場合等に有効である。半導体チップ1を1個ずつピックアップして回路基板6に実装することでリペアーすることが容易にできる。また、この際にも半導体チップ1の温度を粘着力低減工程から実装工程に至るまで一定の所定温度に保つことで、半導体チップ1の熱収縮を防ぎ、高精度で安定した実装を行うことができる。
本発明の実施例3は、粘着力低減工程において、粘着シート4の粘着力が低減したことにより、半導体チップ1が飛散することを防止するために、半導体チップ1を押圧する点で実施例1、実施例2と異なっている。
本発明の実施例3について、図7を参照して説明する。図7は、本発明の実施例3における粘着力低減工程を説明する図である。実施例3においては、図7に示すように実装装置50が押圧部231を備えており、図示しない駆動機構によりZ方向に押圧移動することができる。粘着力低減工程においては、実施例1で述べた粘着力低減工程における所定温度に予め加熱された押圧部231が粘着シート4に保持されている半導体チップ1を押圧し、粘着シート保持部17の加熱により粘着シート4及び半導体チップ1が加熱され所定温度に均温化されてから粘着シート4の粘着力が低減するまでの間押圧を継続することにより、粘着シート4の粘着力が低減したことによる半導体チップ1の飛散により位置ずれが起こらないようにしている。押圧部231は、鉄やアルミ等の金属やプラスチック等任意の材料で構成でき、粘着シート4上の半導体チップ1を全て押圧可能な大きさを有している。この押圧部231は粘着力低減工程が終われば、押圧を解除して上昇させる。
このように実施例3においては、粘着力低減工程における粘着シート4の粘着力が低減することによる半導体チップの位置ずれを防ぐことができ、後工程である実装工程をスムーズに行うことで安定した実装を実行できる。
本発明における実装方法および実装装置は、半導体チップを高精度に安定して実装する分野に広く用いることができる。
1:半導体チップ 2:キャリア基板 3:粘着膜 4:粘着シート5:転写層 6:回路基板11:キャリア基板保持部 12:2視野光学系 13:載置台 14:ヘッド15:レーザ変位計 16:レーザ変位計 17:粘着シート保持部21:ヒータ 22:ヒータ 24:ヒータ 31:治具 50:実装装置 51:実装装置114ヘッド 122:ヒータ 231:押圧部

Claims (10)

  1. キャリア基板に第1の面を保持されたダイシング後の半導体チップを載置台に載置された回路基板に実装する実装方法であって、
    前記キャリア基板に保持された前記半導体チップの前記第1の面と反対側の面である第2の面を粘着シートに貼付ける粘着シート貼付け工程と、
    前記キャリア基板を前記半導体チップから除去するキャリア基板除去工程と、
    前記粘着シートの粘着力を低減させる粘着力低減工程と、
    ヘッドが前記半導体チップの前記第1の面側を保持することにより、前記粘着シートから剥離して、前記第2の面側を前記回路基板に接合することにより前記半導体チップを前記回路基板に実装する実装工程と、
    を順次実行することを特徴とする実装方法。
  2. 前記キャリア基板除去工程は、レーザ光を照射して前記キャリア基板を剥離することを特徴とする請求項1に記載の実装方法。
  3. 前記粘着力低減工程は、前記粘着シート及び前記半導体チップを所定温度に加熱することにより粘着力を低減させることを特徴とする請求項1又は2に記載の実装方法。
  4. 前記実装工程は、前記半導体チップを前記粘着力低減工程における前記所定温度に維持したまま前記回路基板に実装可能に、前記ヘッド及び前記載置台を加熱制御することを特徴とする請求項3に記載の実装方法。
  5. 前記回路基板に前記半導体チップを実装する際の前記回路基板と前記半導体チップの間の接合力は前記ヘッドの保持力よりも強く、前記ヘッドの保持力は粘着力が低減した前記粘着シートの粘着力よりも強いことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の実装方法。
  6. キャリア基板に第1の面を保持されたダイシング後の半導体チップを載置台に載置された回路基板に実装する実装装置であって、
    前記キャリア基板に保持された前記半導体チップの前記第1の面と反対側の面である第2の面を貼りつける粘着シートを保持する粘着シート保持部と、
    前記粘着シートに貼付けられた前記半導体チップから前記キャリア基板を除去するキャリア基板除去部と、
    前記粘着シートの粘着力を低減させる粘着力低減部と、
    前記第1の面側から前記半導体チップを保持可能なヘッドと、
    前記ヘッドが前記半導体チップを保持し、前記粘着シートから剥離して、前記第2の面側を前記回路基板に接合するように制御する制御部と、
    を有することを特徴とする実装装置。
  7. 前記キャリア基板除去部は、前記キャリア基板にレーザ光を照射可能なレーザ光照射部を含むことを特徴とする請求項6に記載の実装装置。
  8. 前記粘着力低減部は、前記粘着シート及び前記半導体チップを所定温度に加熱する加熱部を含むことを特徴とする請求項6又は7に記載の実装装置。
  9. 前記ヘッド及び前記載置台はそれぞれを加熱することが可能であり、前記半導体チップを前記粘着力低減部における前記所定温度に維持したまま前記回路基板に実装可能に、前記制御部が前記粘着力低減部、前記ヘッド及び前記載置台の加熱温度を制御することを特徴とする請求項8に記載の実装装置。
  10. 前記回路基板に前記半導体チップを実装する際の前記回路基板と前記半導体チップの間の接合力は、前記ヘッドの保持力よりも強く、前記ヘッドの保持力は、粘着力が低減した前記粘着シートの粘着力よりも強いことを特徴とする請求項6〜9のいずれかに記載の実装装置。

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