JP2017538139A - リソグラフィ構造を生成するための光学系 - Google Patents
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Abstract
Description
RKx、RKy=(xv−xs)、(yv−ys)
5 偏向デバイス
13 書込視野
15 プレビュー視野
22 プレビュー光
Claims (13)
- リソグラフィ構造を生成するための光学系(1)であって、
構造生成書込光ビームを基板平面(12)内の基板面(10)の領域内の書込焦点(9)の中に案内するための投影光学ユニット(8)を含み、
前記基板面(10)の前記領域内の書込視野(13)内に前記書込光ビームの書込焦点(9)を偏向させるための偏向デバイス(5)を含み、
前記書込視野(13)の面積よりも少なくとも10倍大きい面積を有するプレビュー視野(15)を前記基板面(10)の前記領域内に結像するためのプレビュー光学ユニット(14)を含み、
前記投影光学ユニット(8)及び前記プレビュー光学ユニット(14)は、共通フレーム(16)によって担持され、
2つの平行移動自由度(x,y)で前記基板面(10)に平行な平面(xy)内で変位可能である基板ホルダ(18)を含み、
前記プレビュー視野(15)の位置に対する前記書込視野(13)の位置の相対座標(RKx、RKy)が格納されるメモリ(28)を含む制御ユニット(27)を含む、
ことを特徴とする光学系(1)。 - 前記投影光学ユニット(8)内で前記書込光ビームのビーム経路を使用して前記書込視野(13)を取り込むための処理カメラ(23)を特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記投影光学ユニット(8)は、前記基板平面(12)と垂直な方向(z)に前記プレビュー光学ユニット(14)に対して変位可能であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学系。
- 前記投影光学ユニット(8)の及び/又は前記プレビュー光学ユニット(14)の焦点面を決定するための自動焦点デバイス(25)を特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記投影光学ユニット(8)は、1.0よりも大きい像側開口数を有することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記プレビュー光学ユニット(14)は、0.1よりも小さい像側開口数を有することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の光学系。
- 書込光(4)を生成するための光源(3)を特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の光学系。
- 請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の光学系(1)内でプレビュー視野(15)の位置に対する書込視野(13)の位置の相対座標(RKx、RKy)を決定する方法であって、
試験物体を初期視野(13,15)内に、すなわち、視野群:プレビュー視野(15)及び書込視野(13)からの該2つの視野のうちの一方内に光学群:プレビュー光学ユニット(14)及び投影光学ユニット(8)からの該2つの光学ユニット(8、14)のうちの一方を使用して記録する段階と、
前記試験物体を前記初期視野(13、15)内に該試験物体が該初期視野(13、15)内に定義された位置を有するように位置決めする段階と、
基板ホルダ(18)により、前記初期視野(13、15)とターゲット視野(15、13)、すなわち、前記視野群からの前記2つの視野のうちの他方との間で前記試験物体の粗変位を実行する段階と、
この粗変位の粗相対座標(RKx,coarse);RKy,coarse)を登録する段階と、
前記光学群からの前記2つの光学ユニット(14、8)のうちの他方を使用して前記試験物体を記録する段階と、
前記試験物体を前記ターゲット視野(15、13)内に該試験物体が該ターゲット視野(15、13)内に定義された位置を有するように細かく位置決めする段階と、
前記微細位置決め中の前記粗相対座標(RKx,coarse;RKy,coarse)の変化を登録し、該粗相対座標(RKx,coarse;RKy,coarse)及び該登録の結果から前記相対座標(RKx、RKy)を生成する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 一方で前記初期視野(13、15)内のかつ他方で前記ターゲット視野(15、13)内の前記試験物体の前記位置の相関が、前記微細位置決め中に最大になることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 像スタックが、前記記録光学ユニット(8、14)を前記基板平面(12)と垂直な変位方向(z)に前記試験物体に対する該記録光学ユニット(14、8)の様々な変位位置に使用して該試験物体の様々な像を記録することによる該試験物体記録中に生成されることを特徴とする請求項8又は請求項9に記載の方法。
- 前記視野群のうちの前記視野(13、15)間の前記試験物体の粗変位が、前記決定中に複数回行われることを特徴とする請求項8から請求項10のいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の光学系(1)を使用してリソグラフィ構造を生成する方法であって、
請求項8から請求項11のいずれか1項に記載の方法を使用してプレビュー視野(15)の位置に対する書込視野(13)の位置の相対座標(RKx、RKy)を決定する段階と、
基板(11)を基板ホルダ(18)上に与える段階と、
前記プレビュー視野(15)内の前記基板(11)上の書込ターゲット位置を決定する段階と、
前記決定された相対座標(RKx、RKy)を使用して前記書込ターゲット位置を前記プレビュー視野(15)から前記書込視野(13)の中に変位させる段階と、
書込光ビームを使用して予め決められた構造を前記書込視野(13)の中に書き込む段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記書込ターゲット位置は、該書込ターゲット位置が前記プレビュー視野(15)から前記書込視野(13)の中に変位される前に該プレビュー視野(15)内で位置合わせされることを特徴とする請求項12に記載の方法。
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