JPS6257008B2 - - Google Patents
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- JPS6257008B2 JPS6257008B2 JP56018004A JP1800481A JPS6257008B2 JP S6257008 B2 JPS6257008 B2 JP S6257008B2 JP 56018004 A JP56018004 A JP 56018004A JP 1800481 A JP1800481 A JP 1800481A JP S6257008 B2 JPS6257008 B2 JP S6257008B2
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- Japan
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- focusing plate
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Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 20
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 13
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は試料の位置合せのための光学系、特に
半導体焼付装置に用いられるマスクやウエハーの
位置合せのための光学系に関する。
半導体焼付装置に用いられるマスクやウエハーの
位置合せのための光学系に関する。
一般に、物体を２次元で位置合せするためには
２ケ所での観察が必要である。そしてICやLSI等
の製造に用いられるウエハーを２次元的に位置決
めするための光学系として、２つの顕微鏡を用
い、さらに必要に応じて観察倍率を高めるために
ズームレンズを用いたものが知られている。第１
図はこのようなアライメント光学系の例を示す配
置図であり、まずこれについて説明する。
２ケ所での観察が必要である。そしてICやLSI等
の製造に用いられるウエハーを２次元的に位置決
めするための光学系として、２つの顕微鏡を用
い、さらに必要に応じて観察倍率を高めるために
ズームレンズを用いたものが知られている。第１
図はこのようなアライメント光学系の例を示す配
置図であり、まずこれについて説明する。
第１図において、ICやLSIの基板となるウエハ
ー１はそのパターン面１ａに所定のパターンが形
成され、その周辺部に２つのアライメントマーク
３，４が設けられている。そしてステージ２はウ
エハー１を支持するとともに紙面に垂直な水平面
内で自由に移動可能である。アライメントマーク
３及び４からの光線はそれぞれ顕微鏡対物レンズ
７，８で収斂され、ミラー９，１０及び直角プリ
ズム１１の両斜面１２，１３で反射されて焦点板
１４上に集光される。焦点板１４上に形成された
２つのアライメントマーク３，４の像及び焦点板
１４上に設けられた基準マーク１４ａ，１４ｂ
は、変倍可能なリレーレンズ１５により投影され
た後、接眼レンズ１６を通して観察される。
ー１はそのパターン面１ａに所定のパターンが形
成され、その周辺部に２つのアライメントマーク
３，４が設けられている。そしてステージ２はウ
エハー１を支持するとともに紙面に垂直な水平面
内で自由に移動可能である。アライメントマーク
３及び４からの光線はそれぞれ顕微鏡対物レンズ
７，８で収斂され、ミラー９，１０及び直角プリ
ズム１１の両斜面１２，１３で反射されて焦点板
１４上に集光される。焦点板１４上に形成された
２つのアライメントマーク３，４の像及び焦点板
１４上に設けられた基準マーク１４ａ，１４ｂ
は、変倍可能なリレーレンズ１５により投影され
た後、接眼レンズ１６を通して観察される。
接眼レンズ１６を通して観察される視野は例え
ば第２図のようである。視野の左側には焦点板１
４上の基準マーク１４ａの像１４a′と対物レンズ
７によるアライメントマーク３の十字線像３′が
あり、視野の右側には焦点板１４上の基準マーク
１４ｂの像１４b′と対物レンズ８によるアライメ
ントマーク４の直線像４′がある。第２図に示し
た状態ではウエハー１のアライメントは不完全で
ある。ステージ２の移動によりウエハー１を焦点
板１４上の基準マーク１４ａ，１４ｂに対して移
動させ、視野が第３図のように、アライメントマ
ーク３′，４′がそれぞれ基準マーク１４a′，１４
b′と重なつた時、アライメントが完了する。
ば第２図のようである。視野の左側には焦点板１
４上の基準マーク１４ａの像１４a′と対物レンズ
７によるアライメントマーク３の十字線像３′が
あり、視野の右側には焦点板１４上の基準マーク
１４ｂの像１４b′と対物レンズ８によるアライメ
ントマーク４の直線像４′がある。第２図に示し
た状態ではウエハー１のアライメントは不完全で
ある。ステージ２の移動によりウエハー１を焦点
板１４上の基準マーク１４ａ，１４ｂに対して移
動させ、視野が第３図のように、アライメントマ
ーク３′，４′がそれぞれ基準マーク１４a′，１４
b′と重なつた時、アライメントが完了する。
ところがこのようなアライメント光学系におい
て、アライメントの精度を高めるためにリレーレ
ンズ１５の倍率を上げると、第４図のごとく、視
野の中で基準マークの像１４a′，１４b′が外方へ
移動するとともにアライメントマークの像３′，
４′も外側へ移動して視野から一部外れてしま
い、アライメントが不都合になつてしまう。極端
な場合には基準マーク自体が視野から全く外れて
しまいアライメントが不可能になることもある。
て、アライメントの精度を高めるためにリレーレ
ンズ１５の倍率を上げると、第４図のごとく、視
野の中で基準マークの像１４a′，１４b′が外方へ
移動するとともにアライメントマークの像３′，
４′も外側へ移動して視野から一部外れてしま
い、アライメントが不都合になつてしまう。極端
な場合には基準マーク自体が視野から全く外れて
しまいアライメントが不可能になることもある。
このような状態を避けるために、リレーレンズ
１５の倍率を固定し、対物レンズ７，８をズーム
レンズとして倍率を変える構成とすれば、倍率を
変えても基準マークを常に視野内の一定位置に観
察することができる。しかしながらこの場合に
は、対物レンズ７，８の倍率変換に伴つて移動す
るレンズ相互間の偏心が問題となり、焦点板１４
に対してウエハー１の位置決めを0.1μ程度の精
度で行いたい場合、レンズの偏心を0.1μ以下に
抑えることは容易ではない。まして、焼付パター
ンの大きさの変化に伴つてひんぱんに変倍を行わ
ねばならないことを考えると、使用に伴う機械的
精度の変化もあつて、レンズの偏心を無くすこと
は不可能に近い。
１５の倍率を固定し、対物レンズ７，８をズーム
レンズとして倍率を変える構成とすれば、倍率を
変えても基準マークを常に視野内の一定位置に観
察することができる。しかしながらこの場合に
は、対物レンズ７，８の倍率変換に伴つて移動す
るレンズ相互間の偏心が問題となり、焦点板１４
に対してウエハー１の位置決めを0.1μ程度の精
度で行いたい場合、レンズの偏心を0.1μ以下に
抑えることは容易ではない。まして、焼付パター
ンの大きさの変化に伴つてひんぱんに変倍を行わ
ねばならないことを考えると、使用に伴う機械的
精度の変化もあつて、レンズの偏心を無くすこと
は不可能に近い。
このように、従来ではアライメント光学系の観
察倍率が変換可能ではあつても、高倍率において
は十分高精度の位置決めが難しく満足できるもの
ではなかつた。
察倍率が変換可能ではあつても、高倍率において
は十分高精度の位置決めが難しく満足できるもの
ではなかつた。
本発明の目的は、観察倍率が変換可能でありな
がら、低倍率から高倍率まで常にアライメントが
容易であり高倍率においては極めて高精度の位置
合せが可能なアライメント光学系を提供すること
にある。
がら、低倍率から高倍率まで常にアライメントが
容易であり高倍率においては極めて高精度の位置
合せが可能なアライメント光学系を提供すること
にある。
本発明によるアライメント光学系の構成は、被
検物体上に設けられた所定の第１及び第２アライ
メントマークの像をそれぞれ形成するための第１
と第２の対物レンズと、両対物レンズによる２つ
のアライメントマーク像を同一視野に合成するた
めの光路合成部材とを有し、前記各アライメント
マーク像により前記被検物体の位置決めを行うア
ライメント光学系において、 前記第１対物レンズと前記光路合成部材との間
に、位置決め用基準マークを有する第１焦点板
と、該第１焦点板上に形成される前記アライメン
トマークの像と該基準マークとを投影するための
第１リレーレンズとを設け、かつ前記第２対物レ
ンズと前記光路合成部材との間に、位置決め用基
準マークを有する第２焦点板と、該第２焦点板上
に形成される前記アライメントマークの像と該基
準マークとを投影するための第２リレーレンズと
を設け、そして該第１と第２リレーレンズとを変
倍可能に構成したものである。
検物体上に設けられた所定の第１及び第２アライ
メントマークの像をそれぞれ形成するための第１
と第２の対物レンズと、両対物レンズによる２つ
のアライメントマーク像を同一視野に合成するた
めの光路合成部材とを有し、前記各アライメント
マーク像により前記被検物体の位置決めを行うア
ライメント光学系において、 前記第１対物レンズと前記光路合成部材との間
に、位置決め用基準マークを有する第１焦点板
と、該第１焦点板上に形成される前記アライメン
トマークの像と該基準マークとを投影するための
第１リレーレンズとを設け、かつ前記第２対物レ
ンズと前記光路合成部材との間に、位置決め用基
準マークを有する第２焦点板と、該第２焦点板上
に形成される前記アライメントマークの像と該基
準マークとを投影するための第２リレーレンズと
を設け、そして該第１と第２リレーレンズとを変
倍可能に構成したものである。
以下本発明の構成を図面を参照して説明する。
第５図は本発明によるアライメント光学系の概
略構成図である。第５図において、ウエハー１の
パターン面１ａ上の第１アライメントマーク３
は、第１対物レンズ２１により第１焦点板２３上
に投影され、他方ウエハー１のパターン面１ａ上
の第２アライメントマーク４は第２対物レンズ２
２により第２焦点板２４上に投影される。第１焦
点板２３上には第６図の平面図に示すごとき位置
決め用基準マーク２３ａが設けられており、第２
焦点板２４上にも同一の基準マーク２４ａが設け
られている。そして、第１焦点板２３上の第１ア
ライメントマーク３の像と基準マーク２３ａとは
変倍可能なリレーレンズ２５により、ミラー２７
及び直角プリズム３０の斜面３１の反射を介して
投影され、同様に、第２焦点板２４上の第２アラ
イメントマーク４の像と基準マーク２４ａとは、
変倍可能なリレーレンズ２６によりミラー２８及
び直角プリズム３０の斜面３２の反射を介して投
影される。これによつて、視野合成部材としての
直角プリズム３０の２つの斜面３１，３２で形成
される稜線を含む平面内に２つの基準マーク像と
２つのアライメントマーク像が形成される。これ
らの像はさらに第３のリレーレンズ３５によつて
投影され、接眼レンズ３６を通して観察される。
略構成図である。第５図において、ウエハー１の
パターン面１ａ上の第１アライメントマーク３
は、第１対物レンズ２１により第１焦点板２３上
に投影され、他方ウエハー１のパターン面１ａ上
の第２アライメントマーク４は第２対物レンズ２
２により第２焦点板２４上に投影される。第１焦
点板２３上には第６図の平面図に示すごとき位置
決め用基準マーク２３ａが設けられており、第２
焦点板２４上にも同一の基準マーク２４ａが設け
られている。そして、第１焦点板２３上の第１ア
ライメントマーク３の像と基準マーク２３ａとは
変倍可能なリレーレンズ２５により、ミラー２７
及び直角プリズム３０の斜面３１の反射を介して
投影され、同様に、第２焦点板２４上の第２アラ
イメントマーク４の像と基準マーク２４ａとは、
変倍可能なリレーレンズ２６によりミラー２８及
び直角プリズム３０の斜面３２の反射を介して投
影される。これによつて、視野合成部材としての
直角プリズム３０の２つの斜面３１，３２で形成
される稜線を含む平面内に２つの基準マーク像と
２つのアライメントマーク像が形成される。これ
らの像はさらに第３のリレーレンズ３５によつて
投影され、接眼レンズ３６を通して観察される。
いま第１と第２のリレーレンズ２５，２６が比
較的低い倍率であるとすると、この時接眼レンズ
３６を通して観察される視野は例えば第７図のよ
うであるとする。
較的低い倍率であるとすると、この時接眼レンズ
３６を通して観察される視野は例えば第７図のよ
うであるとする。
第７図の視野図は第２図と同様であるが、視野
の左側に第１焦点板２３上の基準マーク２３ａの
像２３a′とウエハー１上の第１アライメントマー
ク３の十字線像３′があり、視野の右側に第２焦
点板２４上の基準マーク２４ａの像２４a′とウエ
ハー１上の第２アライメントマーク４の像４′が
ある。また、視野を２分割する直線は視野合成プ
リズム３０の稜線である。ここで、位置合せの精
度を高めるために、第１と第２のリレーレンズ２
５，２６を図示なき手段により等しく変倍し、高
倍率の観察を行うならば、この時の視野は第８図
のごとくなる。第８図は第７図の状態に対して２
倍に拡大された場合であり、２つの基準マーク像
２３a′，２４a′はその中心位置を変化することな
く拡大されている。あとは、ステージ２を適当に
移動させて基準マークにアライメントマークを重
複させればよく、視野内に大きく拡大された像に
よつて正確な位置合せがなされる。
の左側に第１焦点板２３上の基準マーク２３ａの
像２３a′とウエハー１上の第１アライメントマー
ク３の十字線像３′があり、視野の右側に第２焦
点板２４上の基準マーク２４ａの像２４a′とウエ
ハー１上の第２アライメントマーク４の像４′が
ある。また、視野を２分割する直線は視野合成プ
リズム３０の稜線である。ここで、位置合せの精
度を高めるために、第１と第２のリレーレンズ２
５，２６を図示なき手段により等しく変倍し、高
倍率の観察を行うならば、この時の視野は第８図
のごとくなる。第８図は第７図の状態に対して２
倍に拡大された場合であり、２つの基準マーク像
２３a′，２４a′はその中心位置を変化することな
く拡大されている。あとは、ステージ２を適当に
移動させて基準マークにアライメントマークを重
複させればよく、視野内に大きく拡大された像に
よつて正確な位置合せがなされる。
このように、本発明によるアライメント光学系
の構成によれば、観察の倍率を変えても、視野内
での２つの基準マークの中心位置が全く変化しな
いため、高倍率において基準マークが視野から外
れる恐れがなく、常に視野内の一定位置でアライ
メントの正確な観察が容易に可能である。しか
も、観察視野の拡大が、第１焦点板及び第２焦点
板にウエハー上のアライメントマークが形成され
た後に行われるのであつて、第１及び第２対物レ
ンズによるアライメント像の各焦点板への投影倍
率は固定されるので、焦点板上における基準マー
クとアライメント像の相対的位置は変倍によつて
は全く影響を受けることがない。すなわち第１及
び第２リレーレンズによる変倍によつて生じ得る
レンズの偏心はアライメントの精度にあまり大き
な誤差を生ずることがなく、0.1μ程度の精度を
保つことも容易になる。
の構成によれば、観察の倍率を変えても、視野内
での２つの基準マークの中心位置が全く変化しな
いため、高倍率において基準マークが視野から外
れる恐れがなく、常に視野内の一定位置でアライ
メントの正確な観察が容易に可能である。しか
も、観察視野の拡大が、第１焦点板及び第２焦点
板にウエハー上のアライメントマークが形成され
た後に行われるのであつて、第１及び第２対物レ
ンズによるアライメント像の各焦点板への投影倍
率は固定されるので、焦点板上における基準マー
クとアライメント像の相対的位置は変倍によつて
は全く影響を受けることがない。すなわち第１及
び第２リレーレンズによる変倍によつて生じ得る
レンズの偏心はアライメントの精度にあまり大き
な誤差を生ずることがなく、0.1μ程度の精度を
保つことも容易になる。
尚、第５図に示した構成は、視野合成プリズム
３０の直後に形成された空間像を第３のリレーレ
ンズ３５で投影することとしたが、このリレーレ
ンズを省略して、直接に接眼レンズ３６で観察す
ることもできる。また、接眼レンズを用いて直接
肉眼観察するのみならず、ITV撮像管を用いモニ
ターテレビによつて観察する構成とすることもで
きることはいうまでもない。
３０の直後に形成された空間像を第３のリレーレ
ンズ３５で投影することとしたが、このリレーレ
ンズを省略して、直接に接眼レンズ３６で観察す
ることもできる。また、接眼レンズを用いて直接
肉眼観察するのみならず、ITV撮像管を用いモニ
ターテレビによつて観察する構成とすることもで
きることはいうまでもない。
第１図はアライメント光学系の配置図、第２図
は接眼レンズを通して観察される視野図、第３図
はアライメントが完了したときの視野図、第４図
はリレーレンズの倍率をあげたときの視野図、第
５図は本発明によるアライメント光学系の概略構
成図、第６図は第５図に使用の第１焦点板の平面
図、第７図は第２図と同様の本実施例の視野図、
第８図は高倍率の観察を行つた視野図である。 〔主要部分の符号の説明〕、１……ウエハー、
２……ステージ、３……第１アライメント、４…
…第２アライメント、２１……第１対物レンズ、
２２……第２対物レンズ、２３……第１焦点板、
２４……第２焦点板、２５……第１のリレーレン
ズ、２６……第２のリレーレンズ。
は接眼レンズを通して観察される視野図、第３図
はアライメントが完了したときの視野図、第４図
はリレーレンズの倍率をあげたときの視野図、第
５図は本発明によるアライメント光学系の概略構
成図、第６図は第５図に使用の第１焦点板の平面
図、第７図は第２図と同様の本実施例の視野図、
第８図は高倍率の観察を行つた視野図である。 〔主要部分の符号の説明〕、１……ウエハー、
２……ステージ、３……第１アライメント、４…
…第２アライメント、２１……第１対物レンズ、
２２……第２対物レンズ、２３……第１焦点板、
２４……第２焦点板、２５……第１のリレーレン
ズ、２６……第２のリレーレンズ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被検物体上に設けられた所定の第１及び第２
アライメントマークの像をそれぞれ形成するため
の第１と第２の対物レンズと、該両対物レンズに
よる前記２つのアライメントマーク像を同一視野
に合成するための光路合成部材とを有し、前記各
アライメントマーク像により前記被検物体の位置
決めを行うアライメント光学系において、 前記第１対物レンズと前記光路合成部材との間
に、位置決め用基準マークを有する第１焦点板
と、該第１焦点板上に形成される前記アライメン
トマークの像と該基準マークとを投影するための
第１リレーレンズとを設け、かつ前記第２対物レ
ンズと前記光路合成部材との間に、位置決め用基
準マークを有する第２焦点板と、該第２焦点板上
に形成される前記アライメントマークの像と該基
準マークとを投影するための第２リレーレンズと
を設け、該第１と第２リレーレンズとを変倍可能
に構成したことを特徴とするアライメント光学
系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56018004A JPS57133428A (en) | 1981-02-12 | 1981-02-12 | Alignment optical system capable of variable magnification |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56018004A JPS57133428A (en) | 1981-02-12 | 1981-02-12 | Alignment optical system capable of variable magnification |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57133428A JPS57133428A (en) | 1982-08-18 |
| JPS6257008B2 true JPS6257008B2 (ja) | 1987-11-28 |
Family
ID=11959540
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56018004A Granted JPS57133428A (en) | 1981-02-12 | 1981-02-12 | Alignment optical system capable of variable magnification |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57133428A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59101677A (ja) * | 1982-12-01 | 1984-06-12 | Ricoh Co Ltd | 磁気ブラシ現像装置 |
| JPS59141226A (ja) * | 1983-02-02 | 1984-08-13 | Canon Inc | 観察装置 |
| JPS59165419A (ja) * | 1983-03-11 | 1984-09-18 | Hitachi Ltd | 原画位置整合装置 |
| JPS60194537A (ja) * | 1984-02-22 | 1985-10-03 | ケイエルエイ・インストラメンツ・コ−ポレ−シヨン | 整列装置 |
| NL8401710A (nl) * | 1984-05-29 | 1985-12-16 | Philips Nv | Inrichting voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat. |
| JPH0615966B2 (ja) * | 1984-12-26 | 1994-03-02 | 株式会社日立製作所 | パタ−ン検出装置 |
| JP4574871B2 (ja) * | 2001-01-25 | 2010-11-04 | 日東光学株式会社 | アライメント装置および組立て装置 |
| KR100442954B1 (ko) * | 2002-08-26 | 2004-08-04 | 엘지전자 주식회사 | 광학엔진의 프리즘 정합구조 및 그 검사 방법 |
-
1981
- 1981-02-12 JP JP56018004A patent/JPS57133428A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57133428A (en) | 1982-08-18 |
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