JPH0290119A - レーザ描画機の集光光学装置 - Google Patents
レーザ描画機の集光光学装置Info
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- JPH0290119A JPH0290119A JP63208466A JP20846688A JPH0290119A JP H0290119 A JPH0290119 A JP H0290119A JP 63208466 A JP63208466 A JP 63208466A JP 20846688 A JP20846688 A JP 20846688A JP H0290119 A JPH0290119 A JP H0290119A
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- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
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- G02B7/28—Systems for automatic generation of focusing signals
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、レーザ光束を集束してＬＳＩのマスクのよう
な微細なパターンを描画するのに用いるレーザ描画機の
集光光学装置に関するものである。
な微細なパターンを描画するのに用いるレーザ描画機の
集光光学装置に関するものである。
［従来の技術］
レーザ光束を集束すれば極めて小さい１つの点に集める
ことができる。このレーザ光束の断面エネルギー分布が
ガウス分布形態を有すると仮定すれば、集束された光束
の最小直径（Ｄ）は、次式で与えられる。
ことができる。このレーザ光束の断面エネルギー分布が
ガウス分布形態を有すると仮定すれば、集束された光束
の最小直径（Ｄ）は、次式で与えられる。
Ｄ−１，２２ｆλ／ｄ
（但し、λ：レーザ光束中の波長、ｄ：入射光の直径、
ｆ：集束レンズの焦点距１１１りここで、レーザ光束と
して可視光を用いる場合は、最小直径（Ｄ）を１μｍ程
度の大きさでレーザ光束を集束させるのは別に難しくな
い。
ｆ：集束レンズの焦点距１１１りここで、レーザ光束と
して可視光を用いる場合は、最小直径（Ｄ）を１μｍ程
度の大きさでレーザ光束を集束させるのは別に難しくな
い。
このように集束されたレーザ光束を感光性基板に照射す
ると同時に、このレーザ光束と感光性基板の相対的位昔
を移動させることにより、必要とする形態の微細なパタ
ーンを形成することができる。したがって、このような
動作をするレーザ描画機は半導体製造工程で使用するマ
スクの製作とか、マスクなしに直接試料表面にパターン
を形成するマスクレスリソグラフィー等に用いられてい
る。
ると同時に、このレーザ光束と感光性基板の相対的位昔
を移動させることにより、必要とする形態の微細なパタ
ーンを形成することができる。したがって、このような
動作をするレーザ描画機は半導体製造工程で使用するマ
スクの製作とか、マスクなしに直接試料表面にパターン
を形成するマスクレスリソグラフィー等に用いられてい
る。
しかし、−数的に、レーザ光束の方を移動させるのは構
造が複雑となり、かつ広い面積に亘り精密なパターンを
形成させることが難しいので、従来のレーザ描画機では
レーザ光束の位置は一定に固定させたまま、感光性基板
の方を移動させる構造を採用していた。
造が複雑となり、かつ広い面積に亘り精密なパターンを
形成させることが難しいので、従来のレーザ描画機では
レーザ光束の位置は一定に固定させたまま、感光性基板
の方を移動させる構造を採用していた。
［発明が解決しようとする課題〕
ところで、レーザ描画機により形成するパターンの線幅
は、集束されたレーザ光束の直径、露光量（光束の強度
×露出時間）、感光剤のγ値、感光剤の分光感度（ｓｐ
ｅｃｔｒａｌ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）特性等に影響を受り
ることになり、線幅の精密な調整のためにはこのような
値等を正確に調整する必要がある。また、パターンの形
態および種類によって線幅が異なるので、集束されたレ
ーザ光束の直径をレーザ描画機を使用中に測定観察し、
正確に調節できるようにしなければならない。このため
には、レーザ描画機の集光部に被写体観測機能と光束直
径調節機能が付加されなければならない。
は、集束されたレーザ光束の直径、露光量（光束の強度
×露出時間）、感光剤のγ値、感光剤の分光感度（ｓｐ
ｅｃｔｒａｌ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）特性等に影響を受り
ることになり、線幅の精密な調整のためにはこのような
値等を正確に調整する必要がある。また、パターンの形
態および種類によって線幅が異なるので、集束されたレ
ーザ光束の直径をレーザ描画機を使用中に測定観察し、
正確に調節できるようにしなければならない。このため
には、レーザ描画機の集光部に被写体観測機能と光束直
径調節機能が付加されなければならない。
しかしながら、従来装置では、このような場合において
、集光レンズを変換するか、あるいは集光レンズと試料
（感光性基板）との距離を単に変化させることにより、
集束されたレーザ光束の直径を変化させていたが、前者
の集光レンズの交換の場合では、レーザ光束の直径を連
続的に変化させることが不可能であり、また後者の集光
レンズと試料との距離を変化させる場合では、被写体観
測機能を付加すれば集光レンズの位置変化によりその観
測機能が影響を受けることになり、そのため連続的に再
調整をしなければならないという問題点があった。
、集光レンズを変換するか、あるいは集光レンズと試料
（感光性基板）との距離を単に変化させることにより、
集束されたレーザ光束の直径を変化させていたが、前者
の集光レンズの交換の場合では、レーザ光束の直径を連
続的に変化させることが不可能であり、また後者の集光
レンズと試料との距離を変化させる場合では、被写体観
測機能を付加すれば集光レンズの位置変化によりその観
測機能が影響を受けることになり、そのため連続的に再
調整をしなければならないという問題点があった。
そこで、本発明の目的は、上述の問題点に鑑み、レーザ
光束の直径を変化させても何らの影響も受けることなし
に被写体およびレーザ光束の集光状態を観測できるよう
にしたレーザ描画機の集光光学装置を提供することにあ
る。
光束の直径を変化させても何らの影響も受けることなし
に被写体およびレーザ光束の集光状態を観測できるよう
にしたレーザ描画機の集光光学装置を提供することにあ
る。
［課題を解決するための手段］
かかる目的を達成するために、本発明は、加工物を載置
する平面移動台と所定距離を隔てて、集光レンズと接眼
レンズとを光軸に沿ってろ動できるように設置して加工
物を拡大観測できるようにした装置であって、集光レン
ズと接眼レンズとの間の光路上にビームスプリッタを配
属し、ビームスプリッタに可動の集束レンズで集束され
たレーザ光束を導き、レーザ光束を集光レンズの方向に
反射させるようにしたことを特徴とする。
する平面移動台と所定距離を隔てて、集光レンズと接眼
レンズとを光軸に沿ってろ動できるように設置して加工
物を拡大観測できるようにした装置であって、集光レン
ズと接眼レンズとの間の光路上にビームスプリッタを配
属し、ビームスプリッタに可動の集束レンズで集束され
たレーザ光束を導き、レーザ光束を集光レンズの方向に
反射させるようにしたことを特徴とする。
［作 用］
本発明は、上記構成により、平面移動台の上部に集光レ
ンズと接眼レンズとが自由に移動可能なるように設置さ
れた観測用顕微鏡に対して、レーザ光束を集束する集束
レンズと、この集束したレーザ光束を反射させるビーム
スプリッタ（光束分離器）を設置して、試料面に集束さ
れるレーザ光束の大きさと状態を観測すると同時に、集
束される光束の直径を任意所望の大きさに調節できるよ
うにしたので、既存のレーザ描画機において、別途の集
束レンズを設けることなしに、集光レンズと試料面との
距離を調整する場合とは異なり、観測機能に何らの影響
も与えずに光束の直径を変化させることが可能となる。
ンズと接眼レンズとが自由に移動可能なるように設置さ
れた観測用顕微鏡に対して、レーザ光束を集束する集束
レンズと、この集束したレーザ光束を反射させるビーム
スプリッタ（光束分離器）を設置して、試料面に集束さ
れるレーザ光束の大きさと状態を観測すると同時に、集
束される光束の直径を任意所望の大きさに調節できるよ
うにしたので、既存のレーザ描画機において、別途の集
束レンズを設けることなしに、集光レンズと試料面との
距離を調整する場合とは異なり、観測機能に何らの影響
も与えずに光束の直径を変化させることが可能となる。
［実施例］
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。
。
第１図は本発明のレーザ描画機の集光光学装置の構成例
を示す。
を示す。
第１図において、１は平面移動台、Ｌｌは集光レンズ、
Ｌｌは接眼レンズ、Ｌ３は集束レンズ、およびＢＳはビ
ームスプリッタ（光束分離器）である。
Ｌｌは接眼レンズ、Ｌ３は集束レンズ、およびＢＳはビ
ームスプリッタ（光束分離器）である。
本図に示すように、平面移動台１と所定の距離を隔てて
、集光レンズＬｌおよび接眼レンズＬ２を光軸方向に一
体に移動できるように設置し、これにより上述の集光レ
ンズＬｌにより焦点距ＩＦＩの位はに平面移動台１上に
載置された被写体（例えば、感光性基板）の倒立実像を
形成し、この倒立実像を接眼レンズ１，２により拡大さ
れた倒立虚像として観測できるようにする。また、この
集光レンズＬ１と接眼レンズ！４２との間の光軸上に、
レーザ光束を集束する集束レンズＬ３からのレーザ光束
を集光レンズＬ１の方向に反射するビームスプリッタＢ
Ｓを設ける。このビームスプリッタＢＳは集光レンズＬ
１と接眼レンズＬ２の穆動勅作に関係なく、一定の位置
に固定する。
、集光レンズＬｌおよび接眼レンズＬ２を光軸方向に一
体に移動できるように設置し、これにより上述の集光レ
ンズＬｌにより焦点距ＩＦＩの位はに平面移動台１上に
載置された被写体（例えば、感光性基板）の倒立実像を
形成し、この倒立実像を接眼レンズ１，２により拡大さ
れた倒立虚像として観測できるようにする。また、この
集光レンズＬ１と接眼レンズ！４２との間の光軸上に、
レーザ光束を集束する集束レンズＬ３からのレーザ光束
を集光レンズＬ１の方向に反射するビームスプリッタＢ
Ｓを設ける。このビームスプリッタＢＳは集光レンズＬ
１と接眼レンズＬ２の穆動勅作に関係なく、一定の位置
に固定する。
まず、被写体観測機能は、集束レンズＬ３からの光束の
結像１能も兼ねている集光レンズＬｌと接眼レンズ１．
２とで構成された一般的な顕微鏡構造により遂行される
。すなわち、集光レンズＬ１により焦点距１ｆ！ｔＦＩ
の位置に平面移動台】上の被写体の倒立実像が形成され
、この倒立実像を接眼レンズＬ２により拡大された倒立
虚像としてｖｌ測することができる。また、レーザ光束
は集束レンズＬ３によりそのレンズの焦点距離Ｆ２の位
置に１成果束され、この焦点距＠Ｆ２を通り発散するレ
ーザ光束はビームスプリッタＢＳにより反射して被写体
観測用顕微鏡の光束上を進行することにな、る。
結像１能も兼ねている集光レンズＬｌと接眼レンズ１．
２とで構成された一般的な顕微鏡構造により遂行される
。すなわち、集光レンズＬ１により焦点距１ｆ！ｔＦＩ
の位置に平面移動台】上の被写体の倒立実像が形成され
、この倒立実像を接眼レンズＬ２により拡大された倒立
虚像としてｖｌ測することができる。また、レーザ光束
は集束レンズＬ３によりそのレンズの焦点距離Ｆ２の位
置に１成果束され、この焦点距＠Ｆ２を通り発散するレ
ーザ光束はビームスプリッタＢＳにより反射して被写体
観測用顕微鏡の光束上を進行することにな、る。
もし、ビームスプリッタＢＳの中心点Ｓから焦点距９Ｆ
２までの距離が、その中心点Ｓから焦点距離Ｆｌまでの
距離に等しいとすれば、焦点距ｌ！ＩＦ２を通り発散す
るレーザ光束は、レンズの結像原理により集光レンズＬ
ｌによって平面移動台１上の被写体に焦点を形成する。
２までの距離が、その中心点Ｓから焦点距離Ｆｌまでの
距離に等しいとすれば、焦点距ｌ！ＩＦ２を通り発散す
るレーザ光束は、レンズの結像原理により集光レンズＬ
ｌによって平面移動台１上の被写体に焦点を形成する。
被写体上に集束されたレーザ光束はその一部分が反射さ
れ、集光レンズＬｌ、接眼レンズＬ２とで構成された顕
微鏡を通じてその反射光を観測することにより、集束さ
れたレーザ光束の直径および状態を観測することができ
る。この場合、集束レンズＬ３を光軸に沿って前後に水
平移動させることにより、集光レンズＬｌを通じて被写
体の試料面に集束するレーザ光束の焦点位置を制御する
ことができ、従って試料面上に集束されたレーザ光束の
直径を任意に変えることが可能となる。
れ、集光レンズＬｌ、接眼レンズＬ２とで構成された顕
微鏡を通じてその反射光を観測することにより、集束さ
れたレーザ光束の直径および状態を観測することができ
る。この場合、集束レンズＬ３を光軸に沿って前後に水
平移動させることにより、集光レンズＬｌを通じて被写
体の試料面に集束するレーザ光束の焦点位置を制御する
ことができ、従って試料面上に集束されたレーザ光束の
直径を任意に変えることが可能となる。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、平面移動台の上
部に集光レンズと接眼レンズとが自由に８動可能なよう
に設置された観：ｌ１ｌＩ用顕微鏡に対して、レーザ光
束を集束する集束レンズと、この集束したレーザ光束を
集光レンズに向けて反射させるビームスプリッタを設置
して、試料面に集束されるレーザ光束の犬ぎさと状態を
観測すると同時に、集束される光束の直径を任意所望の
大きさに調節できるようにしたので、既存のレーザ描画
機において、別途に集束レンズを設けることなしに、集
光レンズと試料面との距餌を調整する場合とは異なり、
観測機能に何らの影響も与えることなしに光束の直径を
変化させることが可能となる効果が得られる。
部に集光レンズと接眼レンズとが自由に８動可能なよう
に設置された観：ｌ１ｌＩ用顕微鏡に対して、レーザ光
束を集束する集束レンズと、この集束したレーザ光束を
集光レンズに向けて反射させるビームスプリッタを設置
して、試料面に集束されるレーザ光束の犬ぎさと状態を
観測すると同時に、集束される光束の直径を任意所望の
大きさに調節できるようにしたので、既存のレーザ描画
機において、別途に集束レンズを設けることなしに、集
光レンズと試料面との距餌を調整する場合とは異なり、
観測機能に何らの影響も与えることなしに光束の直径を
変化させることが可能となる効果が得られる。
第１図は本発明の実施例のレーザ描画機の集光光学装置
の構成を示す光路図である。 Ｌｌ・・・集光レンズ、 Ｆ２・・・接眼レンズ、 Ｆ３・・・集束レンズ、 ８５・・・ビームスプリッタ、 Ｆｌ、Ｆ２・・・焦点距離、 １・・・平面移動台。 木発′ＢＰ１大兇イ列Ｏ構へを示す光踏図第１図
の構成を示す光路図である。 Ｌｌ・・・集光レンズ、 Ｆ２・・・接眼レンズ、 Ｆ３・・・集束レンズ、 ８５・・・ビームスプリッタ、 Ｆｌ、Ｆ２・・・焦点距離、 １・・・平面移動台。 木発′ＢＰ１大兇イ列Ｏ構へを示す光踏図第１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）加工物を載置する平面移動台と所定距離を隔てて、
集光レンズと接眼レンズとを光軸に沿って移動できるよ
うに設置して前記加工物を拡大観測できるようにした装
置であって、 前記集光レンズと接眼レンズとの間の光路上にビームス
プリッタを配置し、該ビームスプリッタに可動の集束レ
ンズで集束されたレーザ光束を導き、該レーザ光束を前
記集光レンズの方向に反射させるようにしたことを特徴
とするレーザ描画機の集光光学装置。 ２）前記ビームスプリッタは、前記集光レンズと接眼レ
ンズとの相対的移動に関係なく所定位置に固定されてい
ることを特徴とする請求項１に記載のレーザ描画機の集
光光学装置。 ３）前記光軸に沿って移動することにより前記加工物上
に集束される前記レーザ光束の焦点位置を前記集束レン
ズによって調節するようにしたことを特徴とする請求項
１または２に記載のレーザ描画機の集光光学装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019870013364A KR900002716B1 (ko) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | 레이져묘화기의 집광광학장치 |
| KR1987-13364 | 1987-11-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0290119A true JPH0290119A (ja) | 1990-03-29 |
Family
ID=19266329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63208466A Pending JPH0290119A (ja) | 1987-11-26 | 1988-08-24 | レーザ描画機の集光光学装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4934799A (ja) |
| JP (1) | JPH0290119A (ja) |
| KR (1) | KR900002716B1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003514252A (ja) * | 1999-11-10 | 2003-04-15 | カール ツァイス イエナ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 光学ピンセットおよび／または加工ビームを顕微鏡内へ接続する装置 |
| JP2007015585A (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-25 | Shiroki Corp | ガラスホルダー |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5354695A (en) * | 1992-04-08 | 1994-10-11 | Leedy Glenn J | Membrane dielectric isolation IC fabrication |
| US5241419A (en) * | 1992-01-27 | 1993-08-31 | General Electric Company | Co-axial viewing device for lasers |
| US6714625B1 (en) * | 1992-04-08 | 2004-03-30 | Elm Technology Corporation | Lithography device for semiconductor circuit pattern generation |
| US5537927A (en) * | 1994-08-26 | 1996-07-23 | Tension Envelope Corporation | Apparatus and method for precisely drilling alignment pin register holes in pre-marked flexible printing plates |
| US6551857B2 (en) | 1997-04-04 | 2003-04-22 | Elm Technology Corporation | Three dimensional structure integrated circuits |
| US5915167A (en) | 1997-04-04 | 1999-06-22 | Elm Technology Corporation | Three dimensional structure memory |
| US7402897B2 (en) | 2002-08-08 | 2008-07-22 | Elm Technology Corporation | Vertical system integration |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5910922A (ja) * | 1982-04-17 | 1984-01-20 | カ−ル・ツアイス−スチフツング | 光学的調節要素 |
| JPS61186186A (ja) * | 1985-02-13 | 1986-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ光集光装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3096767A (en) * | 1961-05-11 | 1963-07-09 | Trg Inc | Photo-cauterizer with coherent light source |
| US4289378A (en) * | 1978-06-21 | 1981-09-15 | Ernst Remy | Apparatus for adjusting the focal point of an operating laser beam focused by an objective |
| FR2517837A1 (fr) * | 1981-12-04 | 1983-06-10 | Anvar | Dispositif optimisant le couplage de deux systemes optiques pour l'observation et l'analyse d'objets |
| DE3204686A1 (de) * | 1982-02-11 | 1983-08-18 | Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim | Optisches system zur durchlichtmikroskopie bei auflichtbeleuchtung |
| JPS59141226A (ja) * | 1983-02-02 | 1984-08-13 | Canon Inc | 観察装置 |
| US4573467A (en) * | 1983-05-13 | 1986-03-04 | The United States Of America As Represented By The Department Of Health And Human Services | Optical coupling device for biomicroscope |
-
1987
- 1987-11-26 KR KR1019870013364A patent/KR900002716B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1988
- 1988-08-24 JP JP63208466A patent/JPH0290119A/ja active Pending
- 1988-11-18 US US07/272,935 patent/US4934799A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5910922A (ja) * | 1982-04-17 | 1984-01-20 | カ−ル・ツアイス−スチフツング | 光学的調節要素 |
| JPS61186186A (ja) * | 1985-02-13 | 1986-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ光集光装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003514252A (ja) * | 1999-11-10 | 2003-04-15 | カール ツァイス イエナ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 光学ピンセットおよび／または加工ビームを顕微鏡内へ接続する装置 |
| JP2007015585A (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-25 | Shiroki Corp | ガラスホルダー |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4934799A (en) | 1990-06-19 |
| KR900002716B1 (ko) | 1990-04-23 |
| KR890008581A (ko) | 1989-07-12 |
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