JP2986627B2 - プロキシミティ露光装置におけるマスクとワークの位置合わせ方法 - Google Patents

プロキシミティ露光装置におけるマスクとワークの位置合わせ方法

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JP2986627B2 JP4272489A JP27248992A JP2986627B2 JP 2986627 B2 JP2986627 B2 JP 2986627B2 JP 4272489 A JP4272489 A JP 4272489A JP 27248992 A JP27248992 A JP 27248992A JP 2986627 B2 JP2986627 B2 JP 2986627B2
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、プロキシミティ方式
の露光装置におけるマスクとワークの位置合わせ方法に
関する。
【0002】
【従来技術】従来、LSIやICの製造においては、マ
スクとワークを密着させる露光方法があるが、以下の様
な問題を生じる。 マスクとレジストが擦れ、レジストの剥がれやパター
ンの欠落を生じる。 レジスト上のゴミがマスクに付着して、以後同じマス
クを使うと露光ミスとなる。 このため、マスクとワークの間に数ミクロンないしは数
十ミクロンのギャップを設けている。この方法をプロキ
シミティ露光という。
【0003】図1は、プロキシミティ方式露光装置の一
実施例を示す概略図である。光源1からの放射光は楕円
集光鏡2によってインテグレータレンズ3に入射され
る。インテグレータレンズ3からの出力光は、コリメー
タレンズ4を経て、ICパター等を有するマスク6を通
過してワーク7を照射する。このような露光装置を説明
したものに、例えば、特公昭59─28982号があ
る。ワークとしては、ウエハーや液晶などがある。
【0004】マスクに描かれたICパターンを、ワーク
上の正しい位置に転写するためには、露光前に、マスク
とワークを正確にアライメントする必要がある。図2
は、マスク6とワーク7をアライメントする様子を説明
するための図である。ワーク7には、位置合わせ用のマ
ーク9があり、これに対応して、マスクにも位置合わせ
用のマーク10がある。そして、これらを両方のマーク
を観察できるように顕微鏡8がある。顕微鏡8には、図
示略であるが、対物レンズ及び接眼レンズを持つ。作業
者は、この顕微鏡8を観察しながら、マスク6に設けら
れたマーク10と、ワーク7に設けられたマーク9を重
ね合わせるように調整することができる。
【0005】しかし、マスク6とウエハー7は、前述の
ようにその間にギャップを有するので、両方のマーク
を、いずれもピントがあった状態で観察することは難し
い。図3を使って具体的に説明する。ウエハー7に設け
られたマーク9の位置Aは、対物レンズ30を介して、
位置A’にピントのあった状態で投影される。マスク6
に設けられたマーク10の位置Bは、対物レンズ30を
介して、位置B’にピントがあった状態で投影される。
このように、位置Aと位置Bにギャップがある以上、対
物レンズ30を介した投影像の位置も必ずずれることに
なる。このため、顕微鏡8の接眼レンズを、位置A’に
設定すると、ウエハー7に設けられたマーク9は、ピン
トのあった状態で観察できるが、マスク6に設けられた
マーク10はピントがあってないため、結局、この両者
の位置を重ね合わせることができなくなる。このこと
は、接眼レンズを、位置B’あるいは、それ以外の位置
に設定しても同様のこととなる。一方、対物レンズの焦
点深度内であれば、位置A’と位置B’に差があっても
両方のマークを両方ともピントがあった状態で観察する
とことができる。しかし、厚膜のレジストを使った場合
や、ワーク周辺部のレジストが盛り上がったり、あるい
は1枚にワークの中で厚みのバラツキがあるなどで、マ
スクとワクのギャップを余裕を以て設定している場合な
どは、焦点深度を越える場合がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】そこで、この発明が解
決しようとする課題は、マスクとワークにある程度ギャ
ップを設けたプロキシミティ露光装置において、マスク
に設けられた位置合わせ用のマークと、ワークに設けら
れた位置合わせ用のマークの両方を、その間のギャップ
が焦点深度を越えた場合であっても、両方ともピントが
あった状態で顕微鏡等の光学系で観察することができ
る、マスクとワークの位置合わせ方法を提供することに
ある。
【0007】
【課題を解決するための手段】課題を解決するためにこ
の発明のプロキシミティ露光装置におけるマスクとワク
の位置合わせ方法は、マスクとワークを数ミクロン乃至
数十ミクロンのギャップを設けて配置させ、それぞれに
設けられた位置合わせ用マークの投影像を、対物レンズ
と接眼レンズを有する顕微鏡等の光学系を介して検出し
て、その後、それぞれの位置合わせ用マークが一致する
ように調整するプロキシミティ露光装置におけるマスク
とワークの位置合わせ方法において、前記位置合わせ用
マークの投影像の検出は、対物レンズを通過した、位置
合わせ用マークの投影像の光を、複数のハーフミラーに
よって反射させて、マスクに設けられた位置合わせ用マ
ークの投影像と、ワークに設けられた位置合わせ用マー
クの投影像を同一場所に、両方ともピントが合った状態
で結像させ、この結像位置に、接眼レンズの焦点を配置
させて、各々の位置合わせ用マークの投影像を検出する
ことを特徴とする。
【0008】
【作用】このような構成によって、ハーフミラーを使っ
てマスクに設けられた位置合わせ用マーク及び/又はワ
ークに設けられた位置合わせ用マークの投影像を、反射
させて、両者のマークの投影像を同一場所に結像させる
ことができる。この結像位置に、投影像を観察する光学
系の接眼レンズの焦点を位置させれば両方の投影像を、
両方ともピントがあった状態で観察することができる。
【0009】
【実施例】以下、実施例を使ってこの発明を具体的に説
明する。図4は、この発明の第1の実施例を示すもの
で、その原理を説明するための図である。図1、図2、
図3と同一番号は、同一の部分を示す。対物レンズ30
と、ウエハー7に設けられたマーク9の投影像の位置
A’の間に、2枚にハーフミラーM1、M2を有する。
このハーフミラーM1、M2は、例えば、ペリクルに多
層膜蒸着をしたのが使われる。このハーフミラーM1、
M2は、収差を発生させない程度に薄いため、透過光は
完全に直進、反射光は完全に正反射すると考えてよい。
2枚のハーフミラーを入れることによって、各々のハー
フミラーによって反射してできたマーク10の投影像が
位置Cにでき、また、マーク9の投影像が、位置Cより
対物レンズ30よりにできる。
【0010】この構成から、ハーフミラー間の距離L1
を、マーク9の投影像の位置A’とマーク10の投影像
の位置B’の間の距離L2の1/2倍とする。距離L2
は、(ギャップ、すなわちウエハーとマスクの距離)×
(対物レンズの倍率の2乗)になるので、この式よりハ
ーフミラー間の距離L1は定まる。作業者は、距離L1
を作業前に設定うることができる。このように設定する
と、マーク9の投影像の位置A’と、マーク10が2枚
のハーフミラーによって反射してできた投影像の位置C
は、同じ場所となる。 この位置に顕微鏡の接眼レンズ
の焦点を合わせれば、両方の投影像を、両方ともピント
があった状態で観察することができる。この場合、マー
ク10がハーフミラーを直進してできた投影像や、マー
ク9がハーフミラーで反射されてできた投影像は、ピン
トが合わない状態で観察されるので影響はない。次に、
マーク9とマーク10が一致するように位置合わせを行
い、その後、露光作業をすることができる。これは、人
間が顕微鏡で観察しながら、マスクまたはウエハを動か
す。このように、ハーフミラーを使って1つのマークの
投影像を複数個作り、そのうちの1つを、別のマークの
投影像と同じ位置に結像させる。
【0011】図5は、この発明の第2の実施例を示すも
ので、その原理を説明するための図である。図1、図
2、図3、図4と同一番号は、同一の部分を示す。Aに
位置するマーク9は、ハーフミラーM1及びハーフミラ
ーM3で反射して、位置Dに、投影像をピントがあった
状態で結像する。Bに位置するマーク10は、ハーフミ
ラーM2及びハーフミラーM4で反射して、位置Dに、
投影像をピントがあった状態で結像する。この場合、ハ
ーフミラーM1とハーフミラーM2の間、あるいは、ハ
ーフミラーM3とハーフミラーM4間の距離L1は、位
置A’と位置B’間の距離L2の1/2倍とする。位置
A’は、Aに位置するマーク9の投影像が、ハーフミラ
ーM1及びハーフミラーM2を直進して、投影像をピン
トがあった状態で結像する位置を示す。位置B’は、B
に位置するマーク10の投影像が、ハーフミラーM1及
びハーフミラーM2を直進して、投影像をピントがあっ
た状態で結像する。そして、位置Dに顕微鏡の接眼レン
ズの焦点と位置させれば、マーク9およびマーク10の
両方のマークを、両方ともピントがあった状態で観察す
ることができる。
【0012】図6は、この発明の第3の実施例を示すも
ので、その原理を説明するための図である。図1、図
2、図3、図4、図5と同一番号は、同一の部分を示
す。Aに位置するマーク9は、ハーフミラーM1によっ
て反射して、位置Dに、投影像をピントがあった状態で
結像する。Bに位置するマーク10は、ハーフミラーM
2及びハーフミラーM4によって反射して、位置Dに、
投影像をピントがあった状態で結像する。ハーフミラー
M1とハーフミラーM2間の距離L1は、位置A’と位
置B’間の距離L2の1/2倍とする。そして、位置D
に顕微鏡の接眼レンズの焦点と位置させれば、マーク9
およびマーク10の両方のマークを、両方ともピントが
あった状態で観察することができる。
【0013】図7は、この発明の第4の実施例を示すも
ので、その原理を説明するための図である。図1、図
2、図3、図4、図5、図6と同一番号は、同一の部分
を示す。Bに位置するマーク10は、ハーフミラーM
1、ハーフミラーM3、ハーフミラーM4、ハーフミラ
ーM2によって順次に反射して、位置Dに、投影像をピ
ントがあった状態で結像する。Aに位置するマーク9
は、ハーフミラーM1とハーフミラーM2を直進して、
位置A’に投影像をピントがあった状態で結像する。ハ
ーフミラーM1とハーフミラーM2の間の距離と、ハー
フミラーM3とハーフミラーM4間の距離をそれぞれL
1とした場合、距離L1が、位置A’と位置B’間の距
離L2の1/2倍とすれば、位置A’と位置Dは同一と
なる。そして、位置Dに顕微鏡の接眼レンズの焦点と位
置させれば、マーク9およびマーク10の両方のマーク
を、両方ともピントがあった状態で観察することができ
る。
【0014】以上、説明した実施例では、人間が顕微鏡
を使って観察する方法である。しかし、この方法に限る
ものではなく、CCD素子を使って画像処理を行い、さ
らにウエハーとマスクを自動的に位置合わせする方法も
考えられる。
【0015】
【発明の効果】以上説明したように、この発明のプロキ
シミティ方式の露光装置では、ハーフミラーを使うこと
によって、マスクに設けられた位置合わせ用のマーク
と、ウエハーに設けられた位置合わせ用のマークの両方
をピントがあった状態で顕微鏡で観察することができる
ので、簡単にマスクとウエハーの位置合わせをすること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】プロキシミティ方式露光装置の一実施例を示す
概略図である。
【図2】マスクをウエハーをアライメントする様子を説
明するための図である。
【図3】ウエハーとマスクにギャップを有するため、そ
れぞれに設けられたマークの投影像も位置がずれる状態
を示した図である。
【図4】この発明の第1の実施例を示すもので、その原
理を説明するための図である。
【図5】この発明の第2の実施例を示すもので、その原
理を説明するための図である。
【図6】この発明の第3の実施例を示すもので、その原
理を説明するための図である。
【図7】この発明の第4の実施例を示すもので、その原
理を説明するための図である。
【符号の説明】 6 マスク 7 ウエハー 8 顕微鏡 9 ウエハーに設けられたマーク 10 マスクに設けられたマーク 30 対物レンズ M1 ハーフミラー M2 ハーフミラー M3 ハーフミラー M4 ハーフミラー

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】マスクとワークを数ミクロン乃至数十ミク
    ロンのギャップを設けて配置させ、それぞれに設けられ
    た位置合わせ用マークの投影像を、対物レンズと接眼レ
    ンズを有する顕微鏡等の光学系を介して検出して、その
    後、それぞれの位置合わせ用マークが一致するように調
    整するプロキシミティ露光装置におけるマスクとワーク
    の位置合わせ方法において、 前記位置合わせ用マークの投影像の検出は、 対物レンズを通過した、位置合わせ用マークの投影像の
    光を、複数のハーフミラーによって反射させて、 マスクに設けられた位置合わせ用マークの投影像と、ワ
    ークに設けられた位置合わせ用マークの投影像を同一場
    所に、両方ともピントが合った状態で結像させ、 この結像位置に、接眼レンズの焦点を配置させて、各々
    の位置合わせ用マークの投影像を検出することを特徴と
    するプロキシミティ露光装置におけるマスクとワークの
    位置合わせ方法。
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