JP2017167133A - 回折光学素子 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 239
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 94
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000013598 vector Substances 0.000 claims description 30
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 27
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 18
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 14
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 8
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 claims description 6
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 claims description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 7
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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- G01B9/02034—Interferometers characterised by particularly shaped beams or wavefronts
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- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
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- G02—OPTICS
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Abstract
Description
、及び米国特許仮出願第61/707014号、2012年9月28日出願に基づいて優
先権を主張する。この独国特許出願及びこの米国特許仮出願の全開示を、参照する形で本
明細書に含める。
本発明は、光学素子の光学面の実際形状の、意図した形状からの偏差を測定する方法、
こうした方法を実行するための回折光学素子、光学素子を製造する方法、並びにこうした
光学素子に関するものである。
0177321号明細書(特許文献1)に記載されている。この装置は、測定波を発生さ
せるための干渉計を具え、この測定波の波面は、回折格子によって光学面の意図した非球
面形状に適合する。この非球面測定波の波面は、この光学面での反射後に干渉計測法によ
って評価され、このプロセスにおいて、光学面の実際形状の、意図した形状からの偏差が
測定される。
enerated hologram)とすることができ、このCGHは、例えばレイ・トレーシング(光
線追跡)法のような適切な計算法によってシミュレート(模擬計算)した干渉計の設計を
利用して発生され、このプロセスでは、回折格子が干渉計装置のビーム経路中で所望の機
能を有するように、回折格子の位相関数を計算する。従って、計算した回折格子の位相関
数から、その回折格子を製造することができる。
正確な製造ではなく、むしろ、CGHにおいてあり得るすべての誤差の、できる限り正確
な測定である。既知の誤差は、検査対称の形状を測定する際に、計算によって除去するこ
とができる。従って、CGHが基準を形成する。回転対称な非球面の場合、回転対称でな
いすべての誤差は完全に較正することができるが、自由形状の表面の場合、即ち、回転対
称でない非球面の場合、すべてのCGH誤差が形状測定に影響を与える。その結果、CG
Hの測定の精度についての要求の急激な増加がある。このプロセスでは、CGHの回折構
造の歪み、即ち、回折構造の意図した位置に対する横方向位置、及びCGHのプロファイ
ルの形状を、非常に正確に知ることが重要である。しかし、従来技術において既知の測定
機器を用いて測定することができるこれらのパラメータの測定精度は、絶えず増加する要
求を満たすものではない。
使用し、その結果、測定配置に必要な労力が増加する。
本発明の目的は、上述した問題を解決することにあり、特に、あらゆる形状の光学面、
特に、回転対称でない非球面の光学面を、改善された精度で測定するための方法及び回折
光学素子を提供することにある。
一例として、本発明によれば、上述した目的は、基板、及びこの基板上に配置された回
折構造パターンを有する回折光学素子によって達成される。この回折構造パターンは、こ
の構造上に放射される平面波または球面波の入力波を、少なくとも4つの別個の出力波に
変換し、これらの出力波のうち少なくとも1つは非球面波であり、これらの出力波のうち
少なくとも他の1つは球面波であり、これらの出力波のうち少なくとも他の2つのそれぞ
れは、平面波または球面波である。
板上に配置された回折構造パターンのみを用いて発生する。従って、この回折光学素子は
、いくつかの変形例により構成することができる。第1変形例によれば、回折光学素子上
に放射される波が平面波であり、出力波は、少なくとも1つの非球面波及び少なくとも3
つの球面波を含む。第2変形例によれば、回折光学素子上に放射される波が球面波であり
、出力波は、少なくとも1つの非球面波及び少なくとも3つの球面波を含む。第3変形例
によれば、回折光学素子上に放射される波が平面波であり、出力波は、少なくとも1つの
球面波及び少なくとも2つの平面波を含む。第4変形例によれば、回折光学素子上に放射
される波が球面波であり、出力波は、少なくとも1つの球面波及び少なくとも2つの平面
波を含む。1つの好適例によれば、第1及び第2変形例の場合、上記球面波の強度が、3
0%未満だけ、特に10%未満だけ、互いに異なる。
平面波は、無限大の半径を有する球面波の特殊な場合と見なす。上記非球面出力波は、測
定される光学面に適合した測定波とすることができ、この測定波は、表面を干渉計測手段
によって測定する際に、この表面上に放射される。他の出力波は較正波と称することもで
きる。
化することができる。なお、上記回折構造パターンは、位相格子または回折格子と称する
こともできるが、これは、規則的な光子を必ずしも意味するものではないことを理解すべ
きであり、特に、屈曲を有することができる線構造を意味し、これらの屈曲は、原則的に
、形状の点で互いに偏差があり、かつ相互間で可変の距離を有することができる。以上に
説明したように、この回折構造パターンは、回折光学素子の基板上に配置され、即ち、1
つの基板上のみに配置されている。従って、この回折構造パターンは、異なる基板上に配
置された複数の副パターンで構成されない。
ることができる。本願における意味では、球面波は球形波面を有する波動であり、即ち、
波面が少なくとも球面部分によって形成される波動である。
に最も良く合う球面から少なくとも10λの偏差を有する波動であり、ここにλは、上記
回折構造パターン上に放射される入力波の波長である。換言すれば、非球面波が有する少
なくとも1点が、あらゆる理想球面から少なくとも10λだけの偏差を有する。波長が5
00nmであれば、本願における意味での非球面波は、あらゆる理想球面から少なくとも5
μmの偏差を有する。本願における意味では、非球面波は、回転対称な波面を有する波動
、即ち従来の意味での非球面波、及び回転対称でない波面を有する波動、即ち、その波面
がいわゆる自由形状の面を有する波動を、共に含む。
あらゆる理想球面から少なくとも1mmの偏差を有する。
いに独立して検出することができ、あるいは、互いに独立して反射させて回折光学素子に
戻すことができ、このため、これらの出力波を干渉計測システムにおいて別個に測定する
ことができることを意味するものと理解すべきである。
は、本発明によれば、少なくとも3つの追加的な平面または球面出力波が、非球面出力波
に加えて発生する点で異なる。上述した従来のCGHでは、1つ以上の非球面波に加えて
、2つだけの平面波または球面波が、異なる回折次数で発生する。
て、同様に非球形である波動が、通常、2番目のCGH上に放射される。平面波または球
面波がこのCGH上に放射されるものとすれば、このプロセスでは、単一の平面波または
球面波でない波動が発生する。
力波に加えて、上述した種類の少なくとも3つの追加的な出力波を発生することは、この
回折光学素子を、製造誤差について、これらの追加的な出力波を用いて測定することを可
能にする。従って、この回折光学素子を用いたその後の光学面の測定中に、この製造誤差
の影響を計算によって測定値から除外することも可能である。その結果、形状、特に非球
面の光学面の形状を測定する測定精度を向上させることができる。
出力波が平面波であり、これらの出力波の伝搬方向が、入力波の入射方向に対して互いに
対称であるように構成されている。1つの変形例によれば、2つの平面出力波が、直線格
子において、例えば+1次及び−1次の回折のように、同じ次数で正及び負の回折次数で
ある。
動対を形成する2つの平面出力波に加えて、2つの追加的な平面波を第2波動対の形で有
するように構成され、これらの追加的な平面波の伝搬方向は、上記入射方向に対して同様
に互いに対称であり、第1波動対の伝搬方向が張る平面が、第2波動対の伝搬方向が張る
平面と一致しないように構成されている。特に、第1波動対の伝搬方向が張る平面が、第
2波動対の伝搬方向が張る平面にほぼ直交する。これに関連して、「ほぼ直交する」とは
、少なくとも80°、特に少なくとも85°、少なくとも89°または約90°の角度を
意味する。
1差分ベクトルと第2差分ベクトルとの間の角度によって定義され、第1差分ベクトルは
、点iから出る非球面波の波動ベクトルki(A)と、点iに当たる入力波の波動ベクトルk
i(in)との差分によって定義され、第2差分ベクトルは、点iから出る少なくとも1つの
球面波の波動ベクトルki(S)と、点iに当たる入力波の波動ベクトルki(in)との差分に
よって定義される。さらに、上記回折構造パターンは、角度αiの絶対値を、当該回折構
造パターンのすべての点iにわたって平均して、当該回折構造パターンに平行な平面上に
射影した値が、5°より大きく、特に10°より大きいように構成されている。上記波動
ベクトルは、「kベクトル」とも称され、波動の波面に直交するベクトルである。換言す
れば、角度ωが5°より大きく、ここにωは次式のように定義される:
度ωは、角度αi xyの、上記回折光学素子の空間座標i全体にわたる平均値によって定義
され、即ち、
分ベクトル[ki(S)−ki(in)]との間の角度である。
光学素子の光学的実効領域全体にわたって求められる。入力波の伝搬方向をz方向と称し
、従って、xy平面は入力波の伝搬方向に直交する平面である。
折効率が、上記少なくとも1つの球面波を発生するための構造パターンの回折効率よりも
少なくとも50%大きい。その結果、上記非球面波の強度は、上記少なくとも1つの球面
波の強度よりも少なくとも50%大きくなる。1つの変形例によれば、上記少なくとも1
つの非球面波を発生するための回折効率が、上記少なくとも1つの球面波を発生するため
の回折効率よりも、少なくとも70%、特に少なくとも100%大きい。このことは、例
えば金属化された較正ミラーを用いることによって補償することができる。1つの好適例
によれば、上記少なくとも4つの出力波の回折効率の合計が30%より大きい。
上記球面または平面出力波のそれぞれの放射電力よりも大きくなるように構成されている
。換言すれば、上記構造パターン中で、非球形波面を有する出力波を、球面または平面の
波面を有する残り3つの出力波よりも強く重み付けする。1つの好適例によれば、非球形
波面を有する出力波の放射電力は、入力波の放射電力の少なくとも30%、特に約40%
であるのに対し、球面または平面の波面を有する残り3つの出力波の各々は、入力波の放
射電力の15%〜25%、特に約20%である。
れる入力波が少なくとも5つの出力波に変換され、これらの出力波のうち4つが球面波と
して具現されるように構成されている。上記少なくとも5つの出力波のうち他の1つは、
非球面波、特に自由形状波である。
平均伝搬方向を有し、ここで、4つの球面出力波の平均伝搬方向どうしが、これらの出力
波を(2つずつ)対にした各対において、上記非球面出力波の平均伝搬方向によって規定
される軸線に対して互いに対称に配置されない。これに関連して、「対称でない」とは、
対称配置に比べて少なくとも1°、特に5°の偏差が存在することを意味するものと理解
すべきである。上記平均伝搬方向は、各出力波の異なる伝搬方向を強度で重み付け平均し
て出る伝搬方向である。1つの変形例によれば、この条件が、上記回折光学素子上のすべ
ての点の少なくとも90%に当てはまる。
ている。当業者が良く知っているように、多レベル位相格子とは、最高レベルと最低レベ
ルとの間に少なくとも1つの中間レベルを有する位相格子を意味するものと理解すべきで
ある。従って、こうした位相格子は少なくとも3つのレベルを有する。異なる好適例によ
れば、4つ以上のレベルを設けることができる。いわゆるブレーズド位相格子は、その外
形が傾斜面によって表現されるくらい多数のレベルを有する。多レベル位相格子の使用は
、複合符号化によって生じる回折効率の損失を部分的に補償するか、さらには過度に補償
することを可能にする。本願における意味では、多レベル位相格子はこうしたブレーズド
位相格子も意味するものと理解すべきである。当業者は、多レベル位相格子についての背
景情報を、Donald C. O’Shea他によるハンドブック“Diffractive optics: design, fab
rication, and test”2004, The Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers
(非特許文献1)の29〜35ページより得ることができる。本願における意味での多レベル
位相格子は、特に、例えばH. Kleemann et al., “Combination of blazed and laterall
y blazed structures”, Diffractive Optics and Micro-Optics, OSA Technical Digest
(Optical Society of America), paper DTuC7, 2004(非特許文献2)に記載されている
ような横方向ブレーズド位相格子も意味するものと理解すべきである。
さらに提供される。この回折格子は、互いに距離をおいて配置された格子線を有し、この
回折格子の平均周期距離は、隣り合う格子線間の中心間距離の各々を、回折格子全体にわ
たって平均した値によって決まる。これらの格子線は波状の形状を有し、格子線の波状の
平均周期は、回折格子の平均周期距離の3倍〜20倍の領域内にあり、格子線の長手方向
を横切る向きの格子線の変動は、回折格子の平均周期距離の0.1倍〜3倍の領域内に入
る幅を有する。
らの格子線が上向き及び下向きに偏位し、即ち、格子線の長手方向を横切る向きに、それ
ぞれの直線に対して偏位することを意味するものと理解すべきである。ここで、波状の周
期は、偏位毎に変動し得る。ここで、格子線の長手方向を横切る向きの格子線の変動の幅
は、それぞれの格子線の想定される直線形状からの、即ち、それぞれの格子線に最も良く
合う直線からの偏位の幅を意味するものと理解すべきである。特に、この変動の幅は、格
子線の形状を定める波の振幅の2倍である。
バーする。基板が平板状に設計されている場合、基板の上側及び下側のそれぞれの20%
が、この回折格子によってカバーされる。
少なくとも95%または少なくとも99%が、連続線として具体化され、これらの連続線
は、回折格子のエッジ領域間に中断なしに延び、即ち、これらの線は、回折格子によって
カバーされる基板の領域内では終端しない。
ジ長を有する正方形の測定領域内で、50μmのエッジ長を有するあらゆる正方形部分領
域にわたって平均した上記格子線のストライプ密度が、20線対/mm未満の幅に及ぶ変動
を有するように構成されている。正方形の部分領域内のストライプ密度を測定する方法の
一例によれば、最初に、上記格子線の幅と、一辺が隣の格子線に隣接する中間的空間の幅
との合計を、各格子線に沿って1μm毎に測定する。これにより測定された値の逆数を求
め、従って、ストライプ密度は、関係する測定点毎に確立される。ストライプ密度の値を
、関係する部分領域内のすべての測定点にわたって平均する。このことは、上記正方形の
測定領域内のすべての部分領域について発生し、即ち、20×20=400個の部分領域
について発生し、このため、平均ストライプ密度は部分領域毎に測定される。一例として
、平均したストライプ密度は約200線/mmであり、このストライプ密度は、190〜2
10線/mmの幅内で変動する。
て、リトロー(Littrow)反射の参照波も、当該構造パターン上に放射される入力波から
の参照波として発生するように構成され、この参照波は、干渉計測中に参照波として用い
ることができる。
波状の格子線を有する回折光学素子に移行することができる。
る回折光学素子が提供される。この回折構造パターンは、当該構造パターン上に放射され
る平面波または球面波の入力波を、各々が球形波面を有する少なくとも3つの別個の出力
波に変換するように構成されている。
波状の格子線を有する回折光学素子に移行することができる。特に、この回折光学素子は
、上述した少なくとも4つの出力波を発生する回折光学素子の好適例からの特徴を含むこ
とができる。
他の方法が提供される。この方法は、次のステップ、即ち:入力波を発生するステップと
、この入力波のビーム経路中に回折光学素子を配置するステップと、この回折光学素子と
の相互作用によって、上記入力波を少なくとも3つの別個の出力波に変換するステップと
を含み、これらの出力波のうち1つは測定波であり、上記光学面の意図した形状に適合し
、非球形波面を有し、これらの出力波のうち少なくとも他の2つは較正波である。この方
法は、これら少なくとも2つの較正波の各々を用いて、上記回折光学素子の較正補正値を
決定するステップと、上記適合した測定波のビーム経路中に上記光学面を配置するステッ
プと、上記光学面との相互作用後に、上記適合した測定波の波面を測定するステップとを
さらに含み、上記適合した測定波の波面は、上記回折光学素子を、上記入力波に対して、
上記較正補正値の決定中と同様に配向させて測定する。さらに、上記方法によれば、決定
した較正補正値を用いて、測定した波面を補正する。
の向きに配置されて、較正補正値を決定し、この較正補正値は、上記少なくとも2つの較
正波の各々を分析することによって決まる。上記適合した測定波の波面を測定する際に、
この向きは不変である。また、換言すれば、上記測定波を発生して分析する際、及び上記
較正波を発生して分析する際に、入力波は、上記回折光学素子の局所座標系内で同じ入射
方向を有する。特に、上記出力波は、上記入力波と上記回折光学素子との相互作用によっ
て同時に発生する。
って、互いに独立して検出することができ、あるいは、互いに独立して反射させて上記回
折光学素子に戻すことができることを意味するものと理解すべきである。
させて、上記適合した測定波の波面を測定することは、上記回折光学素子の、製造誤差に
ついての特に精密な較正を可能にする、というのは、決定した較正補正値を、上記適合し
た測定波の波面の測定値に直接適用することができるからである。配向が不変のままであ
るので、決定した較正補正値は、上記測定波の発生に関係する上記回折光学素子の製造誤
差を正確に反映する。換言すれば、測定された較正補正値と、上記測定波を発生する上記
回折光学素子上の構造の現実の偏差との間の偏差に起因して、上記波面の補正に誤差は導
入されず、この偏差は、上記回折光学素子の異なる配向に起因する。
間中と同じ位置に配置して、上記適合した測定波の波面を測定する。このことは、上記適
合した測定波の波面を測定する際に、上記回折光学素子の配向及び位置が共に不変のまま
であることを意味する。
の較正補正値は、これらの第1較正波及び第2較正波を用いて決定される。
ものから第1較正補正値を決定し、上記較正波のうち第2のものから第2較正補正値を決
定し、これらの第1較正補正値及び第2較正補正値は、上記回折光学素子を、入力波に対
して配向させて決定され、即ち、上記回折光学素子の配向は、上記第1較正補正値の決定
と上記第2較正補正値の決定との間で不変である。
た複合符号化位相格子は、少なくとも3つの位相関数f1〜f3で構成され、これにより、
個別の位相関数f1〜f3毎に、それぞれの回折波が発生し、これらの回折波が上述した出
力波を形成する。位相関数f1〜f3毎に発生したこれらの回折波の各々が、位相格子fG
において1次の回折次数で発生する。本願による複合符号化位相格子の特性は、後の好適
な実施形態の詳細な説明において詳細に説明する。複合符号化位相格子の使用は、上記出
力波が異なる強度を有するように上記回折光学素子を構成することを可能にする。このこ
とは、この複合符号化位相格子内の個別の位相関数f1〜f3に異なる重みを割り当てるこ
とによって行うことができる。
じ回折次数で発生する。特に、上記少なくとも3つの出力波の各々が、上記回折光学素子
において、1次の回折次数で、特に+1次の回折次数で発生する。本願で説明する複合符
号化格子の場合、+1次の回折次数の波動のみが上記出力波を形成する。上記出力波を1
次の回折次数で発生する際には、平面または球面形状のような単純な幾何学的形状を有す
る較正波を発生することができる。こうした単純な幾何学的形状により、適切な較正物体
を高精度で製造することができるので、正確な較正を達成することができる。
を有し、上記少なくとも2つの較正波の伝搬方向が、上記測定波の平均伝搬方向によって
規定される軸線に対して、互いに非対称に配置され、即ち、互いに対称に配置されない。
こうした非対称な配置により、上記測定波の位置における干渉光またはスプリアス光の発
生を回避することができる。
例によれば、少なくとも2つ、あるいは少なくとも3つの較正波が球面波である。
記回折光学素子との相互作用によって少なくとも4つの別個の出力波に変換され、上記出
力波のうち少なくとも他の1つは、球形波面を有する較正波であり、上記出力波のうち少
なくとも他の2つは、各々が平面または球面の波面を有する較正波である。上記回折光学
素子の較正補正値は、上記3つの較正波を用いて決定される。
べる特徴は、上述した本発明による好適例のいずれにおいても、本発明による回折光学素
子に移行することができ、特に、入力波を少なくとも4つの別個の出力波に変換するよう
に構成された回折光学素子に移行することができ、その逆も成り立つ。特に、本発明によ
る回折光学素子は、上記4つの出力波を発生するように構成することができ、このことは
、上記回折光学素子を、他の出力波を用いて較正補正値を決定する期間中と同様に入力波
に対して配向させて、光学面と相互作用した後の上記非球面波の波面を測定することがで
きるように行う。他の好適例によれば、上記回折光学素子が、上記4つの出力波を同時に
発生するように構成され、特に、上記出力波の各々を1次の回折次数で発生するように構
成されている。
測定する方法が提供される。1つの好適例では、本発明による方法が、次のステップ、即
ち:平面または球面の入力波を発生するステップと、この入力波のビーム経路中に回折光
学素子を配置するステップと、この回折光学素子との相互作用によって、この入力波を少
なくとも4つの別個の出力波に変換するステップとを含み、これらの出力波のうち少なく
とも1つは測定波であり、上記光学素子の光学面の意図した形状に適合し、非球形波面を
有し、上記出力波のうち少なくとも他の1つは、球形波面を有する較正波であり、上記出
力波のうち少なくとも他の2つは較正波であり、各々が平面または球面の波面を有する。
さらに、本発明による方法によれば、上記較正波を用いて、上記回折光学素子の較正補正
値を決定し、上記適合した測定波のビーム経路中で上記光学面を測定し、上記適合した測
定波の波面を、上記光学面との相互作用後に測定する。さらに、上記較正補正値を用いて
、測定した波面を補正する。このように、補正した波面を用いて、光学素子の実際形状の
、意図した形状からの偏差を測定することができる。
より具体化することができる。本発明による1つの好適例によれば、上記較正補正値を決
定するために、1つ以上の較正物体を上記較正波のビーム経路中に配置し、この較正物体
との相互作用後に、上記較正波の干渉計測による評価を行う。
この方法は、500mmより大きい直径を有する光学面を有する光学素子を製造するステッ
プを含む。さらに、1つの回折光学素子のみを用いた干渉計測によって、この光学面の意
図した形状に対する実際形状を、意図した形状からの実際形状の偏差が0.05nmの精度
で測定されるような精度で測定し、これらの偏差は、d/100〜d/5の振動波長を有
する振動に由来し、意図した形状は自由形状面であり、回転対称な非球面の各々から5μ
mより大きい偏差を有する。さらに、上記光学面は、上記干渉計測の結果に基づく当該光
学面の機械的処理によって、意図した形状に適合させる。この場合、上記光学面を意図し
た形状に適合させることは、この干渉計測の測定精度の範囲内で行う。
方法を実行することによって行うことができる。上記製造方法において用いられる上記回
折光学素子は、特に、上述した好適例の1つにおいて具体化することができる。
こで、この光学面の実際形状は、意図した形状からの偏差が0.05nm以下、特に0.0
2nm以下であるように、意図した形状に適合し、この偏差は、d/100〜d/5の振動
波長を有する振動に由来する。ここで、上記意図した形状は自由面であり、回転対称な非
球面の各々から5μmより大きい、特に10μmより大きい偏差を有する。
した形状に最も良く合う回転対称の非球面からの、意図した形状の偏差は、5μmより大
きく、特に10μmより大きい。好適例によれば、上記光学面が1000mmより大きい直
径を有することができ、すべての振動が1mm〜50mmの振動波長に関係することができる
。
1mmの偏差を有する。その結果、上記光学面は、大型または強度のある自由面になる。
ゆる点における、意図した形状からの実際形状の偏差の最大振幅によって定義される。
説明において説明する。これら個別の特徴は、単独でも組合せでも、本発明の実施形態と
して実現することができる。さらに、これらの特徴は、独立して保護可能である有利な好
適例を記述することができ、適切であれば、本願の係属中または係属後のみに、それらの
保護を特許請求する。
徴を、添付した概略的な図面を参照しながら説明する。
以下に説明する好適な実施形態では、機能的または構造的に互いに類似した要素には、
できる限り同一または同様の符号を与える。従って、特定の好適な実施形態の個別要素の
特徴を理解するためには、他の好適な実施形態、あるいは本発明の概要を参照すべきであ
る。
中に示す構成要素のそれぞれの位置関係を明らかにする。図1では、x方向は、図面の平
面に対して垂直に、図面に入るように延び、y方向は上向きに延び、そしてz方向は右に
向かって延びる。
10は、光学素子14の形態の試験物体の光学面12の実際形状の、意図した形状からの
偏差を測定するのに適している。例として、光学素子14は、光学レンズ素子またはミラ
ーの形態で具体化することができる。図示する場合では、光学素子14がEUVリソグラ
フィー用の凹面鏡であり、即ち、マイクロリソグラフィー投影露光装置において、EUV
波長範囲内の露光波長で設計されている。EUV波長範囲は、100nm未満の波長に及び
、特に、約13.5nm及び/または約6.8nmの波長に関係する。光学素子14は、図面
中には図示しないホルダを用いて、計測システム10内に組み立てられる。発明の概要に
おいてより詳細に説明したように、光学面12の意図した非球面の形状は、回転対称の非
球面、あるいは自由面の形状を有することができる。
ッタ34、及び干渉計カメラ45を具えている。光源18は、照射20を発生し、この目
的で、ヘリウムネオンレーザーのようなレーザー21を具えて、レーザービーム22を発
生する。照射20は、干渉計測を実行するのに十分なコヒーレント光を発生する。ヘリウ
ムネオンレーザーの場合、照射20の波長は約633nmである。しかし、照射20の波長
は、電磁放射の可視及非可視の波長範囲内で異なる波長を有することもできる。
ームが開口から出るように、絞り26上に焦点を結ぶ。発散ビーム28の波面はほぼ球面
である。発散ビーム28は、レンズ素子群30によってコリメート(視準合わせ)され、
その結果、本実施形態の場合、ほぼ平面の波面によって照射20が発生する。照射20は
、干渉計16の光軸に沿って伝搬して、ビームスプリッタ34を通過する。
入射する。照射20の一部は、フィゾー領域38で反射して反射波40になる。フィゾー
素子36を通過した照射20の光は、平面の波面44を有する入力波42として、光軸3
2に沿って伝搬して、回折光学素子50に入射する。計測システム10の他の実施形態で
は、入力波42の波面を球面にすることもできる。
置された、コンピュータ発生ホログラム(CGH)の形態の回折構造パターン54を具え
ている。
ーン54における回折によって、非球面出力波56、球面出力波58、及び平面出力波6
0に変換されるように構成されている。以下で明らかにするように、この非球面出力波及
び平面出力波60は、較正波として機能する。
ための測定波として機能する。この目的のために、出力波56は、光学面12の意図した
形状に適合する波面を有する。従って、出力波56は適合測定波とも称する。上述したよ
うに、出力波56は非球面であり、従って、回転対称の非球形波面、あるいは自由形状面
の形態の波面を有する。明細書の概要部分で既に説明したように、本願における意味での
自由形状面は回転対称でない。
及び非球面出力波56の波動ベクトルki(A)を、回折構造パターン54上の空間座標i(x
, y)において、2つの断面図で示し、その1つの(a)ではyz断面内に示し、(b)ではxy
断面内に示す。ここで、回折構造パターン54はxy平面内に配置されている。差分ベク
トル[ki(A)−ki(in)]と差分ベクトル[ki(S)−ki(in)]との間の角度を、角度αiと称
する。(a)にプロットした角度αi xzは、αiのxz平面上への射影であり、(b)にプロット
した角度αi xyは、αiのxy平面上への射影である。
間座標i(x, y)全体にわたる平均値を、角度ωと称する。一実施形態によれば、角度ωが
5°より大きい。従って、次式が適用される:
り大きいか、15°より大きい。
複合符号化位相格子fGは、種々の位相関数f1からf4を含んで、種々の位相関数f1〜f
4の個別のもの毎に、それぞれの回折波が発生する。図5に示す例示は、関数f1〜f4の
輪郭線を示す。これらの位相関数の輪郭線が、それぞれの回折格子の格子線に相当する。
図5に示すfGの例示は、図2による構造パターン54を大きく拡大した部分を示す。換
言すれば、複合符号化位相格子fGは、位相関数f1〜f4によって規定される回折格子の
各々によって、1次の回折次数の互いに独立した対応する回折波が発生する効果を、入力
波42に対して有する。この複合符号化位相格子fGは、個別の位相関数f1〜f4が一点
に重なったいくつかのCGHであるものと想像することができる。こうした関数の重ね合
わせは、演算S=W1×exp(i×f1)+W2×exp(i×f2)+W3×exp(i×f3)+W4×ex
p(i×f4)に相当する。個別の寄与分の強さは、重みW1〜W4によって設定される。iは
虚数単位である。本発明による一実施形態によれば、バイナリ位相格子、即ちfG=0ま
たはπを用いて、複合符号化位相格子fGを実現する。
もなければfG=0である。本発明の他の実施形態によれば、連続位相格子を用いて、複
合符号化位相格子fGを実現する。この場合、次式が当てはまる:
は、位相関数f1及びf2の各々が、35%の重みW1またはW2付きで含まれ、位相関数f
3及びf4の各々が、15%の重みW3またはW4付きで含まれる。
の位相関数f2は、球面出力波58を発生する。位相関数f1及びf2に対応する格子周期
は、図2による回折構造パターン54全体にわたって空間的に変化する。
あり、それぞれ+1次及び−1次の回折次数である。従って、位相関数f3は、入力波4
2に対して+/−y方向に偏向された平面出力波を発生するためのy直線格子として構成
される。図2にプロットした平面出力波60y +1及び60y -1は、+1次及び−1次の回折
次数のy直線格子によって発生した波動である。位相関数f4によって形成されるx直線
格子によって発生する平面出力波60x +1及び60x -1は、図2において選択した断面に起
因して図2では見ることができないが、その代わりに図3に示す。
向空間内に示す。有向空間内のx及びy座標は、伝搬方向のベクトルのx及びy座標であ
り、1に正規化されている。次式が当てはまる:−1≦x≦1、−1≦y≦1、かつx2
+y2≦1。
トし、出力波60x +1及び60x -1は、非球面出力波56に対して−y方向及び+xまたは
−x方向にオフセットしている。出力波60x +1及び60x -1は同様な平面波であり、+1
次及び−1次の回折次数のx直線格子として構成された位相関数f4によって発生する。
球面出力波58の伝搬方向は、非球面出力波56の伝搬方向に比べて、+x及び+y方向
に傾斜している。
する前に、計測システム10を最初に較正モードで動作させる。このモードでは、最初に
、光学素子14の代わりに較正球面62を、回折光学素子50に対して出力波側に配置し
、正確には、図6に示すように球面出力波58のビーム経路中に配置する。
ている。この明確な決定は、例えば、当業者に知られているシアリング(せん断)技術を
用いるか、同様の既知の三点試験を用いて行うことができる。
カメラ45のレンズ系46によって、干渉計カメラ45のカメラチップ48の検出領域4
7上に指向される。参照波40との重ね合わせによって、干渉パターンが検出領域47上
に発生し、この干渉パターンから、球面出力波58の、意図した理想的な球面波の形の波
面からの偏差が、評価装置49を用いて測定される。従って、出力波58の実際波面は、
較正球面62を用いて明確に測定される。球面出力波58の、意図した波面からの偏差は
、較正偏差K1として記憶される。
て、その代わりに、図7に示すように、平面鏡64を、平面出力波60y +1、60y -1、6
0x +1、及び60x -1のそれぞれのビーム経路中に順次配置し、出力波60y +1については
図7の(a)に、出力波60y -1については(b)に示す。各場合において、平面鏡64は、適
切な出力波60y +1、60y -1、60x +1または60x -1が当該平面鏡上で反射して、入力波
42のビーム経路中の回折光学素子50を通過した後に、計測システム10の干渉計16
に戻り、カメラチップ48の検出領域47上で参照波40と干渉するように配置されてい
る。
を記録する。以上に説明したように、2つの出力波60y +1及び60y -1は、位相関数f3
によって形成されるy直線格子における+1次及び−1次の回折によって発生する。2つ
の出力波60y +1と60y -1を評価装置49内で互いに組み合わせて、その結果、位相関数
f3の歪みのx座標が、回折光学素子50上の回折構造パターン54の領域全体にわたっ
て確立される。一実施形態によれば、この場合に、これら2つの干渉パターンの差を求め
る。
パターン54の領域全体にわたる位相関数f4の歪みのy座標が、回折光学素子50上に
確立される。その直後に、こうして得られた歪みの座標から、回折構造パターン54全体
の歪みのx座標及びy座標を推定する。この歪みベクトル場を、追加的な較正偏差K2と
して記憶して、球面出力波58及び非球面出力波56を補正するために役立てる。
の干渉パターンを、例えば合計することによって互いに組み合わせることができ、従って
、この組合せを用いて回折光学素子50の、回折構造パターン54を有する基板表面の形
状または外形の偏差を確立することができるようにする。このように確立した形状及び外
形の偏差は、追加的な較正偏差K2として記憶することもできる。
のために、光学素子14の形態の試験物体を、図1に示すように、非球面出力波56のビ
ーム経路中に配置して、非球面出力波56が、オートコリメート(自動視準化)状態で光
学面12上に入射して、この光学面上で反射するようにする。直後に、この反射波は、回
折光学素子50を通って、戻り測定波66として干渉計16に戻る。戻り測定波66は、
検出面47上で参照波40と干渉し、これによりインターフェログラムが発生する。この
インターフェログラムを、評価装置49を用いて評価し、この評価を用いて、光学面12
の実際形状の、意図した形状からの偏差を確立する。この評価中には、以前に確立したす
べての較正偏差を考慮に入れる。
ーン54の歪みの結果としての誤差を除外することを可能にする。さらに、較正偏差K3
を用いて、上記方法は、回折構造パターン54の形状または外形の歪みの誤差を低減する
ことを可能にする。
態を示す。図8に示すように、回折光学素子50の回折構造パターン54は、構造パター
ン54における回折によって、入力波42が、非球面出力波56に加えて、さらに3つの
球面出力波70、72及び74に変換されるように構成され、これらの出力波も、図2の
回折構造パターンによって発生する。
面出力波70、72及び74が非球面出力波56の周りに配置されるものと推論すること
ができる。ここでは、球面出力波70、72及び74が三角形を形成する。非球面出力波
56の方向ベクトルが、この三角形内に存在することが有利である。
のように、位相格子fGの図10に表示する部分は、対応する構造パターン54を大きく
拡大した部分である。図示するものはすべて、50μmのエッジ長を有する正方形部分で
ある。図12に示すように、一実施形態による回折光学素子50は、500mmのエッジ長
を有する正方形基板52上に配置されている。この実施形態では、回折構造パターン54
が円形であり、基板52の大半をカバーする。
の関数f1〜f4を含む。入力波42が回折光学素子50上に放射されると、個々の位相関
数f1〜f4毎に、適切な回折によって別個の出力波が発生する。
合し、非球面出力波56は位相関数f1において発生する。非球面出力波56は測定波と
して機能する。非球面出力波70は位相関数f2において発生し、球面出力波72は位相
関数f3において発生し、球面出力波74は位相関数f4において発生する。40%の重み
により、位相関数f1は残りの位相関数f2〜f4の2倍の強さに重み付けされ、f2〜f4
の各々の重みは20%である。3つの球面出力波70、72、及び74も較正波と称する
ことができる。
の回折効率Eを示し、第2に、回折光学素子50を2回通過する間の、干渉計測システム
のカメラチップ48によって記録された干渉パターンのコントラストCを、第1に、非球
面出力波56(FF)について、第2に、球面出力波70、72及び74(SP1、SP
2及びSP3)について示す。これらの図では、対応する回折効率またはコントラストを
、非球面出力波56(FF)を発生する位相関数f1の重みに応じてプロットしている。
これらの図は、フィゾー素子36が0.4%を反射し、非球面領域の光学面12が4%を
反射し、球面出力波70、72及び74の各々に適合した較正球面の光学面が80%を反
射する実施形態に関するものである。これらの図より、図10によるf1の重み40%の
場合、このことが、単一回の通過において、25%よりわずかに小さい回折効率を生じさ
せつつ、コントラストは90%をわずかに超えることが明らかになる。従って、球面出力
波70、72及び74のコントラストは、ほぼ85%になる。
による回折光学素子50を用いる際に、計測システム10は最初に較正モードで動作する
。この目的のために、球面出力波70、72及び74に適合した較正球面を、出力波70
、72及び74のそれぞれのビーム経路中に対応する順に配置し、各々の出力波を干渉計
測法によって測定する。この干渉計測の結果を、球面出力波70、72及び74毎の較正
測定データとして評価装置49内に記憶する。
の測定では、これにより得られた測定データを、評価装置49によって、記憶している較
正測定データを考慮に入れて評価する。球面出力波70、72及び74の測定中に得られ
た較正測定データを考慮に入れているので、光学面12の測定結果において、回折光学素
子50の製造誤差を補正することができ、その結果、光学面12の形状を高精度で測定す
ることができる。ここで補正することができる製造誤差は、回折構造パターン54を有す
る回折光学素子50の基板表面の形状または外形の偏差、及び回折構造パターン54にお
ける歪み効果を含む。
つの球面波を用いた光学面12の形状測定値を構成する選択肢は、より良好な誤差量を達
成することを可能にする。特に、このことは、回折構造パターン54の形状または外形の
偏差が、球面出力波70、72及び74及び非球面出力波56において、非常に類似した
偏差を生成することに起因する。従って、これらの形状または外形の偏差は、その大部分
を補正することができる。
のエッジ長を有する回折格子の正方形の測定領域内で、50μmのエッジ長を有する任意
の正方形の部分領域にわたって平均した格子線のストライプ密度が、1ミリメートル当た
り20ライン未満の幅に及ぶ変化を有するように構成されている。
を確立することができる。回折構造パターン54は、回折光学素子50の基板52上に配
置され、一実施形態によれば、回折構造パターン54が、約500mmの直径を有する円形
形状を有して、各々が1mmの辺長を有する個別の正方形領域MFに再分割される。さらに
、測定領域MFは、それぞれが50μmの辺長を有する個々の正方形部分領域TFに再分
割される。
距離diが確立され、これらの測定点の各々は1μmだけ分離されている。周期距離diは
、測定点iにおける格子線GLの幅と、一辺が隣の格子線に隣接する、隣の格子線までの
空間の幅との合計より生じる。その逆数を求めることによって、測定した周期距離diを
ストライプ密度値Diに変換する。こうして得られたストライプ密度Diの値を、関係する
部分領域TF内のすべての格子線GLのすべての測定点iにわたって平均する。
00個の部分領域について行う。従って、測定領域MF内のすべての部分領域TFについ
て、平均ストライプ密度DMが測定される。上記の仕様によれば、個々の部分領域TFに
ついての、平均ストライプ密度DMの変化は、1ミリメートル当たり20ライン未満の幅
を有する。その結果、測定領域MF内の種々の部分領域TFについて確立した平均ストラ
イプ密度DMは、1ミリメートル当たり20線対未満だけ変化する。一例として、すべて
の部分領域TFにわたる平均ストライプ密度DMが1ミリメートル当たり200ラインで
あれば、上述した仕様によれば、このストライプ密度は、最大でも1ミリメートル当たり
190〜210ラインの範囲内で変化する。
す。ここで、図13は、回折構造パターン54によって形成される回折格子の、50μm
の辺長を有する正方形部分を示し、図14は、図13からの、格子線GLのうち1本が含
まれる部分Aを示す。
GL間の中心間距離の各々を、回折格子全体にわたって平均することによって定まる。図
12を参照して上述したように確立した周期距離diを平均することによって、平均周期
距離を測定することもできる。
子の平均周期距離の3倍〜20倍の領域内に入るようにする。さらに、格子線GLは、そ
れらの長手方向を横切る方向に、幅Δにわたる変化を有し、幅Δは、回折格子の平均周期
距離pの0.1倍〜3倍の領域内に入る。
よって近似し、波状のピーク及び波状の谷における当該格子線GLの偏位を、対応する近
似境界線76に対して測定することによって測定することもできる。これらの偏位の合計
、即ち、波状のピークにおける偏位δ1と波状の谷における偏位δ2との合計が、変化の
幅Δになる。しかし、幅Δは、補助直線78を、一方の側から、この格子線に隣接するま
で、この格子線に向かって押すことによって測定することもできる。同様に、格子線GL
のエッジ境界と補助直線78との間の最大距離が、幅Δに相当する。
波の描写を、有向空間内に示す。両実施形態では、中央に配置され、測定波として機能す
る非球面出力波56に加えて、較正波として機能するさらに4つの別個の出力波70、7
2、74及び80が、入力波42から、ストライプパターン54における回折によって発
生する。ここで、球面出力波70、72、74及び80は、非球面出力波の周りに対称に
存在しないように配置され、即ち、有向空間内に図示する平面内で、それぞれの点を非球
面出力波56に対して鏡像化することによって規定される、それぞれの反対「空間」が自
由なままである。換言すれば、球面出力波70、72、74及び80のそれぞれの平均伝
搬方向を2つずつ対にした各々が、非球面出力波56の平均伝搬方向によって規定される
軸線に対して対称に配置されない。
で、非球面出力波56の伝搬方向を横切る向きに配置された対称軸について、球面出力波
72及び74と対称に配置される。図16による実施形態では、こうした対称性は失われ
ているが、球面出力波70及び74、並びに72及び76の各々が、有向空間内に図示す
る平面内で、非球面出力波56を通って延びる直線上に配置されている。
学面12の形状測定値の較正中に、追加的な自由度に起因する格子欠陥に対する感度を最
小にする構成を見出すことを可能にする。
ように、回折構造パターン54が、図10の位相パターンfGの例を用いた多レベル位相
格子として具体化される。当業者が良く知っているように、多レベル位相格子とは、最高
レベルと最低レベルとの間に少なくとも1つの中間レベルを有する位相格子を意味するも
のと理解すべきである。従って、こうした位相格子は少なくとも3つのレベルを有し、図
17に示す実施形態では4つのレベルが設けられている。多レベル位相格子の使用は、複
合符号化によって生じる回折効率の損失を部分的に補償するか、さらには過度に補償する
ことを可能にする。
たはミラーの形態で、特にEUV投影露光装置用のミラーの形態で示す。光学素子14は
、自由形状面として形成された光学面12を有する。製造中に、光学素子14の光学面1
2は、最初に、意図した自由形状面の形態の所定形状を、製造精度に応じて近似するよう
に作製する。直後に、近似面12を、本発明による実施形態の1つにおける回折光学素子
50を用いた干渉計測システム10を用いて測定し、従って、この表面の、意図した形状
からの偏差を高精度で測定する。測定結果に基づいて、表面12が以下に指定する仕様を
有するように、この表面の適切な点をさらに処理する。
ことができる。図示する実施形態では、直径dが約600mmである。図19に、光学素子
14の軸80に沿った、この光学素子の概略断面図を示す。軸80は、の光学面12の意
図した形状84に最も良く合う回転対称の非球面82の回転軸であり、図面中ではz方向
に配置されている。既に上述したように、意図した形状84は、自由形状面の形態を有し
、従って回転対称ではない。図19に示す光学面12の、意図した形状84からの偏差を
大きな倍率で示し、例示目的で概略的に示す。
Δが約6μmであり、従って5μmより大きい。光学面12の実際形状の、意図した形状8
4からの偏差は、2次元偏差D(x, y)によって記述され、ここに、x及びyは光学面12
上の座標を表す。偏差D(x, y)は、d/100、即ち約5mm〜d/5、即ち約100mmの
振動波長を有する振動に由来し、最大でも0.05nmである。
)が得られ、ここにvは周波数を表す。従って、上記に指定した振動波長の境界値に相当
する周波数間の領域内では、関数d(v)の振幅は最大でも0.05nmである。
10 干渉計測システム
12 光学面
14 光学素子
16 干渉計
18 光源
20 照明放射
21 レーザー
22 レーザービーム
24 フォーカスレンズ
26 止め具
28 発散ビーム
30 レンズ素子グループ
32 光軸
34 ビームスプリッタ
36 フィゾー素子
38 フィゾー領域
40 参照波
42 入力波
44 平面波面
45 干渉計カメラ
46 レンズ系
47 検出領域
48 カメラチップ
49 評価装置
50 回折光学素子
52 基板
54 回折構造パターン
56 非球面出力波
58 球面出力波
60x +1 平面出力波
60x -1 平面出力波
60y +1 平面出力波
60y -1 平面出力波
62 較正球
64 平面鏡
66 戻り測定波
70 球面出力波
72 球面出力波
74 球面出力波
76 近似境界直線
80 回転軸
82 最も良く合う回転対称非球面
84 意図した形状
Claims (22)
- 光学素子の光学面の実際形状の、意図した形状からの偏差を測定する方法であって、
入力波を発生するステップと、
前記入力波のビーム経路中に回折光学素子を配置し、前記入力波を、前記回折光学素子
との相互作用によって、少なくとも3つの別個の出力波に変換するステップであって、前
記出力波のうち1つは測定波であり、前記光学面の前記意図した形状に適合し、非球形波
面を有し、前記出力波のうち少なくとも他の2つは較正波であるステップと、
前記少なくとも2つの較正波の各々を用いて、前記回折光学素子の較正補正値を決定す
るステップと、
前記光学面を、前記適合した測定波のビーム経路中に配置し、前記測定波の波面を、前
記光学面との相互作用後に測定するステップであって、前記適合した測定波の波面を、前
記較正補正値を決定するステップ中と同様に前記入力波に対して配向された前記回折素子
を用いて測定するステップと、
前記決定した較正補正値を用いて、前記測定した波面を補正するステップと
を含むことを特徴とする方法。 - 前記回折光学素子が、複合符号化位相格子を具えていることを特徴とする請求項1に記
載の方法。 - 前記少なくとも3つの出力波の各々を、前記回折光学素子において、1次の回折次数で
発生することを特徴とする請求項1または2に記載の方法。 - 前記出力波が、それぞれの平均伝搬方向を有し、これらの平均伝搬方向は、前記少なく
とも2つの較正波が、前記測定波の平均伝搬方向によって規定される軸線に対して互いに
対称に配置されるように、互いに対して配向されていることを特徴とする請求項1〜3の
いずれかに記載の方法。 - 前記較正波のうち少なくとも1つが球面波であることを特徴とする請求項1〜4のいず
れかに記載の方法。 - 光学素子を製造する方法であって、
500mmより大きい直径dを有する光学面を有する前記光学素子を製造するステップと
、
1つの回折光学素子のみを用いた干渉計測によって、前記光学面の意図した形状に対す
る当該光学面の実際形状を、前記意図した形状からの前記実際形状の偏差が0.05nmの
精度で測定されるような精度で測定するステップであって、前記偏差は、d/100〜d
/5の振動波長を有する振動に由来し、前記意図した形状は自由形状面であり、回転対称
な非球面の各々から5μmより大きい偏差を有するステップと、
前記干渉計測の結果に基づいて、前記光学面を機械的に処理することによって、前記光
学面を前記意図した形状に適合させるステップと
を含むことを特徴とする方法。 - 基板、及びこの基板上に配置された回折構造パターンを有する回折光学素子であって、
前記回折構造パターンは、当該回折構造パターン上に放射される平面波または球面波の
入力波を、少なくとも4つの別個の出力波に変換するように構成され、前記出力波のうち
少なくとも1つは非球面波であり、前記出力波のうち少なくとも他の1つは球面波であり
、前記出力波のうち少なくとも他の2つのそれぞれは、平面波または球面波であることを
特徴とする回折光学素子。 - 前記回折構造パターンは、前記少なくとも他の2つの出力波が平面波であり、当該出力
波の伝搬方向が前記入力波の入射方向に対して互いに対称であるように構成されているこ
とを特徴とする請求項7に記載の回折光学素子。 - 前記回折構造パターンは、前記別個の出力波が、第1波動対を形成する前記他の2つの
平面波である出力波に加えて、2つの追加的な平面波を第2波動対の形で有するように構
成され、前記追加的な平面波の伝搬方向は、前記入力波の入射方向に対して前記第1波動
対と同様に互いに対称であり、前記第1波動対の伝搬方向が張る平面が、前記第2波動対
の伝搬方向が張る平面と一致しないことを特徴とする請求項8に記載の回折光学素子。 - 前記回折構造パターンの点i毎に、角度αiが、第1差分ベクトルと第2差分ベクトル
との間の角度によって定義され、前記第1差分ベクトルは、前記点iから出る前記非球面
波の波動ベクトルと、前記点iに当たる前記入力波の波動ベクトルとの差分によって定義
され、前記第2差分ベクトルは、前記点iから出る前記少なくとも1つの球面波の波動ベ
クトルと、点iに当たる入力波の波動ベクトルとの差分によって定義され、前記構造パタ
ーンは、前記角度αiの絶対値を、当該回折構造パターンの前記点iのすべてにわたって
平均して、当該構造パターンに平行な平面上に射影した値が、5°より大きく、特に10
°より大きいように構成されていることを特徴とする請求項7〜9のいずれかに記載の回
折光学素子。 - 前記非球面波を発生するための前記回折構造パターンの回折効率が、前記少なくとも1
つの球面波を発生するための前記回折構造パターンの回折効率よりも少なくとも50%大
きいことを特徴とする請求項7〜10のいずれかに記載の回折光学素子。 - 前記回折構造パターンは、前記非球面波である出力波の放射電力が、前記球面波または
平面波である出力波のそれぞれの放射電力よりも大きいことを特徴とする請求項7〜11
のいずれかに記載の回折光学素子。 - 前記回折構造パターンは、当該回折構造パターン上に放射される入力波が少なくとも5
つの出力波に変換され、これらの出力波のうち4つが球面波として具現されるように構成
されていることを特徴とする請求項7〜12のいずれかに記載の回折光学素子。 - 前記出力波のそれぞれが、互いに対して配向された平均伝搬方向を有し、前記4つの球
面波である出力波の平均伝搬方向どうしが、これらの出力波を2つずつ対にした各対にお
いて、前記非球面波である出力波の平均伝搬方向によって規定される軸線に対して互いに
対称に配置されないことを特徴とする請求項13に記載の回折光学素子。 - 前記回折構造パターンが多レベル位相格子を具えていることを特徴とする請求項7〜1
4のいずれかに記載の回折光学素子。 - 基板、及びこの基板上に配置された回折格子を有する回折光学素子であって、
前記回折格子が、互いに距離をおいて配置された格子線を有し、前記回折格子の平均周
期距離は、隣り合う前記格子線間の中心間距離の各々を、前記回折格子全体にわたって平
均した値によって定まり、前記格子線が波状の形状を有し、前記格子線の波状の平均周期
は、前記回折格子の前記平均周期距離の3倍〜20倍の領域内にあり、前記格子線の長手
方向を横切る向きの前記格子線の変動は、前記回折格子の前記平均周期距離の0.1倍〜
3倍の領域内に入る幅を有することを特徴とする回折光学素子。 - 前記回折格子が、前記基板の少なくとも20%をカバーすることを特徴とする請求項1
6に記載の回折光学素子。 - 前記回折格子の前記格子線の少なくとも90%が、連続線として具体化され、前記連続
線は、前記回折格子のエッジ領域間に中断なしに延びることを特徴とする請求項16また
は17に記載の回折光学素子。 - 前記回折格子は、当該回折格子における1mmのエッジ長を有する正方形の測定領域内で
、50μmのエッジ長を有するあらゆる正方形部分領域にわたって平均した前記格子線の
ストライプ密度が、20線対/mm未満の幅に及ぶ変動を有するように構成されていること
を特徴とする請求項16〜18のいずれかに記載の回折光学素子。 - 基板、及びこの基板上に配置された回折構造パターンを有する回折光学素子であって、
前記回折構造パターンは、当該回折構造パターン上に放射される平面波または球面波の
入力波を、各々が球面の波面を有する少なくとも3つの別個の出力波に変換するように構
成されていることを特徴とする回折光学素子。 - 500mmより大きい直径dを有する光学面を有する光学素子であって、
前記光学面の実際形状の、意図した形状からの偏差が0.05nm以下であるように、前
記実際形状が前記意図した形状に適合し、前記偏差は、d/100〜d/5の振動波長を
有する振動に由来し、
前記意図した形状が自由形状面であり、回転対称な非球面の各々から5μmより大きい
偏差を有する
ことを特徴とする光学素子。 - 前記意図した形状が、あらゆる球面から少なくとも1mmの偏差を有することを特徴とす
る請求項21に記載の光学素子。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261707014P | 2012-09-28 | 2012-09-28 | |
US61/707,014 | 2012-09-28 | ||
DE102012217800.7A DE102012217800A1 (de) | 2012-09-28 | 2012-09-28 | Diffraktives optisches Element sowie Messverfahren |
DE102012217800.7 | 2012-09-28 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015532335A Division JP6105731B2 (ja) | 2012-09-28 | 2013-09-27 | 回折光学素子及び測定方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018243265A Division JP2019090819A (ja) | 2012-09-28 | 2018-12-26 | 回折光学素子及び測定方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017167133A true JP2017167133A (ja) | 2017-09-21 |
JP2017167133A5 JP2017167133A5 (ja) | 2017-11-02 |
JP6462025B2 JP6462025B2 (ja) | 2019-01-30 |
Family
ID=50276236
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015532335A Active JP6105731B2 (ja) | 2012-09-28 | 2013-09-27 | 回折光学素子及び測定方法 |
JP2017039346A Active JP6462025B2 (ja) | 2012-09-28 | 2017-03-02 | 回折光学素子、及びこの回折光学素子を用いた測定方法及びシステム |
JP2018243265A Pending JP2019090819A (ja) | 2012-09-28 | 2018-12-26 | 回折光学素子及び測定方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015532335A Active JP6105731B2 (ja) | 2012-09-28 | 2013-09-27 | 回折光学素子及び測定方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018243265A Pending JP2019090819A (ja) | 2012-09-28 | 2018-12-26 | 回折光学素子及び測定方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20150198438A1 (ja) |
EP (1) | EP2901101B1 (ja) |
JP (3) | JP6105731B2 (ja) |
KR (2) | KR102056552B1 (ja) |
CN (2) | CN104685317B (ja) |
DE (1) | DE102012217800A1 (ja) |
WO (1) | WO2014048574A2 (ja) |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9234741B2 (en) * | 2014-04-01 | 2016-01-12 | Dmetrix, Inc. | Interferometric apparatus with computer-generated hologram for measuring non-spherical surfaces |
DE102014117511A1 (de) * | 2014-11-28 | 2016-06-02 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Verfahren und Vorrichtung zur interferometrischen Prüfung |
CN104656173B (zh) * | 2015-02-09 | 2017-05-03 | 浙江大学 | 一种基于光通量约束的随机编码混合光栅 |
DE102015202695A1 (de) * | 2015-02-13 | 2016-08-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Prüfvorrichtung sowie Verfahren zum Prüfen eines Spiegels |
DE102015202676B4 (de) * | 2015-02-13 | 2016-09-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Interferometrische Messvorrichtung |
DE102016203562A1 (de) | 2016-03-04 | 2017-09-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Messverfahren und Messanordnung für ein abbildendes optisches System |
EP3298446A2 (de) | 2015-05-20 | 2018-03-28 | Carl Zeiss SMT GmbH | Messverfahren und messanordnung für ein abbildendes optisches system |
DE102015220588A1 (de) | 2015-10-22 | 2017-04-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Messverfahren und Messanordnung für ein abbildendes optisches System |
DE102015209489A1 (de) | 2015-05-22 | 2016-06-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Interferometrische Messvorrichtung |
DE102015209490A1 (de) | 2015-05-22 | 2016-11-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Interferometrische Messanordnung |
DE102015222366A1 (de) * | 2015-11-12 | 2017-05-18 | Universität Stuttgart | Verkippte Objektwellen nutzendes und ein Fizeau-Interferometerobjektiv aufweisendes Interferometer |
DE102017204719A1 (de) * | 2017-03-21 | 2018-09-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Metrologie-Target |
GB201708100D0 (en) * | 2017-05-19 | 2017-07-05 | Sintef | Input device |
DE102017216401A1 (de) | 2017-09-15 | 2018-10-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Computer-generiertes Hologramm (CGH), sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
DE102017217369A1 (de) * | 2017-09-29 | 2019-04-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Kompensationsoptik für ein interferometrisches Messsystem |
DE102018203795A1 (de) | 2018-03-13 | 2018-05-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Interferometrische Messanordnung zur Bestimmung einer Oberflächenform |
DE102018209175B4 (de) | 2018-06-08 | 2024-01-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Computer-generiertes Hologramm (CGH), interferometrische Prüfanordnung, sowie Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines optischen Elements |
DE102018221406A1 (de) * | 2018-12-11 | 2019-12-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Diffraktives optisches Element sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
DE102019204096A1 (de) * | 2019-03-26 | 2020-10-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Messverfahren zur interferometrischen Bestimmung einer Oberflächenform |
DE102019212614A1 (de) | 2019-08-22 | 2021-02-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Kalibrieren einer Messvorrichtung |
DE102019214979A1 (de) | 2019-09-30 | 2021-04-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Messvorrichtung zur interferometrischen Bestimmung einer Oberflächenform |
DE102019215707A1 (de) * | 2019-10-14 | 2021-04-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines optischen Elements |
DE102019216447A1 (de) | 2019-10-25 | 2019-12-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Interferometrische Prüfanordnung zur Prüfung der Oberflächenform eines Testobjekts |
WO2021141730A1 (en) * | 2020-01-10 | 2021-07-15 | Applied Materials, Inc. | A method to determine line angle and rotation of multiple patterning |
DE102020200628A1 (de) * | 2020-01-21 | 2021-07-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Messvorrichtung zur interferometrischen Formvermessung |
DE102020202623A1 (de) * | 2020-03-02 | 2021-03-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur komplexen Kodierung eines Computer-generierten Hologramms (CGH) |
DE102020205891A1 (de) * | 2020-05-11 | 2021-11-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren und Messvorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Form einer Oberfläche |
DE102020209580B3 (de) * | 2020-07-30 | 2021-09-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Bestimmen einer mittels eines diffraktiven optischen Elements erzeugten Wellenfront, Verfahren zur Herstellung eines diffraktiven optischen Elements sowie Messvorrichtung zur interferometrischen Formvermessung einer Oberfläche eines Testobjekts |
DE102020213762B3 (de) | 2020-11-02 | 2021-09-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Diffraktives optisches Element für eine interferometrische Messvorrichtung |
DE102021200112A1 (de) | 2021-01-08 | 2021-12-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spannsystem |
DE102021202820B3 (de) | 2021-03-23 | 2022-03-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Interferometrisches Messverfahren und interferometrische Messanordnung |
DE102021202911A1 (de) | 2021-03-25 | 2022-09-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Messvorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Oberflächenform |
DE102021202909A1 (de) | 2021-03-25 | 2022-09-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Messvorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Oberflächenform |
DE102021208880A1 (de) | 2021-08-13 | 2023-02-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Diffraktives optisches Element zur Generierung einer Prüfwelle |
DE102021212778A1 (de) | 2021-11-12 | 2022-11-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Diffraktives optisches Element mit einem Strukturmuster |
DE102022209887A1 (de) | 2022-09-20 | 2023-08-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines optischen Elements |
DE102022214271B4 (de) | 2022-12-22 | 2024-02-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung zur interferometrischen Ermittlung eines Passformfehlers einer optischen Oberfläche |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003035526A (ja) * | 2001-05-18 | 2003-02-07 | Nikon Corp | 透過型ゾーンプレート、反射型ゾーンプレート、形状測定方法、干渉測定装置、及び投影光学系の製造方法 |
JP2003269909A (ja) * | 2002-03-12 | 2003-09-25 | Nikon Corp | 形状測定方法及び干渉測定装置、並びに投影光学系の製造方法及び投影露光装置 |
JP2007010609A (ja) * | 2005-07-04 | 2007-01-18 | Olympus Corp | 非球面レンズ製造方法、非球面レンズの偏心測定方法、偏心測定装置及びこの方法により製造された非球面レンズ |
US20080316500A1 (en) * | 2007-04-11 | 2008-12-25 | Carl Zeiss Smt Ag | Methods of testing and manufacturing optical elements |
JP2009544953A (ja) * | 2006-07-28 | 2009-12-17 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 光学表面の実際形状の所望形状からの偏差を測定する方法および装置 |
US20100177320A1 (en) * | 2007-07-09 | 2010-07-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of measuring a deviation of an optical surface from a target shape |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6377014A (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-07 | Yokogawa Electric Corp | 非球面ホログラムを用いた光走査装置 |
CN1019419B (zh) * | 1987-02-20 | 1992-12-09 | 株式会社岛津制作所 | 制作全息光栅的方法和设备 |
JPH01208292A (ja) * | 1988-02-16 | 1989-08-22 | Sanoyasu:Kk | 非対称船尾形状船 |
US4958463A (en) * | 1988-06-06 | 1990-09-25 | United Technologies Corporation | Optical surface quality improving arrangement |
JPH04336090A (ja) * | 1991-05-10 | 1992-11-24 | Namco Ltd | 凹面鏡を用いたゲーム装置 |
JP3187093B2 (ja) * | 1991-09-27 | 2001-07-11 | キヤノン株式会社 | 位置ずれ測定装置 |
JP2709350B2 (ja) * | 1992-05-28 | 1998-02-04 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 密着プリンタ |
US5496616A (en) * | 1994-12-27 | 1996-03-05 | Xerox Corporation | Optical element for correcting non-uniform diffraction efficiency in a binary diffractive optical element |
JP3590142B2 (ja) * | 1995-07-21 | 2004-11-17 | オリンパス株式会社 | 干渉計装置 |
US6005667A (en) * | 1996-07-23 | 1999-12-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical displacement measurement apparatus and information recording apparatus |
JP2000267295A (ja) * | 1999-03-15 | 2000-09-29 | Fujitsu Ltd | 露光方法及びその装置 |
US6771375B2 (en) * | 2001-06-20 | 2004-08-03 | Zygo Corporation | Apparatus and method for measuring aspherical optical surfaces and wavefronts |
US6972849B2 (en) * | 2001-07-09 | 2005-12-06 | Kuechel Michael | Scanning interferometer for aspheric surfaces and wavefronts |
EP1316789A1 (de) | 2001-12-03 | 2003-06-04 | Universität Stuttgart | Kalibrierung eines diffraktiven Kompensations- oder Absolutnormal-Elementes ( twin oder dual CGH ) über Wellenfrontfehler der sphärischen Hilfswelle |
KR100449711B1 (ko) * | 2001-12-21 | 2004-09-22 | 삼성전자주식회사 | 오목면과 홀로그램을 가지는 비구면 측정장치 및 방법 |
JP3891872B2 (ja) * | 2002-04-04 | 2007-03-14 | 株式会社ミツトヨ | 微小周期構造評価装置及び微小周期構造評価方法 |
US7158215B2 (en) * | 2003-06-30 | 2007-01-02 | Asml Holding N.V. | Large field of view protection optical system with aberration correctability for flat panel displays |
JP2007527997A (ja) * | 2004-03-06 | 2007-10-04 | マイケル トレイナー, | 粒子のサイズおよび形状を決定する方法および装置 |
EP1610091A1 (de) * | 2004-06-23 | 2005-12-28 | Leica Geosystems AG | Scannersystem und Verfahren zur Erfassung von Oberflächen |
TW200630604A (en) * | 2005-01-06 | 2006-09-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method and apparatus for inspection of optical component |
US7440113B2 (en) * | 2005-12-23 | 2008-10-21 | Agilent Technologies, Inc. | Littrow interferometer |
US7612893B2 (en) * | 2006-09-19 | 2009-11-03 | Zygo Corporation | Scanning interferometric methods and apparatus for measuring aspheric surfaces and wavefronts |
WO2008110239A1 (en) * | 2007-03-15 | 2008-09-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Diffractive component, interferometer arrangement, method for qualifying a dual diffraction grating, method of manufacturing an optical element, and interferometric method |
DE102008029970A1 (de) * | 2008-06-26 | 2009-12-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie sowie Verfahren zum Überwachen einer lateralen Abbildungsstabilität |
US7889356B2 (en) * | 2008-12-09 | 2011-02-15 | Zygo Corporation | Two grating lateral shearing wavefront sensor |
DE102009008644A1 (de) * | 2009-02-12 | 2010-11-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie mit einer derartigen abbildenden Optik |
WO2011032572A1 (en) * | 2009-09-18 | 2011-03-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method of measuring a shape of an optical surface and interferometric measuring device |
DE102010008629B4 (de) * | 2010-02-17 | 2020-09-03 | Carl Zeiss Meditec Ag | Reflexionsfreie Abbildungsoptik für optische Geräte, insbesondere in der Ophthalmologie |
CN106933082B (zh) * | 2010-04-01 | 2021-03-12 | 视瑞尔技术公司 | 用于在全息系统中编码包含透明物体的三维场景的方法和装置 |
CN102095504B (zh) * | 2010-12-07 | 2012-07-11 | 四川大学 | 基于空间相位调制的环形共光路点衍射干涉仪 |
CN102620842B (zh) * | 2012-04-10 | 2013-10-30 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种检测小孔衍射球面波光学面形的检测装置 |
-
2012
- 2012-09-28 DE DE102012217800.7A patent/DE102012217800A1/de not_active Ceased
-
2013
- 2013-09-27 CN CN201380051045.5A patent/CN104685317B/zh active Active
- 2013-09-27 JP JP2015532335A patent/JP6105731B2/ja active Active
- 2013-09-27 KR KR1020187016531A patent/KR102056552B1/ko active IP Right Grant
- 2013-09-27 KR KR1020157007564A patent/KR101869141B1/ko active IP Right Grant
- 2013-09-27 EP EP13776953.5A patent/EP2901101B1/en active Active
- 2013-09-27 CN CN201711103826.0A patent/CN107816939B/zh active Active
- 2013-09-27 WO PCT/EP2013/002904 patent/WO2014048574A2/en active Application Filing
-
2015
- 2015-03-27 US US14/670,632 patent/US20150198438A1/en not_active Abandoned
-
2017
- 2017-03-02 JP JP2017039346A patent/JP6462025B2/ja active Active
-
2018
- 2018-12-26 JP JP2018243265A patent/JP2019090819A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003035526A (ja) * | 2001-05-18 | 2003-02-07 | Nikon Corp | 透過型ゾーンプレート、反射型ゾーンプレート、形状測定方法、干渉測定装置、及び投影光学系の製造方法 |
JP2003269909A (ja) * | 2002-03-12 | 2003-09-25 | Nikon Corp | 形状測定方法及び干渉測定装置、並びに投影光学系の製造方法及び投影露光装置 |
JP2007010609A (ja) * | 2005-07-04 | 2007-01-18 | Olympus Corp | 非球面レンズ製造方法、非球面レンズの偏心測定方法、偏心測定装置及びこの方法により製造された非球面レンズ |
JP2009544953A (ja) * | 2006-07-28 | 2009-12-17 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 光学表面の実際形状の所望形状からの偏差を測定する方法および装置 |
US20080316500A1 (en) * | 2007-04-11 | 2008-12-25 | Carl Zeiss Smt Ag | Methods of testing and manufacturing optical elements |
US20100177320A1 (en) * | 2007-07-09 | 2010-07-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of measuring a deviation of an optical surface from a target shape |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2901101A2 (en) | 2015-08-05 |
CN104685317B (zh) | 2017-12-22 |
JP6105731B2 (ja) | 2017-03-29 |
JP2015535930A (ja) | 2015-12-17 |
KR20150046282A (ko) | 2015-04-29 |
CN107816939B (zh) | 2020-04-14 |
JP2019090819A (ja) | 2019-06-13 |
CN107816939A (zh) | 2018-03-20 |
EP2901101B1 (en) | 2022-05-18 |
KR20180069923A (ko) | 2018-06-25 |
US20150198438A1 (en) | 2015-07-16 |
JP6462025B2 (ja) | 2019-01-30 |
DE102012217800A1 (de) | 2014-04-03 |
CN104685317A (zh) | 2015-06-03 |
KR101869141B1 (ko) | 2018-06-19 |
WO2014048574A2 (en) | 2014-04-03 |
WO2014048574A3 (en) | 2014-05-30 |
KR102056552B1 (ko) | 2019-12-16 |
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---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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