JP2017161407A - シンチレータおよび放射線検出器 - Google Patents
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Abstract
【課題】横方向の散乱光が抑制され、画質、特に鮮鋭性の点で向上したシンチレータを提供する。【解決手段】少なくとも、シンチレータ層、反射層、および樹脂製支持体が、この順序で積層されている構造を含むシンチレータパネルにおいて、反射層が、少なくとも1種類以上の正反射層と、少なくとも1種類以上の拡散反射層とからなることを特徴とするシンチレータパネル。【選択図】図1
Description
本発明は、横方向の散乱光が抑制され、画質、特に鮮鋭性の点で向上したシンチレータおよび放射線検出器に関する。
従来、X線画像のような放射線画像は医療現場において病状の診断に広く用いられている。前記放射線画像の撮影は、ヒト等の被験体に所定量の線量の放射線を照射し、被験体を通過した放射線を放射線画像変換装置により可視画像に変換して行われる。
前記放射線画像変換装置は、放射線画像を可視画像に変換するシンチレータを備えており、前記シンチレータは、ヨウ化セシウム等を含有する蛍光体の層を備えている。被験体を通過した放射線がシンチレータの蛍光体層に達すると蛍光に変換され、この蛍光をCMOS等の受光素子で受光することにより前記可視画像が形成される。
CsIシンチレータ発光のうち、発光を反射して、光の取り出し効率を高めるために、基板上には反射層を設けられる。この反射層について、銀(Ag)などの金属からなるスパッタ膜等を設ける金属反射層と、酸化チタンなどの白色顔料をバインダーに分散させた塗布型反射層が知られている。
金属反射層は、反射率が高いものの、シンチレータにハロゲン元素を含む場合に腐食されてしまうことが知られており、樹脂等による保護層を形成させる必要があった。しかし、このような保護層を形成する場合は、その層を蛍光が通り抜ける際に光が散乱・吸収されるため、光のロスが発生し、可視画像でのノイズ影響が大きくなって、病状の診断に影響を及ぼす可能性があった。また、金属反射層の蒸着時に微小孔(ピンホール)が発生する場合があり、その微小孔が可視画像の中に出現することで、やはり病状の診断に影響を及ぼす可能性があった。
このような金属反射層をシンチレータに形成したものとしては、たとえば特開2003-262671号公報(特許文献1)、特開2003-262677号公報(特許文献2)等が知られている。当該公報には、シンチレータ層と金属反射膜の間に、ポリパラキシリレン等の保護有機膜を設け、金属反射膜のシンチレータ成分による腐食を防止することが開示されている。
また、特開2008-107222号公報(特許文献3)には、金属反射層とともに、光吸収層を設け、長波長成分を低減することで、鮮鋭性を向上させることが開示されている。そして、光吸収層として、着色剤とバインダー樹脂から成る層を形成することが開示されている。この光吸収層は、前記保護層に対して、蛍光が通り抜ける際の光散乱の影響を抑制するために着色剤を加えて散乱光を吸収させるものと見做すことが可能である。この方法では、画質の指標値である鮮鋭性を向上させることは可能であるが、散乱光を吸収して可視画像に寄与できなくさせるため、可視画像でのノイズ影響は大きいまま留まる。よって、病状の診断に影響を及ぼす可能性は残ってしまう。
一方塗布型反射層は、反射層であると同時に、それ自身が樹脂を含むことで前記保護層の役割を果たしているため、防食層などは不要であり、反射層であるが故に、その層を傾向が通り抜ける際の光のロスが無いという利点があった。しかし、光の屈折を繰り返して反射性能を持たせているという機能のため、金属反射層よりも反射率が低いという問題点もあった。
このような反射層をシンチレータに形成したものとしては、特許第4725533号公報(特許文献4)が知られている。当該公報には、基板とシンチレータ層の間に、アルミナ、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタンなどの白色顔料とバインダーからなる反射層が開示されている。
この様に、シンチレータによる発光の取り出し効率を高めるために設けられる反射層について、金属反射層では、腐食防止のために形成する保護層における光のロスや、反射層蒸着時に発生する場合がある微小孔(ピンホール)が問題となり、塗布型反射層では反射率が低いことが問題となり、いずれも可視画像による病状の診断に影響を及ぼす可能性があり、改善が望まれていた。
本発明は、輝度が高く、画像ボケのない、鮮鋭性に優れたシンチレータパネルおよび放射線検出器を提供することを目的とする。
そして、本発明者らは、反射層として、金属反射層の様な、入射された光を同じ角度に跳ね返す層(正反射層)と、塗布型反射層の様な、いろいろな方向に拡散させてはね返す層(拡散反射層)を想定し、それらを組み合わせることで、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
そして、本発明者らは、反射層として、金属反射層の様な、入射された光を同じ角度に跳ね返す層(正反射層)と、塗布型反射層の様な、いろいろな方向に拡散させてはね返す層(拡散反射層)を想定し、それらを組み合わせることで、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明に係る上記課題は下記の手段により解決される。
[1]少なくとも、シンチレータ層、反射層、および樹脂製支持体が、この順序で積層されている構造を含むシンチレータパネルにおいて、
反射層が、少なくとも1種類以上の正反射層と、少なくとも1種類以上の拡散反射層とからなることを特徴とするシンチレータパネル。
[2]前記拡散反射層が、前記正反射層とシンチレータ層の間に存在する[1]のシンチレータパネル。
[3]前記反射層において、正反射光を含む反射光強度をSCI、正反射光を含まない反射光強度をSCEとおいた場合、
(SCE)/(SCI) ≧ 0.3
を満足する[1]または[2]のシンチレータパネル。
[4]前記反射層において、正反射光を含む反射光強度をSCI、正反射光を含まない反射光強度をSCEとおいた場合、
(SCE)/(SCI) ≧ 0.8
を満足する[1]〜[3]のシンチレータパネル。
[5]前記拡散反射層が、少なくとも、バインダー樹脂と、光散乱粒子または空隙の少なくともいずれか一方とを含有し、光散乱粒子または空隙の含有量が2vol%以上80vol%以下である[1]〜[4]のシンチレータパネル。
[6]前記光散乱粒子は白色顔料である[5]のシンチレータパネル。
[7]前記正反射層が金属からなる[1]〜[6]のシンチレータパネル。
[8]前記光散乱粒子とバインダー樹脂との屈折率差が、0.1以上である[5]または[6]のシンチレータパネル。
[9]前記シンチレータ層の厚みが、100μm以上800μm以下である[1]〜[8]のシンチレータパネル。
[10]前記シンチレータ層の、少なくとも前記樹脂製支持体と反対側の表面上に、耐湿保護層が載置されている[1]〜[9]のシンチレータパネル。
[11]前記シンチレータパネルと、シンチレータ層をはさんで、反射層と対向する位置に光検出器を設けることを特徴とする、放射線検出器。
[1]少なくとも、シンチレータ層、反射層、および樹脂製支持体が、この順序で積層されている構造を含むシンチレータパネルにおいて、
反射層が、少なくとも1種類以上の正反射層と、少なくとも1種類以上の拡散反射層とからなることを特徴とするシンチレータパネル。
[2]前記拡散反射層が、前記正反射層とシンチレータ層の間に存在する[1]のシンチレータパネル。
[3]前記反射層において、正反射光を含む反射光強度をSCI、正反射光を含まない反射光強度をSCEとおいた場合、
(SCE)/(SCI) ≧ 0.3
を満足する[1]または[2]のシンチレータパネル。
[4]前記反射層において、正反射光を含む反射光強度をSCI、正反射光を含まない反射光強度をSCEとおいた場合、
(SCE)/(SCI) ≧ 0.8
を満足する[1]〜[3]のシンチレータパネル。
[5]前記拡散反射層が、少なくとも、バインダー樹脂と、光散乱粒子または空隙の少なくともいずれか一方とを含有し、光散乱粒子または空隙の含有量が2vol%以上80vol%以下である[1]〜[4]のシンチレータパネル。
[6]前記光散乱粒子は白色顔料である[5]のシンチレータパネル。
[7]前記正反射層が金属からなる[1]〜[6]のシンチレータパネル。
[8]前記光散乱粒子とバインダー樹脂との屈折率差が、0.1以上である[5]または[6]のシンチレータパネル。
[9]前記シンチレータ層の厚みが、100μm以上800μm以下である[1]〜[8]のシンチレータパネル。
[10]前記シンチレータ層の、少なくとも前記樹脂製支持体と反対側の表面上に、耐湿保護層が載置されている[1]〜[9]のシンチレータパネル。
[11]前記シンチレータパネルと、シンチレータ層をはさんで、反射層と対向する位置に光検出器を設けることを特徴とする、放射線検出器。
本発明では反射層が、正反射層と拡散反射層とから構成される。これらを組み合わせることで、反射性能が更に向上するだけでなく、拡散反射層の「光の屈折を繰り返して反射性能を持たせている」という機能を利用して、正反射層で反射された光のうち散乱・吸収する分を屈折させ、シンチレータからの発光を、その発光位置になるべく近い箇所で反射させることが出来るため、鮮鋭性が向上する。また、散乱・吸収する分を効率的に可視画像に寄与させることが出来るため、可視画像でのノイズ影響が抑制され、病状の診断にとって好ましい可視画像が得られる。
以下、本発明について、図面を参照しながら、具体的に説明するが、かかる記載に何ら限定されるものではない。
本発明のシンチレータパネルは、少なくとも、シンチレータ層、反射層、および樹脂製支持体が、この順序で積層されている構造を含む。
本発明のシンチレータパネルは、少なくとも、シンチレータ層、反射層、および樹脂製支持体が、この順序で積層されている構造を含む。
本発明に係るシンチレータパネルの基本構成を図1に示す。
図1に示されるように、樹脂製支持体11とシンチレータ層12との間に反射層13を備える。
以下、各構成部材について順に説明する。
図1に示されるように、樹脂製支持体11とシンチレータ層12との間に反射層13を備える。
以下、各構成部材について順に説明する。
樹脂製支持体11
本発明に係る放射線画像検出器10において、樹脂製支持体11は、シンチレータ層12を形成する蛍光体の土台として用いられるとともに、シンチレータ層12の構造を保持する役割を有する。
本発明に係る放射線画像検出器10において、樹脂製支持体11は、シンチレータ層12を形成する蛍光体の土台として用いられるとともに、シンチレータ層12の構造を保持する役割を有する。
樹脂製支持体11の材料としては、X線等の放射線を透過させることが可能な、高分子材料が挙げられる。
具体的には、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム、炭素繊維強化樹脂シート等の高分子フィルム(プラスチックフィルム)等の他に、バイオナノファイバーフィルムを用いることができる。これらは一種単独で用いても積層して用いてもよい。また、これらと非樹脂製支持体、例えばアモルファスカーボン・ガラス・金属などとを積層させたり複合化したりしても良い。
具体的には、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム、炭素繊維強化樹脂シート等の高分子フィルム(プラスチックフィルム)等の他に、バイオナノファイバーフィルムを用いることができる。これらは一種単独で用いても積層して用いてもよい。また、これらと非樹脂製支持体、例えばアモルファスカーボン・ガラス・金属などとを積層させたり複合化したりしても良い。
上記支持体11の材料の中でも、可撓性を有する高分子フィルムが好ましい。ここで、「可撓性を有する」とは、120℃での弾性率(E120)が、0.1〜300GPaであることをいう。「弾性率」とは、引張試験機を用い、JIS−C2318に準拠したサンプルの標線が示すひずみと、それに対応する応力が直線的な関係を示す領域において、ひずみ量に対する応力の傾きを求めた値である。これがヤング率と呼ばれる値であり、本明細書においては、かかるヤング率を弾性率と定義する。
このような高分子フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、セルロースアセテート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、エポキシ、ポリアミドイミド、ビスマレイミド、フッ素樹脂、アクリル、ポリウレタン、アラミド、ナイロン、ポリカーボネート、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマー、バイオナノファイバー等からなるフィルムが挙げられる。
当該樹脂製支持体上に蛍光体を蒸着してシンチレータ層を形成するので、耐熱性の観点から、ガラス転移点が100℃以上である樹脂フィルムが好ましく、特にポリイミドを含有する樹脂フィルムが好適である。市販品として、例えば、UPILEX−125S(宇部興産(株)製)を用いてもよい。
高分子フィルムの厚さとしては、好ましくは20〜1000μm、更に好ましくは50〜750μmである。支持体の厚さを50μm以上にすることで蛍光体層を形成した後のハンドリング性が良好となる。また、支持体の厚さを750μm以下にすることで、反射層をはじめ、必要に応じて設けられる密着層などの各種機能層を、ロール・ツー・ロール(roll to roll)で加工することも容易であり、生産性向上の観点より、非常に有用である。
シンチレータ層12
本発明のシンチレータパネルを構成するシンチレータ層12は、柱状結晶構造を有する蛍光体から構成され、外部から入射された放射線であるX線のエネルギーを、可視光に変換する役割を有する。
本発明のシンチレータパネルを構成するシンチレータ層12は、柱状結晶構造を有する蛍光体から構成され、外部から入射された放射線であるX線のエネルギーを、可視光に変換する役割を有する。
本発明において蛍光体とはα線、γ線、X線等の電離放射線が照射されたときに原子が励起されることにより発光するものをいう。すなわち、放射線を紫外・可視光に変換して放出する蛍光体を指す。蛍光体は外部から入射されたX線などの放射線エネルギーを効率よく光に変換可能な材料である限り特に制限されない。また、放射線の光への変換は必ずしも瞬時に行われる必要は無く、蛍光体層に一旦潜像として蓄積され、後から読み出す方式を用いても良い。
例えば、本発明に係る蛍光体としては、X線などの放射線を可視光などの異なる波長に変換することが可能な物質を適宜使用することが出来る。具体的には、「蛍光体ハンドブック」(蛍光体同学会編・オーム社・1987年)の284頁から299頁に至る箇所に記載されたシンチレータ及び蛍光体や、米国Lawrence Berkeley National LaboratoryのWebホームページ「Scintillation Properties(http://scintillator.lbl.gov/)」に記載の物質などが考えられるが、ここに指摘されていない物質でも、「X線などの放射線を可視光などの異なる波長に変換することが可能な物質」であれば、蛍光体粒子として用いることが出来る。
具体的な蛍光体の組成としては、以下の例が挙げられる。
まず、基本組成式(I):
MIX・aMIIX'2・bMIIIX''3:zA
で表わされる金属ハロゲン化物系蛍光体が挙げられる。
まず、基本組成式(I):
MIX・aMIIX'2・bMIIIX''3:zA
で表わされる金属ハロゲン化物系蛍光体が挙げられる。
上記式において、MIは1価の陽イオンになり得る元素、すなわち、リチウム(Li),ナトリウム(Na),カリウム(K),ルビジウム(Rb),セシウム(Cs),タリウム(Tl)および銀(Ag)などからなる群より選択される少なくとも1種を表す。
MIIは2価の陽イオンになり得る元素、すなわちベリリウム(Be),マグネシウム(Mg),カルシウム(Ca),ストロンチウム(Sr),バリウム(Ba),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn)およびカドミウム(Cd)などからなる群より選択される少なくとも1種を表す。
MIIIは、スカンジウム(Sc),イットリウム(Y),アルミニウム(Al),ガリウム(Ga),インジウム(In)およびランタノイドに属する元素からなる群より選択される少なくとも1種を表す。
X、X'およびX"は、それぞれハロゲン元素を表わすが、それぞれが異なる元素であっても、同じ元素であっても良い。
Aは、Y,Ce、Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Na,Mg,Cu,Ag(銀),TlおよびBi(ビスマス)からなる群より選択される少なくとも1種の元素を表す。
a,bおよびzはそれぞれ独立に、0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<z<1.0の範囲内の数値を表わす。
Aは、Y,Ce、Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Na,Mg,Cu,Ag(銀),TlおよびBi(ビスマス)からなる群より選択される少なくとも1種の元素を表す。
a,bおよびzはそれぞれ独立に、0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<z<1.0の範囲内の数値を表わす。
また、基本組成式(II):
MIIFX:zLn
で表わされる希土類付活金属フッ化ハロゲン化物系蛍光体も挙げられる。
MIIFX:zLn
で表わされる希土類付活金属フッ化ハロゲン化物系蛍光体も挙げられる。
上記式において、それぞれ、MIIは少なくとも1種のアルカリ土類金属元素を、Lnはランタノイドに属する少なくとも1種の元素を、Xは、少なくとも1種のハロゲン元素を表す。またzは、0<z≦0.2である。
また、基本組成(III):
Ln2O2S:zA
で表される希土類酸硫化物系蛍光体も挙げられる。
Ln2O2S:zA
で表される希土類酸硫化物系蛍光体も挙げられる。
上記式において、それぞれLnはランタノイドに属する少なくとも1種の元素を、Aは、Y,Ce、Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Na,Mg,Cu,Ag(銀),TlおよびBi(ビスマス)からなる群より選択される少なくとも1種の元素を表す。またzは、0<z<1である。
特にLnとしてガドリニウム(Gd)を用いたGd2O2Sは、Aの元素種にテルビウム(Tb)、ジスプロシウム(Dy)等を用いることによって、受光素子が最も受光しやすい波長領域で、高い発光特性を示すことが知られており、特に好ましい。
また、基本組成(IV):
MIIS:zA
で表される金属硫化物系蛍光体も挙げられる。
MIIS:zA
で表される金属硫化物系蛍光体も挙げられる。
上記式において、それぞれMIIは2価の陽イオンになり得る元素、すなわちアルカリ土類金属,Zn(亜鉛),Sr(ストロンチウム),Ga(ガリウム)等からなる群より選択される少なくとも1種の元素を、Aは、Y,Ce、Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Na,Mg,Cu,Ag(銀),TlおよびBi(ビスマス)からなる群より選択される少なくとも1種の元素を表す。またzは、0<z<1である。
また、基本組成(V):
Ma(AG)b:zA
で表される金属オキソ酸塩系蛍光体も挙げられる。
Ma(AG)b:zA
で表される金属オキソ酸塩系蛍光体も挙げられる。
上記式において、それぞれMは陽イオンになり得る金属元素であり、(AG)はリン酸塩、ホウ酸塩、ケイ酸塩、硫酸塩、タングステン酸塩、アルミン酸塩からなる群より選択される少なくとも1種のオキソ酸基を、Aは、Y,Ce、Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Na,Mg,Cu,Ag(銀),TlおよびBi(ビスマス)からなる群より選択される少なくとも1種の元素を表す。
またaおよびbは、金属及びオキソ酸基の価数に応じて取り得る値全てを表す。zは、0<z<1である。
またaおよびbは、金属及びオキソ酸基の価数に応じて取り得る値全てを表す。zは、0<z<1である。
また、基本組成式(VI):
MaOb:zA
で表わされる金属酸化物系蛍光体が挙げられる。
MaOb:zA
で表わされる金属酸化物系蛍光体が挙げられる。
上記式において、Mは陽イオンになり得る金属元素であり、前記したMI〜MIIのいずれかの例示より選択される少なくとも1種の元素を表す。
またaおよびbは、金属及びオキソ酸基の価数に応じて取り得る値全てを表す。zは、0<z<1である。
またaおよびbは、金属及びオキソ酸基の価数に応じて取り得る値全てを表す。zは、0<z<1である。
また他に、基本組成式(VII):
LnOX:zA
で表わされる金属酸ハロゲン化物系蛍光体が挙げられる。
LnOX:zA
で表わされる金属酸ハロゲン化物系蛍光体が挙げられる。
上記式において、それぞれLnはランタノイドに属する少なくとも1種の元素を、Aは、Y,Ce、Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Na,Mg,Cu,Ag(銀),TlおよびBi(ビスマス)からなる群より選択される少なくとも1種の元素を表す。またzは、0<z<1である。
本発明において、シンチレータ層12は、1層からなっていてもよいし、2層以上からなっていてもよい。またシンチレータ層12のみからなるものであってもよく、あるいは、下地層とシンチレータ層とからなり、支持体11上に、下地層とシンチレータ層とがこの順で積層されている構造を有するものであってもよい。シンチレータ層12が下地層とシンチレータ層との2層を含む場合、これらの層は、蛍光体母材化合物が同じである限り、同じ材質からなるものであってもよく、あるいは異なる材質からなるものであってもよい。すなわち、シンチレータ層12は、全体が蛍光体母材のみからなる1層であってもよく、全体が蛍光体母材化合物と賦活剤とを含む1層であってもよく、蛍光体母材化合物のみからなる下地層と、蛍光体母材化合物と賦活剤とを含むシンチレータ層とからなるものであってもよく、蛍光体母材化合物と第1の賦活剤とを含む下地層と、蛍光体母材化合物と第2の賦活剤とを含むシンチレータ層とからなるものであってもよい。
本発明に係るシンチレータ層において、賦活剤の相対含有量は目的性能等に応じて、最適量にすることが望ましいが、シンチレータの含有量に対して、0.001mol%〜50mol%、更に0.1〜10.0mol%であることが好ましい。シンチレータに対して、賦活剤の濃度が0.001mol%以上であると、シンチレータを単独で使用した場合よりも発光輝度の向上がみられ、目的とする発光輝度を得る点で好ましい。また、50mol%以下であるとシンチレータ性質・機能を保持することができて好ましい。
下地層における賦活剤の相対含有量は0.01〜1モル%が好ましく、0.1〜0.7モル%が更に好ましい。特に、下地層の賦活剤の相対含有量が0.01モル%以上であることが、シンチレータパネル10の発光輝度向上及び保存性の点で非常に好ましい。また、下地層における賦活剤の相対含有量がシンチレータ層における相対含有量よりも低いことが非常に好ましく、シンチレータ層における賦活剤の相対含有量に対する下地層における賦活剤の相対含有量のモル比((下地層における賦活剤の相対含有量)/(シンチレータ層における相対含有量))は、0.1〜0.7であることが好ましい。
シンチレータ層を形成する方法としては、シンチレータ粉体を有機樹脂などと混合して出来る液体を塗布して塗布膜を形成する方法や、その液体や塗布膜を加工することで規則的な配列構造を有する膜を形成する方法、気相堆積法を用いて結晶膜を形成する方法などを用いることが可能である。その中でも特に、容易に蛍光体を柱状結晶構造に形成出来て、光ガイド効果により結晶内での発光光の散乱が抑えられ、蛍光体層の厚さを厚くすることが可能であることから、気層堆積法による結晶膜を形成する方法を用いることが好ましい。気相堆積法としては、加熱蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法その他を用いることができるが、特に加熱蒸着法が望ましい。
前記の気層堆積法を用いてシンチレータ層を形成する場合、シンチレータ材料として種々の物質を用いることが可能だが、特に、X線から可視光に対する変更率が比較的高いという特徴をもつヨウ化セシウム(CsI)を用いることが、特に好ましい。また、シンチレータにヨウ化セシウムを用いる場合、賦活剤としては、400nmから750nmまでの広い発光波長をもち、TFT等の光検出器部材にとって感度良く発光を検知できることから、タリウムを用いることがより好ましい。すなわち、タリウム賦活ヨウ化セシウム(CsI:Tl)を用いることが一層好ましい。
なお、シンチレータ層の厚さは、100〜800μmであることが好ましく、120〜700μmであることが、輝度と鮮鋭性の特性をバランスよく得られる点からより好ましい。下地層の層厚は、高輝度・鮮鋭性維持の面から、0.1μm〜50μmであることが好ましく、5μm〜40μmであることがより好ましい。
反射層13
反射層によりセンサーと逆方向の発光を反射することで、シンチレータでの発光が効率的にセンサーへ導かれ感度が向上する。
本発明では反射層が、少なくとも1種類以上の正反射層と、少なくとも1種類以上の拡散反射層とからなる。
反射層によりセンサーと逆方向の発光を反射することで、シンチレータでの発光が効率的にセンサーへ導かれ感度が向上する。
本発明では反射層が、少なくとも1種類以上の正反射層と、少なくとも1種類以上の拡散反射層とからなる。
通常光の反射には、入射された角度と同じ方向に跳ね返す正反射と、正反射以外にいろいろな方向へ拡散して反射する拡散反射とがある。本発明では正反射層で光を反射するとともに、反射光の横方向への伝播を拡散反射層によって抑制して、シンチレータへ戻すことで発光を有効利用している。
このような構成を採用することで、光の有効量が増加するために、輝度が向上するとともに、拡散光もシンチレータ層に戻しているため、光の利用効率が高く、画像ボケが抑制され、解像度(MTF)が向上し、病状の診断に適する程度に画質を改善できる。
正反射層と拡散反射層とは、必ずしも連続的に積層する必要はなく、各反射層の間に、密着層や保護層、熱吸収層、熱拡散層、化学結合層などが形成されていてもよいが、正反射層で反射した光がロスすることなく拡散反射層で効果的に屈折することが望ましいため、反射層内で連続的に正反射層と拡散反射層とが積層されたものが好ましい。また積層の順番は制限されず、また各反射層の層数も特に制限されないが、正反射光とシンチレータ層の間で光屈折を起こすことが、MTF向上に最も効果的であるため、拡散反射層が、正反射層とシンチレータ層の間に存在することがより好ましい。
・正反射層
正反射層は光の反射率の高い材料からなるものが好ましく、通常、金属反射層により構成される。かかる金属反射層を形成しうる金属材料として、具体的には、アルミニウム、銀、白金、パラジウム、金、銅、鉄、ニッケル、クロム、コバルト、ステンレス等の金属材料を含有していることが好ましい。中でも反射率の観点から銀もしくはアルミニウムを主成分としていることが特に好ましい。ここで、金属反射層を構成する金属材料は、本発明の典型的な態様において、金属単体あるいはその合金の形態を有している。
正反射層は光の反射率の高い材料からなるものが好ましく、通常、金属反射層により構成される。かかる金属反射層を形成しうる金属材料として、具体的には、アルミニウム、銀、白金、パラジウム、金、銅、鉄、ニッケル、クロム、コバルト、ステンレス等の金属材料を含有していることが好ましい。中でも反射率の観点から銀もしくはアルミニウムを主成分としていることが特に好ましい。ここで、金属反射層を構成する金属材料は、本発明の典型的な態様において、金属単体あるいはその合金の形態を有している。
ただ、光の散乱が大きくならない限りにおいては、必ずしも金属単体やその合金の形態を有するものに限られず、対応する金属酸化物の形態であってもよい。この場合は、金属酸化物による薄膜を複数積層させて反射機能を持たせる、いわゆる誘電体多層膜などを想定することができる。このような誘電体多層膜に用いられる金属酸化物の好適な例として、酸化アルミニウム(Al2O3)、酸化チタン(TiO2)、酸化ケイ素(SiO2)、酸化ニオブ(Nb2O5)、酸化タンタル(Ta2O5)などが挙げられる。
金属反射層を支持体表面に設ける方法としては、蒸着、スパッタなど既知のプロセスを用いる方法や、アルミニウムなどの金属を薄膜化しておき、後で貼付することが可能である。また金属箔は接着剤を介して圧着させることも可能であるが、接着剤が介在すると、光吸収が生じて、光量が少なくなることがある。このような観点から、スパッタが好ましい。なお、支持体側に光検出器が存在する形態を取る場合は、シンチレータ層を挟んで支持体と反対側に金属反射層を設けることも可能であり、その場合は、薄膜化した金属を貼付する方が、蒸着、スパッタによる膜の様な、シンチレータ層の凹凸に追従してクラックが入りやすい膜にならずに済むため、特に好ましい。
・拡散反射層
本発明では、拡散反射層として、光屈折作用を有するSiO2、TiO2等の金属酸化物や、空隙などを含む反射層が設けられる。これらは光屈折作用を有する添加物が含まれていれば良いが、正反射層とシンチレータ層を接着する作用も持たせることを目的として、バインダー樹脂と、光散乱粒子または空隙の少なくとも一方とから構成される拡散反射層が望ましく、その一態様として、塗布型反射層を挙げることができる。
本発明では、拡散反射層として、光屈折作用を有するSiO2、TiO2等の金属酸化物や、空隙などを含む反射層が設けられる。これらは光屈折作用を有する添加物が含まれていれば良いが、正反射層とシンチレータ層を接着する作用も持たせることを目的として、バインダー樹脂と、光散乱粒子または空隙の少なくとも一方とから構成される拡散反射層が望ましく、その一態様として、塗布型反射層を挙げることができる。
バインダー樹脂としては、易接着性のポリマー、例えば、ポリウレタン、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、セルロース誘導体(ニトロセルロース等)、スチレン−ブタジエン共重合体、各種の合成ゴム系樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、尿素ホルムアミド樹脂等が挙げられる。
なかでもポリウレタン、ポリエステル、シリコーン樹脂、アクリル樹脂又はポリビニルブチラールを使用することが好ましい。また、これらのバインダーは2種以上を混合して使用することもできる。
光散乱粒子としては、白色顔料からなるものが、光の屈折という点で好ましい。
光散乱粒子としては、白色顔料からなるものが、光の屈折という点で好ましい。
白色顔料としては、例えば、TiO2(アナターゼ型、ルチル型)、MgO、PbCO3・Pb(OH)2、BaSO4、Al2O3、M(II)FX(但し、M(II)はBa、Sr及びCaの各原子から選ばれる少なくとも一種の原子であり、XはCl原子又はBr原子である。)、CaCO3、ZnO、Sb2O3、SiO2、ZrO2、リトポン(BaSO4・ZnS)、珪酸マグネシウム、塩基性珪硫酸塩、塩基性燐酸鉛、珪酸アルミニウム等を使用することができる。これらの白色顔料は単独で用いてもよいし、あるいは組み合わせて用いてもよい。
これらの白色顔料のうちTiO2、Al2O3などは隠蔽力が強く、屈折率が大きい。このため、拡散光を反射し、屈折させることで、散乱光が横方向に伝播する前に、シンチレータ層へ戻すことができる。その結果、得られる輝度を上げることができるばかりか、画像ボケの原因であった、拡散光を有効にシンチレータ層に戻すことが可能となり、画質を顕著に向上させることができる。
酸化チタンの結晶構造としては、ルチル型、アナターゼ型どちらでも使用できるが、樹脂との屈折率差が大きく、高輝度を達成できる点からルチル型が好ましい。
酸化チタンとしては、具体的には、例えば塩酸法で製造されたCR−50,CR−50−2,CR−57,CR−80,CR−90,CR−93,CR−95,CR−97,CR−60−2,CR−63,CR−67,CR−58,CR−58−2,CR−85,硫酸法で製造されたR−820,R−830,R−930,R−550,R−630,R−680,R−670,R−580,R−780,R−780−2,R−850,R−855,A−100,A−220,W−10(以上商品名:石原産業(株)製)などが挙げられる。
酸化チタンとしては、具体的には、例えば塩酸法で製造されたCR−50,CR−50−2,CR−57,CR−80,CR−90,CR−93,CR−95,CR−97,CR−60−2,CR−63,CR−67,CR−58,CR−58−2,CR−85,硫酸法で製造されたR−820,R−830,R−930,R−550,R−630,R−680,R−670,R−580,R−780,R−780−2,R−850,R−855,A−100,A−220,W−10(以上商品名:石原産業(株)製)などが挙げられる。
光散乱粒子の一次粒径は0.1〜0.5μmの範囲内が好ましく、さらに0.2〜0.3μmの範囲内がさらに好ましい。また、光散乱粒子は、ポリマーとの親和性、分散性を向上させるためやポリマーの劣化を抑えるためのAl、Si、Zr、Znなどの酸化物で表面処理されたものが特に好ましい。
また上記光散乱粒子の代わりに、拡散反射層は空隙を含むものでもよい。空隙でも同様に光が屈折するため、光散乱粒子と同様にシンチレータ層への拡散反射光の戻りを多くすることができる。
内部に空隙を形成する手段としては、例えば発泡剤による方法や、ガスを注入しておいて低圧化させる方法、延伸による方法など様々な方法、があるが、発泡剤により空隙を形成すると、内部空隙は球状もしく楕円球状となり、微細な空隙を均一に多数形成することが可能であるため、発泡剤で空隙を形成する方法がより望ましい。
発泡剤としては、化学発泡剤、物理的発泡剤のいずれも使用可能であり、両者を併用することも可能である。
化学発泡剤としては、加熱分解型発泡剤が好ましく、無機系化学発泡剤および有機系化学発泡剤のいずれも使用可能である。
化学発泡剤としては、加熱分解型発泡剤が好ましく、無機系化学発泡剤および有機系化学発泡剤のいずれも使用可能である。
化学発泡剤としては、無機系発泡剤として、例えば重炭酸ナトリウム、炭酸アンモニウムなどの炭酸塩を挙げることができる。また、有機系発泡剤として、例えばアゾ化合物(例えばアゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロジニトリル、アゾジアミノベンゼン、アゾヘキサヒドロベンゾニトリル、バリウムアゾジカルボキシレート等)、ニトロソ化合物(例えばN,N'−ジニトロソペンタメチレンテトラミン、N,N'−ジニトロソ−N,N'−ジメチルテレフタルアミド、t−ブチルアミノニトリル等)、ヒドラジド化合物[例えばp−トルエンスルホニルヒドラジド、p,p'−オキシビス(ベンゼンスルホニルヒドラジド)等]、ヒドラゾン化合物(例えばp−トルエンスルホニルアセトンヒドラゾン等)などを挙げることができる。これらのうちの1種または2種以上を併用して使用することができる。
ベース樹脂(前記バインダー樹脂)が溶融しないうちに発泡剤が発泡してガスが抜けてしまう可能性があるので、ベース樹脂が溶融してから発泡剤が分解するように、無機系化学発泡剤としては、少なくともベース樹脂の加工温度よりも高い分解温度を有する無機系化学発泡剤を使用若しくは併用することが好ましい。
物理的発泡剤としては、不活性ガスまたは不活性気体よりなる発泡剤が好ましい。具体的には、例えばブタン、ペンタン、ヘキサン、プロパン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロブタンなどの脂環式炭化水素類、ジクロロジフルオロメタン、ジクロロフルオロメタン、トリクロロフルオロメタン、クロロメタン、ジクロロメタン、クロロエタン、ジクロロテトラフルオロエタン、トリクロロトリフルオロエタン、パーフルオロシクロブタン等のハロゲン化炭化水素類等の1種または2種以上があげられる。また、水、二酸化炭素、加圧空気等の無機系化合物類を挙げることもできる。
更に、上記光散乱粒子の代わりに、拡散反射層は、バインダー樹脂と屈折率の異なるガラスビーズ、樹脂ビーズを含むものでもよい。これらのビーズでも、バインダー樹脂との界面で光が屈折するため、光散乱粒子と同様にシンチレータ層への拡散反射光の戻りを多くすることができる。 また拡散反射層は、上記光散乱性粒子の代わりに、中空部が粒子内に存在する中空粒子、中空部が粒子内に多数存在する多中空粒子、多孔質粒子等を含むものでもよい。空隙でも同様に光が屈折するため、光散乱粒子と同様にシンチレータ層への拡散反射光の戻りを多くすることができる。 これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは組み合わせて用いてもよい。
拡散反射層内部の光散乱粒子または空隙の含有量は、拡散反射層の体積あたりに、2vol%以上、80vol%以下であることが好ましい。光散乱粒子または空隙の含有率が少ないと、光の反射効果が十分となり、そのまま横方向へ流れる光が増え、多すぎると、光が迷光となり、十分に反射されないことがある上に、反射層の機械的強度が弱くなり、クラックが発生しやすいなど金属反射層の機能を阻害することもある。
拡散反射層に塗布型反射層を用いた場合、光散乱粒子とバインダー樹脂との間に屈折率差があれば、光の屈折は起きるため、反射層として機能するが、特に屈折率差が0.1以上であることが望ましい。屈折率差が0.1以下であれば、光の屈折効果が小さい為に拡散反射層の厚みを増やす必要が生じるため、光の屈折によるメリットよりも、屈折の際の光ロスによるデメリットの方が大きくなってしまう。
また、拡散反射層には硬膜剤が含まれていても良い。硬膜剤が含まれることにより、気相堆積法によるシンチレータ積層時の熱による変形、クラックを防ぐ事ができる。また、塗布によるシンチレータ積層時には、溶剤による膨潤や部分的溶解を防ぎ、それに続く乾燥・収縮によるシンチレータ層のムラやクラックを防ぐ事が出来る。本発明に係る拡散反射層で用いることのできる硬膜剤としては、特に制限はなく、例えば、多官能イソシアネート化合物及びその誘導体、メラミン及びその誘導体、アミノ樹脂及びその誘導体等を挙げることができるが、硬膜剤として多官能イソシアネート化合物を用いることが好ましく、例えば、東ソー社製のコロネートHX、コロネート3041、コロネート2030等が挙げられる。硬膜剤の使用量は、樹脂に対して50質量%以下の比率で添加することが好ましく、特に5〜40質量%が好ましい。
本発明において拡散反射層は、少なくとも光散乱粒子ないし発泡剤、バインダー樹脂、溶剤を含有する組成物を、塗布、乾燥して形成することができる。塗布方式については、特に制約は無いが、例えば、グラビア、ダイ、コンマ、バー、ディップ、スプレー、スピン等の一般的な方式を用いることができる。また、拡散反射層は、ロール・ツー・ロール(roll to roll)で加工することも可能であり、煩雑な生産工程の必要がない。
拡散反射層作製に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノールなどの低級アルコール、メチレンクロライド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、キシレンなどの芳香族化合物、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アルコールとのエステル、ジオキサン、エチレングリコールモノエチルエステル、エチレングリコールモノメチルエステル、メトキシプロパノールプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエーテル及びそれらの混合物を挙げることができる。
光散乱粒子や空隙の分散性を向上させるために分散剤を使用しても良い。分散剤としては、例えば、多価アルコール、アミン類、シリコーン、あるいは界面活性剤を用いることができる。
拡散反射層の層厚は、10μm以下であることが好ましい。反射層の層厚が10μm以下であれば、拡散反射層内で過度に光屈折が起こることなく、屈折の際の光ロスの度合いを抑制出来る。
金属反射層の様な正反射層は反射率が高いものの、蛍光体による腐食などの影響から、樹脂層による保護が必要となるが、その樹脂層によって光のロスが発生しやすく、また正反射層を金属で蒸着させて形成した場合、ピンホールが発生するという問題点があった。一方、塗布型反射層は、ピンホールなどの発生はないものの、反射率が劣るという欠点があった。
本発明のように、金属反射層と拡散反射層とを組み合わせる構成を採用することで、ピンホールを抑制しつつ反射率を向上できる。さらに、この構成を採用することで、金属反射層で反射した光のうち、正反射以外の散乱した拡散光を、横に逃がすことなく拡散反射層によって、屈折させてシンチレータ層内に戻せる。また、拡散反射層によってシンチレータ層へ戻る光は、戻る時の横方向の位置ずれも小さいので、より光のロスを少なくできる。これにより、画像のボケが抑制されて、解像度を高くすることが改善される。
前記反射層において、正反射光を含む反射光強度をSCI、正反射光を含まない反射光強度をSCEとおいた場合、
(SCE)/(SCI) ≧ 0.3
を満足することが好ましく、更には
(SCE)/(SCI) ≧ 0.8
を満足することが、より好ましい。前記反射層に含まれる拡散反射層の光散乱粒子含有量が増加すると、(SCE)/(SCI)及びMTFが向上することが分かっているが、特に(SCE)/(SCI)が0.3以上になる条件では、MTFの向上度合いが急激に増加するため、画質向上にとって好ましい。また、(SCE)/(SCI)が0.8以上になる条件では、MTFの上昇が飽和し、最も高い値でほぼ固定化されることから、より好ましい。
(SCE)/(SCI) ≧ 0.3
を満足することが好ましく、更には
(SCE)/(SCI) ≧ 0.8
を満足することが、より好ましい。前記反射層に含まれる拡散反射層の光散乱粒子含有量が増加すると、(SCE)/(SCI)及びMTFが向上することが分かっているが、特に(SCE)/(SCI)が0.3以上になる条件では、MTFの向上度合いが急激に増加するため、画質向上にとって好ましい。また、(SCE)/(SCI)が0.8以上になる条件では、MTFの上昇が飽和し、最も高い値でほぼ固定化されることから、より好ましい。
このような関係を満足する反射層を形成すると、拡散反射光を多くシンチレータ層に戻すことができるので、画像の解像度や鮮鋭性を高くすることができる。なおこのような(SCE)/(SCI)比は、拡散反射層の構成を変えることで、所定の範囲に調整可能であり、たとえば、拡散反射層中の光散乱粒子や空隙量によって調整することが可能となる。
本発明では、このような(SCE)/(SCI)比を満たすような、拡散反射層内の光散乱粒子または空隙の含有量は、拡散反射層の体積あたり0.5vol%以上80vol%以下、より好ましくは2vol%以上80vol%以下であって、その比率で含有量を調節することで、きわめて臨界的に解像度や鮮鋭性を向上できる。
耐湿保護層
本発明にかかるシンチレータパネルは、前記構成に加えて、必要に応じて樹脂製支持体の反対側の表面上に耐湿保護層をさらに有していることも一つの態様である。耐湿保護層はさらに、シンチレータパネルの外周を覆うように設けられていてもよい。
本発明にかかるシンチレータパネルは、前記構成に加えて、必要に応じて樹脂製支持体の反対側の表面上に耐湿保護層をさらに有していることも一つの態様である。耐湿保護層はさらに、シンチレータパネルの外周を覆うように設けられていてもよい。
耐湿保護層はシンチレータパネル自体を防湿し、シンチレータ層中の蛍光体の劣化を抑制する役割を有する。
耐湿保護層には、透湿度の低い保護フィルム、ポリパラキシリレンのような蒸着膜として得られるフィルム等が挙げられる。
耐湿保護層には、透湿度の低い保護フィルム、ポリパラキシリレンのような蒸着膜として得られるフィルム等が挙げられる。
例えば、保護フィルムの場合、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムその他、ポリメタクリレートフィルム、ニトロセルロースフィルム、セルロースアセテートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等が挙げられる。また、必要とされる防湿性にあわせて、前記保護フィルムに金属酸化物等を蒸着した蒸着フィルムを複数枚積層させた構成を含むとすることもできる。この金属酸化物には、二酸化ケイ素(SiO2)、酸化アルミニウム(Al2O3)、ITO等が挙げられる。
ポリパラキシリレンなど耐湿保護層を形成する場合、シンチレータ層が形成された支持体をCVD装置の蒸着室に入れ、ジパラキシリレンが昇華した蒸気中に露出させておくことにより、シンチレータ層と支持体の全表面がポリパラキシリレン膜で被覆されたシンチレータパネルを得ることができる。
[放射線検出器]
本発明に係る放射線検出器は、上記シンチレータパネルと、シンチレータ層をはさんで、反射層と対向する位置に光検出器を設けることを特徴とする。
本発明に係る放射線検出器は、上記シンチレータパネルと、シンチレータ層をはさんで、反射層と対向する位置に光検出器を設けることを特徴とする。
本発明に係る放射線画像器は、光検出器とシンチレータパネルとを組み合わせることによって、電気信号の形で画像データを取り出すものである。かかる放射線検出器の概略を図2に示す。図2中の放射線検出器10は、光検出器14と組み合わせることによって、電気信号の形で画像データを取り出すものである。
光検出器14
光検出器は、蛍光体で発生した発光を吸収して、電荷の形に変換することで電気信号に変換して、放射線検出器の外部に出力する役割を有しており、従来公知のものを用いることができる。
光検出器は、蛍光体で発生した発光を吸収して、電荷の形に変換することで電気信号に変換して、放射線検出器の外部に出力する役割を有しており、従来公知のものを用いることができる。
ここで、本発明で用いられる光検出器の構成は特に制限はないものの、通常、基板と、画像信号出力層と、光電変換素子とがこの順で積層された形態を有している。
このうち、光電変換素子は、蛍光体層で発生した光を吸収して、電荷の形に変換する機能を有している。ここで、光電変換素子は、そのような機能を有する限り、どのような具体的な構造を有していてもよい。例えば、本発明で用いられる光電変換素子は、透明電極と、入光した光により励起されて電荷を発生する電荷発生層と、対電極とからなるものとすることができる。これら透明電極、電荷発生層および対電極は、いずれも、従来公知のものを用いることができる。また、本発明で用いられる光電変換素子は、適当なフォトセンサーから構成されていても良く、例えば、複数のフォトダイオードを2次元的に配置してなるものであってもよく、あるいは、CCD(Charge Coupled Devices)、CMOS(Complementary metal-oxide-semiconductor)センサーなどの2次元的なフォトセンサーからなるものであっても良い。
このうち、光電変換素子は、蛍光体層で発生した光を吸収して、電荷の形に変換する機能を有している。ここで、光電変換素子は、そのような機能を有する限り、どのような具体的な構造を有していてもよい。例えば、本発明で用いられる光電変換素子は、透明電極と、入光した光により励起されて電荷を発生する電荷発生層と、対電極とからなるものとすることができる。これら透明電極、電荷発生層および対電極は、いずれも、従来公知のものを用いることができる。また、本発明で用いられる光電変換素子は、適当なフォトセンサーから構成されていても良く、例えば、複数のフォトダイオードを2次元的に配置してなるものであってもよく、あるいは、CCD(Charge Coupled Devices)、CMOS(Complementary metal-oxide-semiconductor)センサーなどの2次元的なフォトセンサーからなるものであっても良い。
また、画像信号出力層は、上記光電変換素子で得られた電荷を蓄積するとともに、蓄積された電荷に基づく信号の出力を行う機能を有する。ここで、画像信号出力層は、どのような具体的な構造を有していてもよく、例えば、光電変換素子で生成された電荷を画素毎に蓄積する電荷蓄積素子であるコンデンサと、蓄積された電荷を信号として出力する画像信号出力素子であるトランジスタとを用いて構成することができる。ここで、好ましいトランジスタの例として、TFT(薄膜トランジスタ)が挙げられる。
光学結合層15
本発明の放射線検出器は、シンチレータパネルと光検出器とを密接に貼り合わせるための光学結合層15を有している。
本発明の放射線検出器は、シンチレータパネルと光検出器とを密接に貼り合わせるための光学結合層15を有している。
光学結合層は、その屈折率nが、シンチレータ層の柱状結晶の屈折率nと光電変換素子パネルの最表層の屈折率nのうち、小さい方の屈折率以上、かつ大きい方の屈折率以下の屈折率となるように形成されていることが望ましい。その様な屈折率の関係にすることで、シンチレータ層から発する光の屈折が起こりにくくなり、より病状の診断にとって好ましい画像が得られるようになる。
シンチレータ層の柱状結晶としてCsI:Tlが用いられる場合、その屈折率nは約1.8である。また、光電変換素子パネルの最表層を形成するアクリル樹脂の屈折率nは約1.5である。このため、光学結合層は、その屈折率nが1.5〜1.8の範囲になるように形成されている。屈折率はフィラーを混合することで調整することが望ましい。
光学結合層は、放射線の照射によりシンチレータ層で発光した光が光学結合層や光電変換素子パネルの最表層を介して光電変換素子に到達するようにするために透明であり、光の透過率が90%以上の高透過率であることが好ましい。
なお、光学結合層を形成する樹脂が、例えば、硬化する際に収縮し易いものであったり、温度が高くなると膨張し易いものであるような場合、光学結合層が収縮したり膨張したりする際に、シンチレータ層の柱状結晶に対して面方向に力が加わる状態になる。そして、その力によって柱状結晶が破壊されてしまう可能性が生じる。そこで、光学結合層を形成する樹脂としては、硬化収縮率や線膨張係数が低いものを用いることが好ましい。
また、光学結合層の厚さは、蛍光体層からの発光を拡散させないためには薄くする必要があり、好ましくは50am以下が好適であるが、より好ましくは30μm以下である。
光学結合層を構成する成分としては、本発明の目的を損なわない限り特に制限はないが、熱硬化樹脂、ホットメルトシート、感圧性接着シートが好ましい。
光学結合層を構成する成分としては、本発明の目的を損なわない限り特に制限はないが、熱硬化樹脂、ホットメルトシート、感圧性接着シートが好ましい。
熱硬化樹脂としては、例えば、アクリル系やエポキシ系、シリコーン系等を主成分とする樹脂が挙げられる。なかでもアクリル系及びシリコーン系等を主成分とする樹脂が低温熱硬化の観点より好ましい。市販品では、例えば、東レダウコーニング(株)製 メチルシリコーン系 JCR6122等が挙げられる。
光学結合層は、熱硬化樹脂の場合、シンチレータ層又は光電変換素子の上にスピンコート、スクリーン印刷、及びディスペンサー等の手法により、塗布される。
また、光学結合層はホットメルトシートであってもよい。本発明におけるホットメルトシートとは、水や溶剤を含まず、室温では固形であり、不揮発性の熱可塑性材料からなる接着性樹脂(以下、ホットメルト樹脂)をシート状に成形したものである。被着体の間にホットメルトシートを挿入し、融点以上の温度でホットメルトシートを溶融後、融点以下の温度で固化させることにより、ホットメルトシートを介して被着体同士を接合する事が出来る。ホットメルト樹脂は極性溶媒、溶剤、および水を含んでいないため、潮解性を有する蛍光体層(例えば、ハロゲン化アルカリからなる柱状結晶構造を有する蛍光体層)に接触しても蛍光体層を潮解させないため、光電変換素子と蛍光体層の接合に適している。
また、光学結合層はホットメルトシートであってもよい。本発明におけるホットメルトシートとは、水や溶剤を含まず、室温では固形であり、不揮発性の熱可塑性材料からなる接着性樹脂(以下、ホットメルト樹脂)をシート状に成形したものである。被着体の間にホットメルトシートを挿入し、融点以上の温度でホットメルトシートを溶融後、融点以下の温度で固化させることにより、ホットメルトシートを介して被着体同士を接合する事が出来る。ホットメルト樹脂は極性溶媒、溶剤、および水を含んでいないため、潮解性を有する蛍光体層(例えば、ハロゲン化アルカリからなる柱状結晶構造を有する蛍光体層)に接触しても蛍光体層を潮解させないため、光電変換素子と蛍光体層の接合に適している。
また、ホットメルトシートは残留揮発物を含んでいないことで、乾燥による収縮が小さく、間隙充填性や寸法安定性にも優れている。
ホットメルトシートとしては、具体的には主成分により、例えばポリオレフィン系、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリウレタン系、アクリル系、EVA系等の樹脂をベースにしたものが挙げられる。なかでも光透過性、接着性の観点から、ポリオレフィン系、EVA系、アクリル系樹脂をベースにしたものが好ましい。
ホットメルトシートとしては、具体的には主成分により、例えばポリオレフィン系、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリウレタン系、アクリル系、EVA系等の樹脂をベースにしたものが挙げられる。なかでも光透過性、接着性の観点から、ポリオレフィン系、EVA系、アクリル系樹脂をベースにしたものが好ましい。
光学結合層は、感圧性接着シートからなるものであってもよい。感圧性接着シートとしては、具体的には、アクリル系、ウレタン系、ゴム系及びシリコーン系等を主成分としたものが挙げられる。なかでも光透過性、接着性の観点から、アクリル系及びシリコーン系等を主成分としたものが好ましい。
ホットメルトシートの場合、シンチレータ層と光電変換素子の間にホットメルトシートを挿入し、減圧下で、加熱することによって、光学結合層が形成される。
感圧性接着シートは、ラミネーション装置等により貼り合せる。
本発明の放射線検出器は、種々の態様のX線画像撮影システムに応用することができる。
感圧性接着シートは、ラミネーション装置等により貼り合せる。
本発明の放射線検出器は、種々の態様のX線画像撮影システムに応用することができる。
以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明は、これに限定されるものではない。
[評価例]
支持体として、厚さ125μmのポリイミドフィルム(宇部興産(株)製UPILEX−125S)を用いた。かかる支持体上に、膜厚が1,000Å(=100nm)となるように銀をスパッタした。
[評価例]
支持体として、厚さ125μmのポリイミドフィルム(宇部興産(株)製UPILEX−125S)を用いた。かかる支持体上に、膜厚が1,000Å(=100nm)となるように銀をスパッタした。
銀からなる金属反射層を形成したのち、以下に示す反射層用塗料を塗布して、塗布型反射層からなる拡散反射層を形成した。
反射層を形成した支持体に対して真空下で特開2015-021886号公報に記載の条件でCsI蛍光体を蒸着した。CsIの膜厚は200μmとなったところで蒸着を終了した。これによりシンチレータを作製した。
反射層を形成した支持体に対して真空下で特開2015-021886号公報に記載の条件でCsI蛍光体を蒸着した。CsIの膜厚は200μmとなったところで蒸着を終了した。これによりシンチレータを作製した。
反射層用塗料
平均粒径0.2μmのルチル型二酸化チタン、ポリエステル樹脂(バイロン630:東洋紡製)、ポリイソシアネート系硬膜剤(コロネート2030:東ソー製)、溶剤としてトルエンとメチルエチルケトンを、それぞれ表1の量で添加した後、サンドミルにて分散して反射層用塗料(1〜15)を作製した。この反射層用塗料をポリイミドフィルム支持体上に塗工、乾燥し、層厚3μmの反射層を塗設し、拡散反射層を形成した。
平均粒径0.2μmのルチル型二酸化チタン、ポリエステル樹脂(バイロン630:東洋紡製)、ポリイソシアネート系硬膜剤(コロネート2030:東ソー製)、溶剤としてトルエンとメチルエチルケトンを、それぞれ表1の量で添加した後、サンドミルにて分散して反射層用塗料(1〜15)を作製した。この反射層用塗料をポリイミドフィルム支持体上に塗工、乾燥し、層厚3μmの反射層を塗設し、拡散反射層を形成した。
放射線検出器の作製
上記シンチレータパネルを、光学結合層を介してPaxScan(バリアン(株)製FPD:2520)表面の光電変換素子に貼り合わせた(評価例1〜15)。
上記シンチレータパネルを、光学結合層を介してPaxScan(バリアン(株)製FPD:2520)表面の光電変換素子に貼り合わせた(評価例1〜15)。
反射率評価
反射層全面の反射率をコニカミノルタ製グロスメーターGM−268で測定して、SCIとSCEを評価し、その比を求めた。
反射層全面の反射率をコニカミノルタ製グロスメーターGM−268で測定して、SCIとSCEを評価し、その比を求めた。
鮮鋭性の評価
鉛製のMTFチャートを通して管電圧40kVpのX線を放射線画像検出器の放射線入射面側に照射し、画像データを検出しハードディスクに記録した。その後、ハードディスク上の記録をコンピュータで分析して当該ハードディスクに記録されたX線像の変調伝達関数MTF(空間周波数1サイクル/mmにおけるMTF値)を鮮鋭性の指標とした。表中MTF値が高いほど鮮鋭性に優れていることを示す。MTFはModulation Transfer Functionの略号である。
M3値は、鉛スリット法による鮮鋭度M3値(0.5、1.0、1.5Line/mmの鮮鋭度の和を100倍したもの)である。
鉛製のMTFチャートを通して管電圧40kVpのX線を放射線画像検出器の放射線入射面側に照射し、画像データを検出しハードディスクに記録した。その後、ハードディスク上の記録をコンピュータで分析して当該ハードディスクに記録されたX線像の変調伝達関数MTF(空間周波数1サイクル/mmにおけるMTF値)を鮮鋭性の指標とした。表中MTF値が高いほど鮮鋭性に優れていることを示す。MTFはModulation Transfer Functionの略号である。
M3値は、鉛スリット法による鮮鋭度M3値(0.5、1.0、1.5Line/mmの鮮鋭度の和を100倍したもの)である。
また、拡散反射層のクラックの発生について、目視で観察した。
結果を表2および図3に合わせて示す。なお、図3の縦軸に記載した「SCE/SCIの百分率」は、表2に記載の(SCE/SCI)を百分率表記したものであることに注意されたい。
結果を表2および図3に合わせて示す。なお、図3の縦軸に記載した「SCE/SCIの百分率」は、表2に記載の(SCE/SCI)を百分率表記したものであることに注意されたい。
金属反射層と共に、2vol%以上の所定量の光散乱粒子ないし空隙を含む拡散反射層が形成され、かつ反射層の0.8以上のSCE/SCIを有すると、図3および図3を横軸を対数表記した図4に示されるように、反射率が高いだけでなく、MTFが170程度で高止まりする。これは画質が臨界的に向上していることを示している。すなわち画像ボケがなく、鮮鋭性が高い放射線検出器が得られる。
11 支持体
12 シンチレータ層
13 反射層
14 放射線検出器
15 光学結合層
12 シンチレータ層
13 反射層
14 放射線検出器
15 光学結合層
Claims (11)
- 少なくとも、シンチレータ層、反射層、および樹脂製支持体が、この順序で積層されている構造を含むシンチレータパネルにおいて、
反射層が、少なくとも1種類以上の正反射層と、少なくとも1種類以上の拡散反射層とからなることを特徴とするシンチレータパネル。 - 前記拡散反射層が、正反射層とシンチレータ層の間に存在することを特徴とする請求項1に記載のシンチレータパネル。
- 前記反射層において、正反射光を含む反射光強度をSCI、正反射光を含まない反射光強度をSCEとおいた場合、
(SCE)/(SCI) ≧ 0.3
を満足することを特徴とする請求項1または2に記載のシンチレータパネル。 - 前記反射層において、正反射光を含む反射光強度をSCI、正反射光を含まない反射光強度をSCEとおいた場合、
(SCE)/(SCI) ≧ 0.8
を満足することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のシンチレータパネル。 - 前記拡散反射層が、少なくとも、バインダー樹脂と、光散乱粒子または空隙の少なくともいずれか一方とを含有し、光散乱粒子または空隙の含有量が2vol%以上80vol%以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のシンチレータパネル。
- 前記光散乱粒子が白色顔料であることを特徴とする請求項5に記載のシンチレータパネル。
- 前記正反射層が金属からなるものであることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のシンチレータパネル。
- 前記光散乱粒子とバインダー樹脂との屈折率差が、0.1以上であることを特徴とする請求項5または6に記載のシンチレータパネル。
- 前記シンチレータ層の厚みが、100μm以上800μm以下であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のシンチレータパネル。
- 前記シンチレータ層の、少なくとも前記樹脂製支持体と反対側の表面上に、耐湿保護層が載置されていることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載のシンチレータパネル。
- 前記請求項1〜10のいずれか1項に記載のシンチレータパネルと、
シンチレータ層をはさんで、反射層と対向する位置に光検出器を設けることを特徴とする、放射線検出器。
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