JP3269802B2 - 放射線像変換パネル - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、輝尽性蛍光体を利
用する放射線像記録再生方法に用いられる放射線像変換
パネルに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の放射線写真法に代わる方法とし
て、輝尽性蛍光体を用いる放射線像記録再生方法が知ら
れている。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線
像変換パネル（蓄積性蛍光体シート）を利用するもの
で、被写体を透過した、あるいは被検体から発せられた
放射線を該パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、その後に
輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線などの電磁波（励起
光）で時系列的に励起することにより、該輝尽性蛍光体
中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発光
光）として放出させ、この蛍光を光電的に読み取って電
気信号を得て、得られた電気信号に基づいて被写体ある
いは被検体の放射線画像を可視像として再生するもので
ある。読み取りを終えた該パネルは、残存する画像の消
去が行われた後、次の撮影のために備えられる。すなわ
ち、放射線像変換パネルは繰り返し使用される。

【０００３】この放射線像記録再生方法では、放射線写
真フィルムと増感紙との組合せを用いる従来の放射線写
真法の場合に比べて、はるかに少ない被曝線量で情報量
の豊富な放射線画像を得ることができるという利点があ
る。さらに、従来の放射線写真法では一回の撮影ごとに
放射線写真フィルムを消費するのに対して、この放射線
像記録再生方法では放射線像変換パネルを繰り返し使用
するので、資源保護、経済効率の面からも有利である。

【０００４】放射線像記録再生方法に用いられる放射線
像変換パネルは、基本構造として、支持体とその表面に
設けられた輝尽性蛍光体層とからなるものである。ただ
し、蛍光体層が自己支持性である場合には必ずしも支持
体を必要としない。

【０００５】輝尽性蛍光体層は、通常は輝尽性蛍光体と
これを分散状態で含有支持する結合剤とからなる。ただ
し、輝尽性蛍光体層としては、蒸着法や焼結法によって
形成される結合剤を含まないで輝尽性蛍光体の凝集体の
みから構成されるものも知られている。また、輝尽性蛍
光体の凝集体の間隙に高分子物質が含浸されている輝尽
性蛍光体層を有する放射線像変換パネルも知られてい
る。これらのいずれの蛍光体層でも、輝尽性蛍光体はＸ
線などの放射線を吸収したのち励起光の照射を受けると
輝尽発光を示す性質を有するものであるから、被写体を
透過したあるいは被検体から発せられた放射線は、その
放射線量に比例して放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体
層に吸収され、パネルには被写体あるいは被検体の放射
線像が放射線エネルギーの蓄積像として形成される。こ
の蓄積像は、上記励起光を照射することにより輝尽発光
光として放出させることができ、この輝尽発光光を光電
的に読み取って電気信号に変換することにより、放射線
エネルギーの蓄積像を画像化することが可能となる。

【０００６】輝尽性蛍光体層の表面（支持体に面してい
ない側の表面）には通常、保護膜が設けられていて、蛍
光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護し
ている。この保護膜としては、セルロース誘導体やポリ
メチルメタクリレートなどのような透明な有機高分子物
質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の上
に塗布することで形成されたもの、あるいはポリエチレ
ンテレフタレートなどの有機高分子フィルムや透明なガ
ラス板などの保護膜形成用シートを別に形成して、これ
を蛍光体層の表面に適当な接着剤を用いて設けたもの、
あるいは無機化合物を蒸着などによって蛍光体層上に成
膜したものなどが知られている。

【０００７】これまでに、放射線像変換パネルによって
得られる画像の画質を改善するために、保護膜のヘイズ
度を規定したパネルが提案されている（特開昭６２−２
４７２９８号公報）。また、本出願人は放射線像変換パ
ネルの防傷性や感度、更には画質を改善するために、保
護膜として、プラスチックフィルムと光散乱性微粒子を
含有するフッ素系樹脂組成物塗布層とからなる積層体を
用いたパネルについて既に出願している（特願平９−９
８０８１号）。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】放射線像記録再生方法
は上述したように数々の優れた利点を有する方法である
が、この方法に用いられる放射線像変換パネルにあって
も、できる限り高感度であってかつ画質（鮮鋭度、粒状
性など）の良好な画像を与えるものであることが望まれ
ている。

【０００９】また、この方法の実施において放射線像変
換パネルは、放射線の照射（放射線像の記録）・励起光
の照射（記録された放射線像の読取り）・消去光の照射
（残存する放射線像の消去）というサイクルで繰り返し
使用される。そして放射線像変換パネルの各ステップへ
の移行はベルト、ローラ等の搬送手段により行われ、一
サイクル終了後パネルは通常積層して保存される。この
ような繰り返しの使用によって励起光照射側のパネル表
面（すなわち、保護膜表面）に汚れや擦り傷が発生する
と、得られる放射線画像の画質の低下を招くことから、
パネル表面は繰り返し搬送されてもできる限り汚れや擦
り傷が生じにくく、耐久性が高いことが要求されてい
る。

【００１０】従来より、放射線像変換パネルにより得ら
れる画像の鮮鋭度は保護膜の膜厚が薄ければ薄いほど高
くなると考えられていた。一方、保護膜の膜厚が薄い
と、繰り返しの搬送により保護膜表面に擦り傷や亀裂な
どが生じ易くなって耐久性が低下しがちである。そこ
で、保護膜の膜厚をできるだけ薄くして鮮鋭度の低下を
抑制しながら、かつ防傷性や搬送耐久性など保護膜とし
て必要な機能を有するように、保護膜材料としてポリエ
チレンテレフタレートのような強度があって透明性が高
いものを用いたり、数種類の樹脂を組み合わせたり、あ
るいは保護膜自体を多層構成とすることが行われてい
る。しかしながら、これまでに研究され、開発されてき
た放射線像変換パネルの各種の保護膜はいずれもそれな
りに改良がなされているが、その改良の程度は充分とい
うことは言えない。

【００１１】従って、本発明は、高い搬送耐久性を有
し、また高い感度を維持しながら、鮮鋭度の向上した放
射線画像を形成することができる放射線像変換パネルを
提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者は、放射線像変
換パネルにより得られる放射線画像の鮮鋭度について研
究を重ねた結果、パネルの保護膜をある一定の程度で光
散乱性とすれば鮮鋭度が向上することを見い出した。よ
って、充分な搬送耐久性を有するように保護膜の膜厚を
厚くしても、鮮鋭度の高い放射線画像を得ることが可能
となり、本発明に到達したものである。

【００１３】本発明は、輝尽性蛍光体からなる蛍光体層
と、その上に設けられた保護膜とを有する放射線像変換
パネルにおいて、該輝尽性蛍光体の輝尽発光の主発光波
長における該保護膜の光散乱長が５〜８０μｍの範囲に
あることを特徴とする放射線像変換パネルにある。

【００１４】本発明で規定する保護膜の光散乱長は、光
が一回散乱するまでに直進する平均距離を表しており、
散乱長が短いほど光散乱性が高いことを意味する。この
光散乱長は、下記の方法によって測定した測定値から、
クベルカ・ムンク（Kubelka-Munk）の理論に基づく計算
方法により算出することができる。

【００１５】まず、測定対象の保護膜と同一の組成を持
ち、互いに膜厚が相違する三枚以上のフィルム試料を製
造する。次に、各々のフィルム試料の厚さ（μｍ）と拡
散透過率（％）とを測定する。この拡散透過率の測定
は、通常の分光光度計に積分球を付設した装置により測
定することができる。本発明における測定では、株式会
社日立製作所製のＵ−３２１０型自記分光光度計に１５
０φ積分球（１５０−０９０１）を付設して用いた。測
定波長は、保護膜を付設する対象の蛍光体層に含まれる
輝尽性蛍光体の輝尽発光の主発光ピーク波長と一致させ
る必要がある。

【００１６】上記の測定により得られたフィルムの厚さ
（μｍ）と拡散透過率（％）の測定値を、クベルカ・ム
ンクの理論式より導出される下記の式（Ａ）に導入す
る。下記の式（Ａ）は、例えば、「蛍光体ハンドブッ
ク」（蛍光体同学会編集、株式会社オーム社、１９８７
年刊行）の４０３頁の式５・１・１２〜５・１・１５か
ら拡散透過率Ｔ％の境界条件のもとに簡単に導くことが
できる。

【００１７】

【数１】 Ｔ／１００＝ ４β／［（１＋β）² ・ｅｘｐ（αｄ）−（１−β）² ・ｅｘｐ（−αｄ）］ ……… （Ａ）

【００１８】ただし、Ｔは拡散透過率（％）、ｄはフィ
ルム厚さ（μｍ）であり、αとβとはそれぞれ下記の式
で定義されるものである。

【００１９】

【数２】α＝［Ｋ・（Ｋ＋２Ｓ）］^1/2 β＝［Ｋ／（Ｋ＋２Ｓ）］^1/2

【００２０】そして、先に三枚以上のフィルム試料につ
いて測定したＴ（拡散透過率：％）とｄ（フィルム厚
さ：μｍ）のそれぞれを上記の式（Ａ）に導入する作業
によって、式（Ａ）に適合するＫとＳとを計算する。散
乱長（μｍ）は１／Ｓにより定義される値である。な
お、後述の吸収長（μｍ）は１／Ｋにより定義される。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の放射線像変換パ
ネルの好ましい態様を挙げる。 （１）保護膜の光散乱長が１０〜７０μｍの範囲にある
パネル。 （２）保護膜が光散乱性微粒子を分散状態で含有する樹
脂からなるパネル。 （３）光散乱性微粒子の屈折率が１．６以上であり、か
つ粒子径が０．１〜１．０μｍの範囲にあるパネル。

【００２２】（４）光散乱性微粒子の屈折率が１．９以
上であり、かつ粒子径が０．１〜０．５μｍの範囲にあ
るパネル。 （５）保護膜が光散乱性微粒子を０．５〜１０重量％の
範囲で含むパネル。 （６）保護膜の厚さが３．５〜１０μｍの範囲にあるパ
ネル。 （７）保護膜の樹脂がフッ素系樹脂であるパネル。 （８）保護膜が更に分散剤を含むパネル。

【００２３】次に、本発明の放射線像変換パネルを製造
する方法について詳細に述べる。支持体は、従来の放射
線像変換パネルの支持体として公知の材料から任意に選
ぶことができる。公知の放射線像変換パネルにおいて、
支持体と輝尽性蛍光体層の結合を強化するため、あるい
は放射線像変換パネルとしての感度もしくは画質（鮮鋭
度、粒状性）を向上させるために、蛍光体層が設けられ
る側の支持体表面にゼラチンなどの高分子物質を塗布し
て接着性付与層としたり、あるいは二酸化チタンなどの
光反射性物質からなる光反射層、もしくはカーボンブラ
ックなどの光吸収性物質からなる光吸収層などを設ける
ことが知られている。本発明で用いられる支持体につい
ても、これらの各種の層を設けることができ、それらの
構成は所望の放射線像変換パネルの目的、用途などに応
じて任意に選択することができる。さらに特開昭５８−
２００２００号公報に記載されているように、得られる
画像の鮮鋭度を向上させる目的で、支持体の蛍光体層側
の表面（支持体の蛍光体層側の表面に接着性付与層、光
反射層あるいは光吸収層などの補助層が設けられている
場合には、それらの補助層の表面であってもよい）には
微小な凹凸が形成されていてもよい。なお、輝尽性蛍光
体層が自己支持性である場合には必ずしも支持体を用い
る必要はない。

【００２４】この支持体の上には輝尽性蛍光体からなる
蛍光体層が設けられる。輝尽性蛍光体は、先に述べたよ
うに放射線を照射した後、励起光を照射すると輝尽発光
を示す蛍光体であるが、実用的な面からは波長が４００
〜９００ｎｍの範囲にある励起光によって３００〜５０
０ｎｍの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であることが
望ましい。本発明の放射線像変換パネルに用いられる輝
尽性蛍光体の例としては、前記した特開平２−１９３１
００号公報および特開平４−３１０９００号公報に詳し
く記載されているものがある。

【００２５】公知の輝尽性蛍光体のうちでは、ユーロピ
ウムあるいはセリウム付活アルカリ土類金属ハロゲン化
物系蛍光体、およびセリウム付活希土類オキシハロゲン
化物蛍光体は高輝度の輝尽発光を示すので特に好まし
い。ただし、本発明に用いられる輝尽性蛍光体は上述の
蛍光体に限られるものではなく、照射された放射線を蓄
積することができ、その後の任意な時期に励起光を照射
した場合に輝尽発光を示す蛍光体であればいかなるもの
であってもよい。

【００２６】輝尽性蛍光体層が輝尽性蛍光体とこれを分
散状態で含有支持する結合剤とからなる場合を例にとっ
て説明する。蛍光体層は、例えば、次のような公知の方
法によって支持体上に形成することができる。

【００２７】まず、輝尽性蛍光体と結合剤とを溶剤に加
え、これを充分に混合して、結合剤溶液中に輝尽性蛍光
体が均一に分散した塗布液を調製する。塗布液における
結合剤と輝尽性蛍光体との混合比は、目的とする放射線
像変換パネルの特性、蛍光体の種類などによって異なる
が、一般には結合剤と蛍光体との混合比は、１：１乃至
１：１００（重量比）の範囲から選ばれ、そして特に
１：８乃至１：４０（重量比）の範囲から選ぶのが好ま
しい。

【００２８】このようにして調製された蛍光体と結合剤
とを含有する塗布液を、次に、支持体の表面に均一に塗
布することにより塗膜を形成する。この塗布操作は、通
常の塗布手段、たとえば、ドクターブレード、ロールコ
ータ、ナイフコータなどを用いる方法により行うことが
できる。

【００２９】上記のようにして支持体上に塗膜を形成し
たのち塗膜を乾燥して、支持体上への輝尽性蛍光体層の
形成を完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線
像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体と
の混合比などによって異なるが、通常は２０μｍ乃至１
ｍｍとする。但し、この輝尽性蛍光体層の層厚は５０乃
至５００μｍとするのが好ましい。なお、輝尽性蛍光体
層は、必ずしも上記のように支持体上に塗布液を直接塗
布して形成する必要はなく、たとえば、別に、ガラス
板、金属板、プラスチックシートなどのシート上に塗布
液を塗布し、乾燥することにより蛍光体層を形成したの
ち、これを支持体上に押圧するか、あるいは接着剤を用
いるなどして、支持体上に蛍光体層を接合する方法を利
用してもよい。

【００３０】本発明の放射線像変換パネルの輝尽性蛍光
体層は、輝尽性蛍光体とこれを分散状態で含有支持する
結合剤とからなるのものばかりでなく、結合剤を含まな
いで輝尽性蛍光体の凝集体のみから構成されるもの、あ
るいは輝尽性蛍光体の凝集体の間隙に高分子物質が含浸
されている蛍光体層などでもよい。

【００３１】次に、輝尽性蛍光体層の上には保護膜が形
成される。本発明において特徴的な要件である光散乱性
の保護膜は、蛍光体層に含まれる輝尽性蛍光体の輝尽発
光の主発光波長における光散乱長が５〜８０μｍの範囲
にあるものである。保護膜の光散乱長は好ましくは１０
〜７０μｍの範囲である。

【００３２】保護膜は、光散乱性微粒子が樹脂中に分
散、含有された構成であるのが好ましい。光散乱性微粒
子としては、上記範囲の光散乱長を達成するために光屈
折率が１．６以上であり、粒子径が０．１〜１．０μｍ
の範囲にあるのが好ましい。特に好ましくは光屈折率は
１．９以上であり、粒子径は０．１〜０．５μｍの範囲
である。そのような光散乱性微粒子の例としては、酸化
マグネシウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化チタン、酸化
ニオブ、硫酸バリウム、炭酸鉛、酸化ケイ素、ポリメチ
ルメタクリレート、スチレンおよびメラミンの微粒子を
挙げることができる。これらのうちで高い屈折率を有し
好ましい光散乱性微粒子としては、酸化亜鉛、硫化亜
鉛、酸化チタンおよび炭酸鉛の微粒子を挙げることがで
きる。特に好ましくは酸化チタンである。

【００３３】保護膜を形成するために用いられる樹脂材
料（結合剤樹脂）については、特段の制限はなく前記輝
尽性蛍光体層の結合剤として挙げたものの中から任意に
選択して用いることができるが、好ましくはポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリア
ミド、アラミド、フッ素系樹脂などである。特に好まし
くは有機溶媒可溶性のフッ素系樹脂である。フッ素系樹
脂は、フッ素を含むオレフィン（フルオロオレフィン）
の重合体もしくはフッ素を含むオレフィンを共重合体成
分として含む共重合体であり、その例としては、ポリテ
トラフルオロエチレン、ポリクロルトリフルオロエチレ
ン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、テトラ
フルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合
体、およびフルオロオレフィン−ビニルエーテル共重合
体を挙げることができる。このフッ素系樹脂と上記樹脂
とを併用してもよいし、あるいはフッ素系樹脂にポリシ
ロキサン骨格含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基
含有オリゴマーなどを加えてもよい。さらに、フッ素系
樹脂は架橋剤によって架橋されていてもよい。

【００３４】保護膜は、光散乱性微粒子を樹脂材料含有
の有機溶媒溶液に分散して分散液を調製し、その分散液
を輝尽性蛍光体層の上に直接あるいは任意の補助層を介
して塗布、乾燥することにより形成することができる。
あるいは、分散液を別に用意した仮支持体上に塗布、乾
燥して保護膜シートとし、この保護膜シートを剥がし取
って、接着剤を用いて蛍光体層上に直接、あるいは任意
に補助層を介して付設することもできる。光散乱性微粒
子は通常、保護膜中に０．５〜１０重量％の範囲で含ま
れ、好ましくは０．５〜５重量％の範囲である。また、
光散乱性微粒子の分散性を高めるために微粒子に表面処
理を施したり、あるいは分散液に界面活性剤系分散剤、
チタネート系カップリング剤やアルミニウム系カップリ
ング剤のようなカップリング剤系分散剤など各種の分散
剤を添加してもよい。さらに、保護膜にはシリコーン系
界面活性剤やフッ素系界面活性剤などの各種の添加剤が
含有されていてもよい。保護膜の厚さは通常、１〜２０
μｍの範囲にあり、好ましくは３．５〜１０μｍの範囲
である。

【００３５】なお、保護膜の吸収長（光が吸収されるま
での平均自由距離）は任意である。感度の点からは、保
護膜の吸収はない方が減感が少ないため、好ましい。し
かしながら、散乱不足を補う意味で、極僅かな吸収を持
たせることもできる。吸収長は好ましくは８００μｍ以
上であり、特に好ましくは１２００μｍ以上である。

【００３６】上記のようにして、本発明の放射線像変換
パネルが得られるが、その本発明の放射線像変換パネル
の構成は、公知の各種のバリエーションを含むものであ
ってもよい。たとえば、得られる画像の鮮鋭度を向上さ
せることを目的として、放射線像変換パネルの少なくと
も一つの層を、励起光を吸収し、輝尽発光光は吸収しな
いような着色剤によって着色することが知られている
（特公昭５４−２３４００号公報参照）が、本発明の放
射線像変換パネルについても、そのような構成をとるこ
とができることは勿論である。

【００３７】

【実施例】［実施例１］ （Ｉ）放射線像変換パネルの製造 下記の方法により、本発明の放射線像変換パネルを製造
した。 １）輝尽性蛍光体（ＢａＦＢｒ_0.85Ｉ_0.15：０．００１
Ｅｕ²⁺）２００ｇ、ポリウレタン樹脂（大日本インキ化
学工業（株）製、パンデックスＴ５２６５）８．０ｇ、
および黄変防止剤：エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ
（株）製、ＥＰ１００１）２．０ｇをメチルエチルケト
ンに添加し、プロペラミキサーによって分散し、粘度が
３０ＰＳ（２５℃）の蛍光体層形成用塗布液を調製し
た。この塗布液をシリコーン系離型剤が塗布されている
ポリエチレンテレフタレート製仮支持体（厚さ：１５０
μｍ）の上に塗布し、乾燥した後、この乾燥塗膜を仮支
持体から剥がし取り、輝尽性蛍光体シート（厚さ：４３
０μｍ）を得た。

【００３８】２）別に下塗層形成用塗布液として、軟質
アクリル樹脂（固形分で）９０ｇおよびニトロセルロー
ス５０ｇをメチルエチルケトンに加え、混合分散して、
粘度が３〜６ＰＳ（２５℃）の分散液を調製した。

【００３９】支持体としてポリエチレンテレフタレート
フィルム（厚さ：３００μｍ）をガラス板上に水平に置
き、この上に下塗層形成用塗布液をドクターブレードを
用いて均一に塗布した後（塗膜の厚さ：１５μｍ）、２
５℃から１００℃に徐々に温度を上昇させて塗膜の乾燥
を行い、支持体上に下塗層を形成した。

【００４０】３）この下塗層の上に上記の輝尽性蛍光体
シートを載せ、カレンダーロールを用いて圧力５００ｋ
ｇｗ／ｃｍ² 、圧縮時の上下ロール温度４５℃、および
送り速度０．３ｍ／分の条件にて連続的に圧縮を行っ
た。この加熱圧縮により蛍光体シートを支持体に完全に
融着させ、透明支持体上に下塗層を介して輝尽性蛍光体
層（厚さ：２３０μｍ）を形成した。

【００４１】４）保護膜形成用塗布液として、フッ素系
樹脂：フルオロオレフィン−モノビニルエーテル共重合
体（旭硝子（株）製、ルミフロンＬＦ５０４Ｘ）７０
ｇ、架橋剤：イソシアネート（住友バイエルウレタン
（株）製、スミジュールＮ３５００) ５．２ｇ、滑り
剤：シリコーン樹脂（信越化学工業（株）製、Ｘ−２２
−２８０９）６．７ｇ、触媒：ジブチルチンラウレート
（共同薬品（株）製、ＫＳ−１２６０）０．３ｇ、光散
乱性微粒子：アナタース型二酸化チタン粉末（石原産業
（株）製、Ａ２２０、平均粒径：０．１５μｍ、屈折
率：約２．６）２．８ｇ、及びチタネート系カップリン
グ剤（味の素（株）製、プレンアクトＡＬ−Ｍ）０．１
２ｇをメチルエチルケトンに添加し、固形分濃度１２％
で溶解して、二酸化チタンが均一に分散した塗布液を調
製した。この塗布液を輝尽性蛍光体層の表面にドクター
ブレードを用いて塗布、乾燥して、保護膜（厚さ：約７
μｍ）を形成した。この保護膜中の二酸化チタンの含有
量は３重量％であった。

【００４２】（II）保護膜の光散乱長と光吸収長の算出 上記４）で得られた保護層形成用塗布液を、厚さ１８０
μｍの透明支持体上に乾燥後の膜厚が５〜５０μｍの範
囲に入るように塗布、乾燥して、各種の半透明膜を得
た。これらの半透明膜の拡散透過率を、（株）日立製作
所製のＵ−３２１０型自記分光光度計に１５０φ積分球
（１５０−０９０１）を付けた装置を用いて、測定波長
４００ｎｍ（前記のユーロピウム付活フッ化ハロゲン化
バリウム蛍光体の輝尽発光の主発光ピーク波長）で測定
した。その結果をまとめて第１表に示す。

【００４３】

【表１】 第１表 ─────────────────────────────────── 厚さ（μｍ） ７ １１ ２４ ４０ ─────────────────────────────────── 拡散透過率（％） ７０．３ ６２．６ ４８．４ ４０．２ ───────────────────────────────────

【００４４】第１表の厚さと拡散透過率とから前述の式
（Ａ）を用いてＫとＳとを算出し、このＫとＳとの値に
基づいて上記放射線像変換パネルの保護膜の光散乱長と
光吸収長とを求めたところ、それぞれについて２３μｍ
（光散乱長＝１／Ｓ）と１００００μｍ（光吸収長＝１
／Ｋ）とが得られた。

【００４５】［実施例２］実施例１において、保護膜形
成用塗布液に二酸化チタンを０．９ｇ添加したこと以外
は実施例１と同様にして、本発明の放射線像変換パネル
を製造した。

【００４６】［比較例１］実施例１において、保護膜形
成用塗布液に二酸化チタンおよびカップリング剤を添加
しなかったこと以外は実施例１と同様にして、比較のた
めの放射線像変換パネルを製造した。

【００４７】［比較例２］実施例１において、保護膜形
成用塗布液に二酸化チタンおよびカップリング剤を添加
しないで保護膜（厚さ：約３．５μｍ）を形成したこと
以外は実施例１と同様にして、比較のための放射線像変
換パネルを製造した。

【００４８】［放射線像変換パネルの性能評価］得られ
た各放射線像変換パネルについて、感度、画像の鮮鋭度
および搬送耐久性の試験を行い、その性能を評価した。

【００４９】（１）感度試験 試料の放射線像変換パネルに管電圧８０ｋＶｐのＸ線を
照射したのち、Ｈｅ−Ｎｅレーザ光（波長：６３２．８
ｎｍ）で励起して、放射線像変換パネルよりの輝尽発光
量を測定し、この発光量の相対値で感度を表示した。

【００５０】（２）画像鮮鋭度 試料の放射線像変換パネルにＭＴＦチャートを介して管
電圧８０ｋＶｐのＸ線を照射したのち、Ｈｅ−Ｎｅレー
ザ光（波長：６３２．８ｎｍ）で励起して、放射線像変
換パネルよりの輝尽発光を受光器（分光感度Ｓ−５の光
電子増倍管）で受光した。受光した光を電気信号に変換
し、これを画像再生装置によって画像を再生して表示装
置上に画像を得た。得られた画像の変調伝達関数（ＭＴ
Ｆ）を測定し、これを空間周波数２サイクル／ｍｍの値
で表示した。

【００５１】（３）搬送耐久性試験 放射線像変換パネルを１００ｍｍ×２５０ｍｍの大きさ
に切断し、得られた試験片を、特開平８−３６０９９号
公報に図面と共に示した搬送耐久性試験装置を用いて搬
送操作を繰り返し行い、試験片の保護膜の損傷（亀裂）
を観察した。そして、損傷（亀裂）が見い出された搬送
回数で搬送耐久性を評価した。上記の各試験によって得
られた結果を、光散乱性微粒子の添加量、保護膜の厚さ
および散乱長とともに、第２表に示す。

【００５２】

【表２】

【００５３】第２表の結果から、本発明の放射線像変換
パネル（実施例１、２）は、従来の透明な保護膜を有す
る放射線像変換パネル（比較例１）と比較して、感度お
よび搬送耐久性はほぼ同等の高いレベルにありながら、
鮮鋭度の向上した放射線画像を与えることが明らかであ
る。一方、膜厚の薄い透明保護膜を有する比較のための
放射線像変換パネル（比較例２）は、鮮鋭度は高いもの
の搬送耐久性に劣ることが明らかである。

【００５４】

【発明の効果】本発明によれば、放射線像変換パネルの
保護膜を一定範囲で光散乱性とすることにより、感度や
搬送耐久性などの諸特性を高く維持しながら、画像の鮮
鋭度をより一層高めることができる。

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 輝尽性蛍光体からなる蛍光体層と、その
   上に設けられた保護膜とを有する放射線像変換パネルに
   おいて、該輝尽性蛍光体の輝尽発光の主発光波長におけ
   る該保護膜の光散乱長が５〜８０μｍの範囲にあること
   を特徴とする放射線像変換パネル。
2. 【請求項２】 保護膜の光散乱長が１０〜７０μｍの範
   囲にある請求項１に記載の放射線像変換パネル。
3. 【請求項３】 保護膜が光散乱性微粒子を分散状態で含
   有する樹脂からなる請求項１もしくは２に記載の放射線
   像変換パネル。
4. 【請求項４】 光散乱性微粒子の屈折率が１．６以上で
   あり、かつ粒子径が０．１〜１．０μｍの範囲にある請
   求項３に記載の放射線像変換パネル。
5. 【請求項５】 光散乱性微粒子の屈折率が１．９以上で
   あり、かつ粒子径が０．１〜０．５μｍの範囲にある請
   求項４に記載の放射線像変換パネル。
6. 【請求項６】 保護膜が光散乱性微粒子を０．５〜１０
   重量％の範囲で含む請求項３乃至５のいずれかの項に記
   載の放射線像変換パネル。
7. 【請求項７】 保護膜の厚さが３．５〜１０μｍの範囲
   にある請求項１乃至６のいずれかの項に記載の放射線像
   変換パネル。
8. 【請求項８】 保護膜の樹脂がフッ素系樹脂である請求
   項３乃至７のいずれかの項に記載の放射線像変換パネ
   ル。
9. 【請求項９】 保護膜が光散乱性微粒子の分散を補助す
   る分散剤を含む請求項３，４，５もしくは６の内のいず
   れかの項に記載の放射線像変換パネル。