JP7136188B2 - シンチレータパネル、放射線検出器、およびシンチレータパネルの製造方法 - Google Patents
シンチレータパネル、放射線検出器、およびシンチレータパネルの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7136188B2 JP7136188B2 JP2020506377A JP2020506377A JP7136188B2 JP 7136188 B2 JP7136188 B2 JP 7136188B2 JP 2020506377 A JP2020506377 A JP 2020506377A JP 2020506377 A JP2020506377 A JP 2020506377A JP 7136188 B2 JP7136188 B2 JP 7136188B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scintillator panel
- group
- phosphor
- substituted
- fluorine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/20—Measuring radiation intensity with scintillation detectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K4/00—Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
Description
以下、図面を用いて本発明の一実施形態のシンチレータパネルの具体的な構成について説明する。図1は、本実施形態のシンチレータパネル2を含む放射線検出器用部材1を模式的に表した断面図である。放射線検出器用部材1は、シンチレータパネル2、出力基板3を有する。シンチレータパネル2は、基板4と、隔壁5と、隔壁5によって区画されたセル内の蛍光体層6を有する。出力基板3は、基板10と、基板10上に形成された出力層9と、出力層9上に形成されたフォトダイオードを有する光電変換層8とを有する。光電変換層8上には、隔膜層7が設けられてもよい。シンチレータパネル2の出光面と出力基板3の光電変換層8とは、隔膜層7を介して接着または密着されていることが好ましい。蛍光体層6で発光した光は、光電変換層8に到達して光電変換され、出力される。以下、それぞれについて説明する。
基板4は、本実施形態のシンチレータパネル2に設けられる部材である。基板4を構成する材料は、放射線透過性を有する材料であることが好ましい。たとえば、基板4を構成する材料は、各種のガラス、高分子材料、金属等である。ガラスは、石英、ホウ珪酸ガラス、化学的強化ガラス等である。高分子化合物は、セルロースアセテート、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカーボネート、炭素繊維強化樹脂等である。金属は、アルミニウム、鉄、銅等が挙げられる。これらは併用されてもよい。これらの中でも、基板4を構成する材料は、放射線の透過性が高い高分子材料であることが好ましい。また、基板4を構成する材料は、平坦性および耐熱性の優れる材料であることが好ましい。
隔壁5は、少なくとも区画された空間(セル)を形成するために設けられる。隔壁5は、金属反射層11と、非晶性フッ素含有樹脂を主成分として含む有機保護層12とをこの順に有する。金属反射層11および有機保護層12は、隔壁5の少なくとも一部に設けられればよい。
金属反射層11は、薄膜でも高い反射率を有する。そのため、金属反射層11を薄膜で設けることにより、蛍光体13の充填量が低下しにくく、シンチレータパネル2は、輝度が向上しやすい。金属反射層11を構成する金属は、特に限定されない。たとえば、金属反射層11は、銀やアルミニウムなど、反射率の高い金属を主成分として含有することが好ましく、銀を主成分として含有することがより好ましい。金属反射層11は、合金であっても良い。金属反射層11は、パラジウムおよび銅のうち少なくともいずれか1種を含む銀合金を含むことが好ましく、パラジウムと銅を含有する銀合金であることがより好ましい。このような銀合金からなる金属反射層11は、大気中における変色耐性が優れる。なお、本実施形態において、「主成分として含有する」とは、所定の成分を50~100質量%となるよう含むことをいう。
本実施形態のシンチレータパネル2は、金属反射層11上に、非晶性フッ素含有樹脂を主成分とする有機保護層12が形成される。有機保護層12が形成されることにより、シンチレータパネル2は、蛍光体層6を形成する際に、金属反射層11と蛍光体層6との反応による金属反射層11の反射率低下が抑制され、輝度が向上する。
蛍光体層6は、図1に示されるように、隔壁5で区画されたセル内に形成される。蛍光体層6は、入射されたX線等の放射線のエネルギーを吸収して、波長300nm~800nmの範囲の電磁波、すなわち、可視光を中心に紫外光から赤外光にわたる範囲の光を発光する。蛍光体層6で発光した光は、光電変換層8で光電変換が行われ、出力層9を通じて電気信号として出力される。蛍光体層6は、蛍光体13およびバインダー樹脂14を有することが好ましい。
蛍光体13は特に限定されない。たとえば、蛍光体13は、硫化物系蛍光体、ゲルマン酸塩系蛍光体、ハロゲン化物系蛍光体、硫酸バリウム系蛍光体、リン酸ハフニウム系蛍光体、タンタル酸塩系蛍光体、タングステン酸塩系蛍光体、希土類ケイ酸塩系蛍光体、希土類酸硫化物系蛍光体、希土類リン酸塩系蛍光体、希土類オキシハロゲン化物系蛍光体、アルカリ土類金属リン酸塩系蛍光体、アルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物系蛍光体が挙げられる。希土類ケイ酸塩系蛍光体としては、セリウム賦活希土類ケイ酸塩系蛍光体が挙げられ、希土類酸流化物系蛍光体としては、プラセオジム賦活希土類酸硫化物系蛍光体、テルビウム賦活希土類酸硫化物系蛍光体、ユウロピウム賦活希土類酸硫化物系蛍光体が挙げられ、希土類リン酸塩系蛍光体としては、テルビウム賦活希土類リン酸塩系蛍光体が挙げられ、希土類オキシハロゲン蛍光体としては、テルビウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体、ツリウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体が挙げられ、アルカリ土類金属リン酸塩系蛍光体としては、ユウロピウム賦活アルカリ土類金属リン酸塩系蛍光体が挙げられ、アルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物系蛍光体としては、ユウロピウム賦活アルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物系蛍光体が挙げられる。蛍光体13は、併用されてもよい。これらの中でも、発光効率が高い点から、蛍光体13は、ハロゲン化物系蛍光体、テルビウム賦活希土類酸硫化物系蛍光体およびユウロピウム賦活希土類酸硫化物系蛍光体から選ばれた蛍光体が好ましく、テルビウム賦活希土類酸硫化物系蛍光体がより好ましい。
バインダー樹脂14は特に限定されない。たとえば、バインダー樹脂14は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等である。より具体的には、バインダー樹脂14は、アクリル樹脂、アセタール樹脂、セルロース誘導体、ポリシロキサン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、ユリア樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポリフェニルベンゼン等である。バインダー樹脂14は、併用されてもよい。これらの中でも、バインダー樹脂14は、アクリル樹脂、アセタール樹脂、エポキシ樹脂およびセルロース誘導体のうち少なくともいずれか1種を含有することが好ましく、これら1~3種を主成分として含有することがより好ましい。これにより、シンチレータパネル2は、セル内での光の減衰を抑制でき、発光を充分に取り出しやすい。なお、アクリル樹脂、アセタール樹脂、エポキシ樹脂およびセルロース誘導体のうち少なくともいずれか1種を主成分とするとは、アクリル樹脂、アセタール樹脂、セルロース誘導体の合計量が、樹脂を構成する材料の50~100質量%であることをいう。
本発明の一実施形態の放射線検出器は、放射線検出器用部材1をケース中に配置することにより作製できる。または、放射線検出器は、市販の放射線検出器のシンチレータを取り外し、代わりに本発明の一実施形態のシンチレータパネル2を配置することにより作製できる。
本発明の一実施形態のシンチレータパネルの製造方法は、基材上に隔壁を形成し、セルを区画する、隔壁形成工程と、隔壁の表面に金属反射層を形成する、反射層形成工程と、反射層の表面に有機保護層を形成する、有機保護層形成工程と、隔壁で区画されたセル内に蛍光体を充填する、充填工程とを含む。以下、それぞれの工程について説明する。なお、以下の説明において、上記したシンチレータパネルの実施形態において説明した事項と共通する事項は、説明を適宜省略する。
隔壁形成工程は、基材上に隔壁を形成する工程である。基材上に隔壁を形成する方法は特に限定されない。隔壁を形成する方法は、各種公知の方法が利用でき、形状の制御が容易である点から、感光性ペースト法であることが好ましい。
塗布工程は、基材の表面に、ガラス粉末含有ペーストを全面または部分的に塗布して塗布膜を得る工程である。基材は、ガラス板またはセラミックス板等の高耐熱性の支持体を用いることができる。ガラス粉末含有ペーストを塗布する方法は、たとえば、スクリーン印刷法、バーコーター、ロールコーター、ダイコーターまたはブレードコーターが挙げられる。得られる塗布膜の厚さは、塗布回数、スクリーンのメッシュサイズまたはペーストの粘度等により調整することができる。
アルカリ金属酸化物 : 2~20質量%
酸化亜鉛 : 3~10質量%
酸化ケイ素 : 20~40質量%
酸化ホウ素 : 25~40質量%
酸化アルミニウム : 10~30質量%
アルカリ土類金属酸化物 : 5~15質量%。
パターン形成工程は、たとえば、塗布工程で得られた塗布膜を、所定の開口部を有するフォトマスクを介して露光する露光工程と、露光後の塗布膜における、現像液に可溶な部分を溶解除去する現像工程と、からなる。
焼成工程は、パターン形成工程で得られた格子状の焼成前パターンを焼成して、ガラス粉末含有ペーストが含有する有機成分を分解除去し、ガラス粉末を軟化および焼結させて、格子状の焼成後パターン、すなわち隔壁を得る工程である。
本実施形態のシンチレータパネルの製造方法は、隔壁の表面に金属反射層を形成する、反射層形成工程を有する。金属反射層は、隔壁表面の少なくとも一部に形成されればよい。
本実施形態のシンチレータパネルの製造方法は、有機保護層を形成する、有機保護層形成工程を有する。有機保護層の形成方法は特に限定されない。後述するとおり、有機保護層は、非晶性フッ素含有樹脂を含有する溶液を隔壁基板上に真空下で塗布した後、乾燥して溶媒を除去することによって形成され得る。また、乾燥後の基板は、耐熱性や耐薬品性を向上させるため、乾燥後に、加熱による硬化または光による硬化がなされても良い。
本実施形態のシンチレータパネルの製造方法は、隔壁で区画されたセル内に蛍光体を充填する、充填工程を有する。蛍光体の充填方法は特に限定されない。たとえば、プロセスが簡便であり、大面積への均質な蛍光体充填が可能であることから、充填方法は、蛍光体粉末およびバインダー樹脂を溶媒に混合した蛍光体ペーストを隔壁基板上に真空下で塗布した後、乾燥して溶媒を除去する方法が好ましい。
有機保護層用樹脂溶液の作製に用いた原料は次の通りである。
フッ素系溶剤:CT-SOLV180(AGC(株)製)
非フッ素系溶剤A:1-メチル-2-ピロリドン(富士フイルム和光純薬(株)製)
非フッ素系溶剤B:デカン(富士フイルム和光純薬(株)製)
非フッ素系溶剤C:γ―ブチロラクトン(富士フイルム和光純薬(株)製)
非晶性フッ素含有樹脂A:CYTOP(登録商標) CTL-809M(サイトップMタイプ(飽和環構造を有し、主鎖の原子に直接結合するフッ素原子を有し、末端にシリル基を有する非晶性フッ素含有樹脂。一般式(2)において、s:1、u:0、t:2、R5~R8:F。)をCT-SOLV180で9質量%に希釈した溶液、AGC(株)製)
非晶性フッ素含有樹脂B:CYTOP(登録商標) CTL-809A(サイトップAタイプ(飽和環構造を有し、主鎖の原子に直接結合するフッ素原子を有し、末端にカルボキシル基を有する非晶性フッ素含有樹脂。一般式(2)において、s:1、u:0、t:2、R5~R8:F。)をCT-SOLV180で9質量%に希釈した溶液、AGC(株)製)
非晶性フッ素含有樹脂C:CYTOP(登録商標) CTX-809SP2(サイトップSタイプ(飽和環構造を有し、主鎖の原子に直接結合するフッ素原子を有し、末端に置換基を有しない非晶性フッ素含有樹脂。一般式(2)において、s:1、u:0、t:2、R5~R8:F。)をCT-SOLV180で9質量%に希釈した溶液、AGC(株)製)
非晶性フッ素含有樹脂D:Hyflon AD60(飽和環構造を有し、主鎖の原子に直接結合するフッ素原子を有し、末端にフッ素置換アルキル基を有する非晶性フッ素含有樹脂。一般式(2)において、s:1、u:1、t:1、R5:OCF3、R6~R8:F。Sigma Aldrich社製。)
非晶性フッ素含有樹脂E:ポリ(2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチルメタクリレート、Sigma Aldrich社製)
非晶性フッ素含有樹脂F:ポリ(1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート、Sigma Aldrich社製)
結晶性フッ素含有樹脂:807-NX(三井・ケマーズ・フロロプロダクツ(株)製)
非フッ素系樹脂A:SYLGARD184(東レ・ダウコーニング(株)製)
非フッ素系樹脂B:スチレンポリマー(富士フイルム和光純薬(株)製)
非フッ素系樹脂C:メタクリル酸メチルポリマー(富士フイルム和光純薬(株)製)
非フッ素系樹脂D:エトセル(登録商標)7cp(ダウケミカル(株)製)
(調製例1)フッ素含有樹脂溶液
非晶性フッ素含有樹脂Aの1質量部に対し、溶媒としてフッ素系溶剤を1質量部混合して樹脂溶液を作製した。
非晶性フッ素含有樹脂Bの1質量部に対し、溶媒としてフッ素系溶剤を1質量部混合して樹脂溶液を作製した。
非晶性フッ素含有樹脂Cの1質量部に対し、溶媒としてフッ素系溶剤を1質量部混合して樹脂溶液を作製した。
非晶性フッ素含有樹脂Dの9質量部に対し、溶媒としてフッ素系溶剤を200質量部攪拌容器に入れ、室温で12時間攪拌して樹脂溶液を作製した。
非晶性フッ素含有樹脂Eの5質量部に対し、溶媒として非フッ素系溶剤Aを95質量部混合して樹脂溶液を作製した。
非晶性フッ素含有樹脂Fの5質量部に対し、溶媒として非フッ素系溶剤Aを95質量部混合して樹脂溶液を作製した。
結晶性フッ素含有樹脂の5質量部に対し、溶媒としてフッ素系溶剤を95質量部混合して混合液を作製した。
非フッ素系樹脂Aの5質量部に対し、溶媒として非フッ素系溶剤Bを95質量部混合して樹脂溶液を作製した。
非フッ素系樹脂Bの5質量部に対し、溶媒として非フッ素系溶剤Cを95質量部混合して樹脂溶液を作製した。
非フッ素系樹脂Cの5質量部に対し、溶媒として非フッ素系溶剤Cを95質量部混合して樹脂溶液を作製した。
非フッ素系樹脂Dの5質量部に対し、溶媒として非フッ素系溶剤Cを95質量部混合して樹脂溶液を作製した。
感光性のガラス粉末含有ペーストの作製に用いた原料は次のとおりである。
感光性モノマーM-1 : トリメチロールプロパントリアクリレート
感光性モノマーM-2 : テトラプロピレングリコールジメタクリレート
感光性ポリマー : メタクリル酸/メタクリル酸メチル/スチレン=40/40/30の質量比からなる共重合体のカルボキシル基に対して0.4当量のグリシジルメタクリレートを付加反応させたもの(重量平均分子量43000;酸価100)
光重合開始剤 : 2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)ブタノン-1(BASF社製)
重合禁止剤 : 1,6-ヘキサンジオール-ビス[(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート])
紫外線吸収剤溶液 : スダンIV(東京応化工業(株)製)のγ-ブチロラクトン0.3質量%溶液
粘度調整剤 : フローノンEC121(共栄社化学(株)製)
溶媒 : γ-ブチロラクトン
低軟化点ガラス粉末:
SiO2 27質量%、B2O3 31質量%、ZnO 6質量%、Li2O 7質量%、MgO 2質量%、CaO 2質量%、BaO 2質量%、Al2O3 23質量%、屈折率(ng)1.56、ガラス軟化温度588℃、熱膨張係数70×10-7(K-1)、平均粒子径2.3μm
ガラス粉末含有ペーストP-1:
4質量部の感光性モノマーM-1、6質量部の感光性モノマーM-2、24質量部の感光性ポリマー、6質量部の光重合開始剤、0.2質量部の重合禁止剤および12.8質量部の紫外線吸収剤溶液を、38質量部の溶媒に、温度80℃で加熱溶解した。得られた溶液を冷却した後、9質量部の粘度調整剤を添加して、有機溶液1を得た。得られた有機溶液1をガラス板に塗布して乾燥することにより得られた有機塗膜の屈折率(ng)は、1.555であった。50質量部の有機溶液1に、50質量部の低軟化点ガラス粉末を添加した後、3本ローラー混練機にて混練し、ガラス粉末含有ペーストP-1を得た。
隔壁基板:
基板として、125mm×125mm×0.7mmのソーダガラス板を用いた。基板の表面に、ガラス粉末含有ペーストP-1を、乾燥後の厚さが220μmになるようにダイコーターで塗布して乾燥し、ガラス粉末含有ペーストの塗布膜を得た。次に、所望のパターンに対応する開口部を有するフォトマスク(ピッチ127μm、線幅15μmの、格子状開口部を有するクロムマスク)を介して、ガラス粉末含有ペーストの塗布膜を、超高圧水銀灯を用いて300mJ/cm2の露光量で露光した。露光後の塗布膜は、0.5質量%のエタノールアミン水溶液中で現像し、未露光部分を除去して、格子状の焼成前パターンを得た。得られた格子状の焼成前パターンを、空気中580℃で15分間焼成して、ガラスを主成分とする、格子状の隔壁を形成した。割断により隔壁断面を露出させ、走査型電子顕微鏡S2400((株)日立製作所製)で撮像して測定した、隔壁の高さL1は150μm、隔壁の間隔L2は127μm、隔壁の底部幅L3は30μm、隔壁の頂部幅L4は10μmであった。
市販のスパッタ装置、およびスパッタターゲットを用いた。スパッタ時は、隔壁基板の近傍にガラス平板を配置し、ガラス平板上における金属厚みが300nmとなる条件でスパッタを実施した。スパッタターゲットには、パラジウムおよび銅を含有する銀合金であるAPC((株)フルヤ金属製)を用いた。有機保護層の厚みと同様にして測定した、各隔壁基板における隔壁の高さ方向中央部側面の金属反射層厚みは、70nmであった。
市販のGOS:Tb(Tbをドープした酸硫化ガドリニウム)蛍光体粉末をそのまま用いた。粒度分布測定装置MT3300(日機装(株)製)で測定した平均粒子径D50は11μmであった。
蛍光体層のバインダー樹脂の作製に用いた原料は次の通りである。
バインダー樹脂:エトセル(登録商標)7cp(ダウケミカル(株)製)
溶媒:ベンジルアルコール(富士フイルム和光純薬(株)製)
蛍光体粉末10質量部を、濃度10質量%のバインダー樹脂溶液5質量部と混合して、蛍光体ペーストを作製した。この蛍光体ペーストを、反射層、有機保護層等を形成した隔壁基板に真空印刷し、蛍光体の体積分率が65%になるように充填して150℃で15分乾燥し、蛍光体層を形成した。
調製例1~11に記載の各樹脂溶液を、ガラス基板上に塗布し、樹脂塗膜を作製した。作製した樹脂塗膜について、大塚電子(株)製分光エリプソメータFE5000を用いて、22℃での550nmにおける屈折率を測定した。
蛍光体層充填前の各シンチレータパネル表面に、分光測色計CM-2600D(コニカミノルタ(株)製)を設置し、400~700nmにおける反射率をSCI方式により測定した。得られた反射率について、550nmにおける値を金属反射層の反射率の値とした。また、実施例1の反射率に対する相対値を算出し、金属反射層の反射率とした。
蛍光体層充填後の各シンチレータパネルを、X線検出器PaxScan 2520V(Varex社製)のセンサ表面中央に、シンチレータパネルのセルがセンサのピクセルと1対1対応するようにアライメントして配置し、基板端部を粘着テープで固定して、放射線検出器を作製した。この検出器に、X線放射装置L9181-02(浜松ホトニクス(株)製)からのX線を、管電圧50kV、X線管と検出器の距離30cmの条件でX線を照射して画像を取得した。得られた画像中の、シンチレータパネルの発光位置中央における256×256ピクセルのデジタル値の平均値を輝度値とし、各サンプルについて実施例1の輝度値に対する相対値を算出し、輝度とした。
表1に示す隔壁基板に、表1に示す材料を用いて、前述の方法により金属反射層を形成し、前述の方法により、表1に示す有機保護層を形成した。その後、表1に示すバインダー樹脂を用いて前述の方法により蛍光体層を形成した。各実施例、比較例の構成、および各種評価結果を表1に示す。
2 シンチレータパネル
3 出力基板
4 基板
5 隔壁
6 蛍光体層
7 隔膜層
8 光電変換層
9 出力層
10 基板
11 金属反射層
12 有機保護層
13 蛍光体
14 バインダー樹脂
L1 隔壁の高さ
L2 隣接する隔壁の間隔
L3 隔壁の底部幅
L4 隔壁の頂部幅
Claims (9)
- 基板、前記基板の上に形成された格子状の隔壁、および、前記隔壁によって区画されたセル内に蛍光体層を有し、
前記隔壁は、前記隔壁の表面に金属反射層と、非晶性フッ素含有樹脂を主成分とする有機保護層とをこの順に有し、
前記蛍光体層に含まれる蛍光体は、希土類酸硫化物系蛍光体である、シンチレータパネル。 - 前記非晶性フッ素含有樹脂は、主鎖の原子に直接フッ素原子が結合している、請求項1記載のシンチレータパネル。
- 前記非晶性フッ素含有樹脂が、下記一般式(2)で表される繰り返し単位を主成分とする化合物である請求項1または2記載のシンチレータパネル。
- 前記非晶性フッ素含有樹脂は、屈折率が1.41以下である、請求項1~3のいずれか1項に記載のシンチレータパネル。
- 前記金属反射層は、銀を主成分として含む、請求項1~4のいずれか1項に記載のシンチレータパネル。
- 前記金属反射層は、パラジウムおよび銅のうち少なくともいずれか1種を含む銀合金を含む、請求項5記載のシンチレータパネル。
- 前記隔壁は、軟化点650℃以下の低軟化点ガラスを98体積%以上含む、請求項1~6のいずれか1項に記載のシンチレータパネル。
- 請求項1~7のいずれか1項に記載のシンチレータパネルを備える、放射線検出器。
- 基材上に隔壁を形成し、セルを区画する、隔壁形成工程と、
前記隔壁の表面に金属反射層を形成する、反射層形成工程と、
前記反射層の表面に有機保護層を形成する、有機保護層形成工程と、
前記隔壁で区画されたセル内に蛍光体を充填する、充填工程とを含み、
前記有機保護層は、非晶性フッ素含有樹脂を主成分として含み、
前記蛍光体は、希土類酸硫化物系蛍光体である、シンチレータパネルの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019038016 | 2019-03-01 | ||
JP2019038016 | 2019-03-01 | ||
PCT/JP2020/004166 WO2020179322A1 (ja) | 2019-03-01 | 2020-02-04 | シンチレータパネル、放射線検出器、およびシンチレータパネルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020179322A1 JPWO2020179322A1 (ja) | 2020-09-10 |
JP7136188B2 true JP7136188B2 (ja) | 2022-09-13 |
Family
ID=72337558
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020506377A Active JP7136188B2 (ja) | 2019-03-01 | 2020-02-04 | シンチレータパネル、放射線検出器、およびシンチレータパネルの製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7136188B2 (ja) |
CN (1) | CN113498481A (ja) |
TW (1) | TWI821527B (ja) |
WO (1) | WO2020179322A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113498481A (zh) * | 2019-03-01 | 2021-10-12 | 东丽株式会社 | 闪烁体面板、放射线检测器和闪烁体面板的制造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000155204A (ja) | 1998-09-16 | 2000-06-06 | Canon Inc | 反射型光学素子 |
JP2002162512A (ja) | 2000-09-12 | 2002-06-07 | Canon Inc | 高反射性の銀鏡及び反射型光学素子 |
JP2011257339A (ja) | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 放射線画像検出装置 |
WO2016021540A1 (ja) | 2014-08-08 | 2016-02-11 | 東レ株式会社 | シンチレータパネル及び放射線検出器 |
JP2017161407A (ja) | 2016-03-10 | 2017-09-14 | コニカミノルタ株式会社 | シンチレータおよび放射線検出器 |
WO2019181444A1 (ja) | 2018-03-23 | 2019-09-26 | 東レ株式会社 | シンチレータパネル、放射線検出器、およびシンチレータパネルの製造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05332792A (ja) * | 1992-05-27 | 1993-12-14 | Ricoh Co Ltd | レーザエンコーダ及びその製造方法 |
JPH08201598A (ja) * | 1995-01-24 | 1996-08-09 | Konica Corp | 放射線像変換パネルとその製造方法 |
JP2001318053A (ja) * | 2000-05-10 | 2001-11-16 | Shizuoka Prefecture | 植物体の品質評価装置及び育種選抜方法並びに品質評価方法 |
US7834321B2 (en) * | 2006-07-14 | 2010-11-16 | Carestream Health, Inc. | Apparatus for asymmetric dual-screen digital radiography |
JP2016017818A (ja) * | 2014-07-08 | 2016-02-01 | 東レ株式会社 | シンチレータパネル、放射線検出器及び非破壊検査方法 |
US9188486B1 (en) * | 2014-08-11 | 2015-11-17 | Datacolor Holding Ag | System and method for compensating for second order diffraction in spectrometer measurements |
JP6786067B2 (ja) * | 2016-11-04 | 2020-11-18 | ジオテクノス株式会社 | 分光装置および反射スペクトルの接合処理方法 |
CN108680251B (zh) * | 2018-03-15 | 2020-06-05 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种基于超连续激光和单色仪的细分光谱扫描定标装置 |
CN208520750U (zh) * | 2018-07-27 | 2019-02-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种光谱检测装置 |
CN113498481A (zh) * | 2019-03-01 | 2021-10-12 | 东丽株式会社 | 闪烁体面板、放射线检测器和闪烁体面板的制造方法 |
-
2020
- 2020-02-04 CN CN202080018201.8A patent/CN113498481A/zh active Pending
- 2020-02-04 WO PCT/JP2020/004166 patent/WO2020179322A1/ja active Application Filing
- 2020-02-04 JP JP2020506377A patent/JP7136188B2/ja active Active
- 2020-02-24 TW TW109105807A patent/TWI821527B/zh active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000155204A (ja) | 1998-09-16 | 2000-06-06 | Canon Inc | 反射型光学素子 |
JP2002162512A (ja) | 2000-09-12 | 2002-06-07 | Canon Inc | 高反射性の銀鏡及び反射型光学素子 |
JP2011257339A (ja) | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 放射線画像検出装置 |
WO2016021540A1 (ja) | 2014-08-08 | 2016-02-11 | 東レ株式会社 | シンチレータパネル及び放射線検出器 |
JP2017161407A (ja) | 2016-03-10 | 2017-09-14 | コニカミノルタ株式会社 | シンチレータおよび放射線検出器 |
WO2019181444A1 (ja) | 2018-03-23 | 2019-09-26 | 東レ株式会社 | シンチレータパネル、放射線検出器、およびシンチレータパネルの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113498481A (zh) | 2021-10-12 |
TWI821527B (zh) | 2023-11-11 |
WO2020179322A1 (ja) | 2020-09-10 |
TW202104930A (zh) | 2021-02-01 |
JPWO2020179322A1 (ja) | 2020-09-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6256006B2 (ja) | シンチレータパネルおよびその製造方法 | |
JP5110230B1 (ja) | シンチレータパネルおよびシンチレータパネルの製造方法 | |
JP7151702B2 (ja) | シンチレータパネル、放射線検出器、およびシンチレータパネルの製造方法 | |
KR102098124B1 (ko) | 신틸레이터 패널 | |
JP6277721B2 (ja) | 放射線検出装置およびその製造方法 | |
EP3067332B1 (en) | Method for manufacturing three-dimensional structure, method for manufacturing scintillator panel, three-dimensional structure, and scintillator panel | |
WO2014077178A1 (ja) | シンチレータパネル | |
WO2014021415A1 (ja) | シンチレータパネルおよびシンチレータパネルの製造方法 | |
WO2014080816A1 (ja) | シンチレータパネルおよびシンチレータパネルの製造方法 | |
JP6075028B2 (ja) | シンチレータパネル | |
JP7136188B2 (ja) | シンチレータパネル、放射線検出器、およびシンチレータパネルの製造方法 | |
JP6984515B2 (ja) | シンチレータパネルおよびシンチレータパネルの製造方法 | |
JP7347292B2 (ja) | 放射線検出器 | |
JP6662291B2 (ja) | 大型構造物の検査装置 | |
JP6217076B2 (ja) | シンチレータパネルおよびシンチレータパネルの製造方法 | |
JP2014126362A (ja) | シンチレータパネルおよびシンチレータパネルの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220207 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20220207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220315 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220512 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220802 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220815 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7136188 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |