JPH05332792A - レーザエンコーダ及びその製造方法 - Google Patents
レーザエンコーダ及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH05332792A JPH05332792A JP4160214A JP16021492A JPH05332792A JP H05332792 A JPH05332792 A JP H05332792A JP 4160214 A JP4160214 A JP 4160214A JP 16021492 A JP16021492 A JP 16021492A JP H05332792 A JPH05332792 A JP H05332792A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- encoder
- laser
- film
- diffraction grating
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
- Optical Transform (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 化学的にも機械的にも十分な耐久性を有し、
しかも高反射率を維持することができるレーザエンコー
ダ及びその製造方法を提供すること。 【構成】 エンコーダ基体に回析格子を構成する磁性体
等を塗布する前に光シャワー法によって基体表面を洗浄
し、該磁性体を塗布した後で、回析格子を形成し、該回
析格子の表面に高反射膜としてＣｕ，Ａｇ，又はＡｕを
真空成膜法により形成し、更に該高反射膜の上に透明ア
モルファスフッ素樹脂保護膜を形成した。
しかも高反射率を維持することができるレーザエンコー
ダ及びその製造方法を提供すること。 【構成】 エンコーダ基体に回析格子を構成する磁性体
等を塗布する前に光シャワー法によって基体表面を洗浄
し、該磁性体を塗布した後で、回析格子を形成し、該回
析格子の表面に高反射膜としてＣｕ，Ａｇ，又はＡｕを
真空成膜法により形成し、更に該高反射膜の上に透明ア
モルファスフッ素樹脂保護膜を形成した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレーザエンコーダ及びそ
の製造方法の改良に関する。
の製造方法の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学式のエンコーダは、ＯＡ機器、計測
機器等の可動部分の変位や速度を検出し、機器のマイコ
ン制御などに利用されるものであり、検出結果をディジ
タル信号にて出力する。光学式エンコーダの中でもレー
ザ光を光源として用いるレーザエンコーダは基体上に回
析格子を形成することによりスケール格子とし、この格
子にコヒーレントなレーザ光を照射することにより回析
光を得るようにしているので、微小ピッチの格子を用い
ることができる。また、超微細加工技術の発達により高
精度な微小ピッチの格子の作成が容易になったために、
レーザエンコーダの分解能及び精度が一段と向上してい
る。
機器等の可動部分の変位や速度を検出し、機器のマイコ
ン制御などに利用されるものであり、検出結果をディジ
タル信号にて出力する。光学式エンコーダの中でもレー
ザ光を光源として用いるレーザエンコーダは基体上に回
析格子を形成することによりスケール格子とし、この格
子にコヒーレントなレーザ光を照射することにより回析
光を得るようにしているので、微小ピッチの格子を用い
ることができる。また、超微細加工技術の発達により高
精度な微小ピッチの格子の作成が容易になったために、
レーザエンコーダの分解能及び精度が一段と向上してい
る。
【０００３】レーザエンコーダの基体上には反射型の回
析格子が形成されているが、その検出効率を高める為
に、回析格子の表面に反射増加膜を積層形成する必要が
ある。使用光源との関係で一般には近赤外域に対して高
い反射率を有するＡｕ，Ｃｕ，Ａｇ等の金属材料を用い
ることに成るが、Ｃｕ，Ａｇは化学的に変化し易いた
め、空気中で侵食され易く、きず付き易いといった問題
がある。このため、化学的に安定した耐久性を有してい
るＡｕが反射増加膜として利用されているが、きず付き
易く、膜が剥れ易い為、取扱に不便であり、しかもコス
ト的に高くなるという欠点を有する。
析格子が形成されているが、その検出効率を高める為
に、回析格子の表面に反射増加膜を積層形成する必要が
ある。使用光源との関係で一般には近赤外域に対して高
い反射率を有するＡｕ，Ｃｕ，Ａｇ等の金属材料を用い
ることに成るが、Ｃｕ，Ａｇは化学的に変化し易いた
め、空気中で侵食され易く、きず付き易いといった問題
がある。このため、化学的に安定した耐久性を有してい
るＡｕが反射増加膜として利用されているが、きず付き
易く、膜が剥れ易い為、取扱に不便であり、しかもコス
ト的に高くなるという欠点を有する。
【０００４】
【発明の目的】本発明は上記に鑑みてなされたものであ
り、化学的にも機械的にも十分な耐久性を有し、しかも
高反射率を維持することができるレーザエンコーダ及び
その製造方法を提供することを目的としている。
り、化学的にも機械的にも十分な耐久性を有し、しかも
高反射率を維持することができるレーザエンコーダ及び
その製造方法を提供することを目的としている。
【０００５】
【発明の構成】上記目的を達成するため本発明では、エ
ンコーダ基体に回析格子を構成する磁性体等を塗布する
前に光シャワー法によって基体表面を洗浄し、磁性体を
塗布した後で、回析格子を形成し、その表面に高反射膜
としてＣｕ，Ａｇ，Ａｕ等を真空成膜法により形成す
る。次いで、その上に透明で化学的、機械的な耐久性を
有するピンホールフリーのアモルファスフッ素樹脂保護
膜をスピンコート法、ディップコート法、シャワーコー
ト法等により積層形成した。
ンコーダ基体に回析格子を構成する磁性体等を塗布する
前に光シャワー法によって基体表面を洗浄し、磁性体を
塗布した後で、回析格子を形成し、その表面に高反射膜
としてＣｕ，Ａｇ，Ａｕ等を真空成膜法により形成す
る。次いで、その上に透明で化学的、機械的な耐久性を
有するピンホールフリーのアモルファスフッ素樹脂保護
膜をスピンコート法、ディップコート法、シャワーコー
ト法等により積層形成した。
【０００６】このため、化学的、機械的耐久性が高く、
しかも高反射率のレーザエンコーダを得ることが可能と
なる。
しかも高反射率のレーザエンコーダを得ることが可能と
なる。
【０００７】以下、添付図面により本発明を詳細に説明
する。図１は本発明のレーザエンコーダの製造方法によ
る製造手順の一実施例を示す断面図であり、本発明方法
においては、エンコーダ基体１を湿式法によって洗浄し
た後に、紫外線洗浄装置を用いて１１０Ｗの低圧水銀ラ
ンプにて１２０ｍｍ離間した位置から波長１８４．９ｎ
ｍの光と２５３．７ｎｍの光を４０秒間照射することに
より光洗浄を行った。続いて、エンコーダ基体１表面に
磁性体等をスピンコート法により塗布した後に電子リソ
グラフィ、フォトエッチング技術等による超微細加工に
よって所望の格子パターン２を形成してから、その上に
真空成膜装置を用いて銀Ａｇを約１０００Åの厚さに積
層することにより反射膜３を形成した。続いて、スピン
コート法により透明フッ素樹脂（サイトップＣＴＸ８０
０旭硝子製）の５％溶液を反射膜３の表面にスピンスピ
ード３０００ｒｐｍで塗布し、これを乾燥させて厚さ
０．４μｍの透明アモルファスフッ素樹脂保護膜４を形
成することによりレーザエンコーダを完成した。なお、
このフッ素樹脂保護膜４は透明で化学的、機械的な耐久
性を有するピンホールフリーの材質から構成している点
が特徴的である。
する。図１は本発明のレーザエンコーダの製造方法によ
る製造手順の一実施例を示す断面図であり、本発明方法
においては、エンコーダ基体１を湿式法によって洗浄し
た後に、紫外線洗浄装置を用いて１１０Ｗの低圧水銀ラ
ンプにて１２０ｍｍ離間した位置から波長１８４．９ｎ
ｍの光と２５３．７ｎｍの光を４０秒間照射することに
より光洗浄を行った。続いて、エンコーダ基体１表面に
磁性体等をスピンコート法により塗布した後に電子リソ
グラフィ、フォトエッチング技術等による超微細加工に
よって所望の格子パターン２を形成してから、その上に
真空成膜装置を用いて銀Ａｇを約１０００Åの厚さに積
層することにより反射膜３を形成した。続いて、スピン
コート法により透明フッ素樹脂（サイトップＣＴＸ８０
０旭硝子製）の５％溶液を反射膜３の表面にスピンスピ
ード３０００ｒｐｍで塗布し、これを乾燥させて厚さ
０．４μｍの透明アモルファスフッ素樹脂保護膜４を形
成することによりレーザエンコーダを完成した。なお、
このフッ素樹脂保護膜４は透明で化学的、機械的な耐久
性を有するピンホールフリーの材質から構成している点
が特徴的である。
【０００８】図２は上記方法によって製造したレーザエ
ンコーダの分光反射特性を示す図であり、良好な反射率
を有する有することが明らかである。次に、図１を用い
て本発明の他の製造方法を説明する。この実施例では上
記第１実施例と同様の手順により光洗浄を行ったエンコ
ーダ基体１表面に磁性体等をスピンコート法により塗布
した後に電子リソグラフィ、フォトエッチング技術等に
よる超微細加工によって所望の格子パターン２を形成し
てから、その上に銅Ｃｕから成る反射膜３を真空成膜装
置を用いて約１２００Åの厚さに積層し、更にその上に
第１実施例と同様に透明フッ素樹脂４を厚さ０．３８μ
ｍに積層することにより、レーザエンコーダを得てい
る。こうして得られたレーザエンコーダの分光反射特性
は図３に示すように良好であり、実用性の高いものとな
った。
ンコーダの分光反射特性を示す図であり、良好な反射率
を有する有することが明らかである。次に、図１を用い
て本発明の他の製造方法を説明する。この実施例では上
記第１実施例と同様の手順により光洗浄を行ったエンコ
ーダ基体１表面に磁性体等をスピンコート法により塗布
した後に電子リソグラフィ、フォトエッチング技術等に
よる超微細加工によって所望の格子パターン２を形成し
てから、その上に銅Ｃｕから成る反射膜３を真空成膜装
置を用いて約１２００Åの厚さに積層し、更にその上に
第１実施例と同様に透明フッ素樹脂４を厚さ０．３８μ
ｍに積層することにより、レーザエンコーダを得てい
る。こうして得られたレーザエンコーダの分光反射特性
は図３に示すように良好であり、実用性の高いものとな
った。
【０００９】上記の第１及び第２の実施例によって得ら
れたレーザエンコーダを、温度４５℃、相対湿度９５％
の雰囲気中に２４時間放置する耐湿度試験と、同じ環境
下に７２時間放置する耐湿度試験を夫々行ったが、上記
レーザエンコーダ表面に曇りが発生したり、反射膜３の
剥離等の異常が発生することはなく、高反射率を維持し
ていた。上記各製造方法によって得られたレーザエンコ
ーダは、図１に示した如く表面に透明アモルファスフッ
素樹脂層４を有する構造であるため、温湿度条件の悪い
使用環境下でも反射率は低下することなく、長期間に渡
って検出効率の優れた安定した特性を維持することがで
きる。
れたレーザエンコーダを、温度４５℃、相対湿度９５％
の雰囲気中に２４時間放置する耐湿度試験と、同じ環境
下に７２時間放置する耐湿度試験を夫々行ったが、上記
レーザエンコーダ表面に曇りが発生したり、反射膜３の
剥離等の異常が発生することはなく、高反射率を維持し
ていた。上記各製造方法によって得られたレーザエンコ
ーダは、図１に示した如く表面に透明アモルファスフッ
素樹脂層４を有する構造であるため、温湿度条件の悪い
使用環境下でも反射率は低下することなく、長期間に渡
って検出効率の優れた安定した特性を維持することがで
きる。
【００１０】
【発明の効果】以上のように本発明のレーザエンコーダ
の製造方法にあっては、エンコーダ基体の表面に回析格
子を構成する磁性体を塗布する前に、光洗浄によってエ
ンコーダ基体表面を洗浄するようにしたので、精度の高
い微細な回析格子を形成することができ、しかも金属反
射膜３を形成したあと、透明アモルファスフッ素樹脂４
をスピンコート法、ディップコート、シャワーコート法
等により積層するようにしたので、基体の形状や大きさ
に制約されずにフッ素樹脂４を簡易に形成することがで
きる。また、このフッ素樹脂４は保護膜として十分な耐
久性を有するので、温湿度条件の悪い使用環境下でも反
射率は低下することなく、長期間に渡って検出効率の優
れた安定した特性を維持することができる。
の製造方法にあっては、エンコーダ基体の表面に回析格
子を構成する磁性体を塗布する前に、光洗浄によってエ
ンコーダ基体表面を洗浄するようにしたので、精度の高
い微細な回析格子を形成することができ、しかも金属反
射膜３を形成したあと、透明アモルファスフッ素樹脂４
をスピンコート法、ディップコート、シャワーコート法
等により積層するようにしたので、基体の形状や大きさ
に制約されずにフッ素樹脂４を簡易に形成することがで
きる。また、このフッ素樹脂４は保護膜として十分な耐
久性を有するので、温湿度条件の悪い使用環境下でも反
射率は低下することなく、長期間に渡って検出効率の優
れた安定した特性を維持することができる。
【図１】本発明方法の手順及び本発明のレーザエンコー
ダの構造を示す図。
ダの構造を示す図。
【図２】第１実施例により得られたレーザエンコーダの
分光反射特性を示す図。
分光反射特性を示す図。
【図３】第２実施例により得られたレーザエンコーダの
分光反射特性を示す図である。
分光反射特性を示す図である。
１ エンコーダ基体、２ 格子パターン、３ 反射膜、
４ 透明フッ素樹脂
４ 透明フッ素樹脂
Claims (4)
- 【請求項１】 エンコーダ基体に形成されている回析格
子の表面上に金属反射膜を有し、該金属反射膜の上に透
明アモルファスフッ素樹脂保護膜を有していることを特
徴とするレーザエンコーダ。 - 【請求項２】 前記金属反射膜が、銀Ａｇ，銅Ｃｕ，ま
たは金Ａｕであることを特徴とする請求項１記載のレー
ザエンコーダ。 - 【請求項３】 エンコーダ基体に回析格子を構成する磁
性体等を塗布する前に光シャワー法によって基体表面を
洗浄し、該磁性体を塗布した後で、回析格子を形成し、
該回析格子の表面に高反射膜としてＣｕ，Ａｇ，又はＡ
ｕを真空成膜法により形成し、更に該高反射膜の上に透
明アモルファスフッ素樹脂保護膜を形成したことを特徴
とするレーザエンコーダの製造方法。 - 【請求項４】 前記透明アモルファスフッ素樹脂保護膜
を、スピンコート法、ディップコート法、シャワーコー
ト法等により前記エンコーダ基体表面に形成することを
特徴とする請求項３記載のレーザエンコーダの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4160214A JPH05332792A (ja) | 1992-05-27 | 1992-05-27 | レーザエンコーダ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4160214A JPH05332792A (ja) | 1992-05-27 | 1992-05-27 | レーザエンコーダ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05332792A true JPH05332792A (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=15710211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4160214A Pending JPH05332792A (ja) | 1992-05-27 | 1992-05-27 | レーザエンコーダ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05332792A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012027007A (ja) * | 2010-06-22 | 2012-02-09 | Mori Seiki Co Ltd | 光学スケール |
| JP2019100896A (ja) * | 2017-12-05 | 2019-06-24 | 株式会社ミツトヨ | スケールおよびその製造方法 |
| JP2019120499A (ja) * | 2017-12-28 | 2019-07-22 | 株式会社ミツトヨ | スケールおよびその製造方法 |
| WO2020179322A1 (ja) * | 2019-03-01 | 2020-09-10 | 東レ株式会社 | シンチレータパネル、放射線検出器、およびシンチレータパネルの製造方法 |
| DE102021000801A1 (de) | 2020-02-20 | 2021-08-26 | Mitutoyo Corporation | Skala |
-
1992
- 1992-05-27 JP JP4160214A patent/JPH05332792A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012027007A (ja) * | 2010-06-22 | 2012-02-09 | Mori Seiki Co Ltd | 光学スケール |
| JP2019100896A (ja) * | 2017-12-05 | 2019-06-24 | 株式会社ミツトヨ | スケールおよびその製造方法 |
| CN110006347A (zh) * | 2017-12-05 | 2019-07-12 | 株式会社三丰 | 刻度尺及其制造方法 |
| JP2019120499A (ja) * | 2017-12-28 | 2019-07-22 | 株式会社ミツトヨ | スケールおよびその製造方法 |
| WO2020179322A1 (ja) * | 2019-03-01 | 2020-09-10 | 東レ株式会社 | シンチレータパネル、放射線検出器、およびシンチレータパネルの製造方法 |
| JPWO2020179322A1 (ja) * | 2019-03-01 | 2020-09-10 | ||
| CN113498481A (zh) * | 2019-03-01 | 2021-10-12 | 东丽株式会社 | 闪烁体面板、放射线检测器和闪烁体面板的制造方法 |
| TWI821527B (zh) * | 2019-03-01 | 2023-11-11 | 日商東麗股份有限公司 | 閃爍器面板、放射線檢測器、及閃爍器面板之製造方法 |
| DE102021000801A1 (de) | 2020-02-20 | 2021-08-26 | Mitutoyo Corporation | Skala |
| US11808611B2 (en) | 2020-02-20 | 2023-11-07 | Mitutoyo Corporation | Scale |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7582857B2 (en) | Sensor and polarimetric filters for real-time extraction of polarimetric information at the focal plane | |
| US4636403A (en) | Method of repairing a defective photomask | |
| CN111029416A (zh) | 一种圆偏振光探测器件及其制备方法 | |
| CN106324729B (zh) | 基于激光全息石墨烯金属复合表面拉曼增强基底加工方法 | |
| EP0419369A1 (fr) | Procédé de microlithographie en champ proche optique et dispositifs de microlithographie le mettant en oeuvre | |
| WO1999038040A1 (fr) | Masque de phase destine a la fabrication d'un reseau de diffraction et procede de fabrication | |
| CN115469511A (zh) | 一种基于双层光刻胶的光刻方法 | |
| JPH05332792A (ja) | レーザエンコーダ及びその製造方法 | |
| JP4507928B2 (ja) | ホログラフィックグレーティング製造方法 | |
| WO2005050719A1 (en) | Fabrication method of extreme ultraviolet radiation mask mirror using atomic force microscope lithography | |
| CN110143566B (zh) | 一种三维微纳折纸结构的制备方法 | |
| EP0119310B1 (en) | Method of fabricating a pellicle cover for projection printing system | |
| JP2005303197A (ja) | 微細構造形成方法 | |
| US3659510A (en) | Apparatus and method utilizable in forming metal grids | |
| JP2742683B2 (ja) | 透過型回折格子の製造方法 | |
| JPS60230650A (ja) | 微細パタ−ンの製作法 | |
| Koronkevich et al. | Laser thermochemical technology for synthesizing optical diffraction elements utilizing chromium films | |
| JPH02228608A (ja) | グリッド偏光子 | |
| JP3297443B2 (ja) | パターンを転写する装置 | |
| JP6014096B2 (ja) | パターン形成方法 | |
| JP6805315B1 (ja) | パターン化ライトガイド構造及びそれを形成する方法 | |
| CN1063552C (zh) | 一种量子线超微细图形的制作方法 | |
| TWI336766B (ja) | ||
| JP2005321623A (ja) | 光学素子、光学素子の製造方法、及び極端紫外線露光装置 | |
| JP2004138503A (ja) | 近接場光プローブ |