JP2742683B2 - 透過型回折格子の製造方法 - Google Patents
透過型回折格子の製造方法Info
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- JP2742683B2 JP2742683B2 JP61187094A JP18709486A JP2742683B2 JP 2742683 B2 JP2742683 B2 JP 2742683B2 JP 61187094 A JP61187094 A JP 61187094A JP 18709486 A JP18709486 A JP 18709486A JP 2742683 B2 JP2742683 B2 JP 2742683B2
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- Japan
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- diffraction grating
- grating
- sio
- manufacturing
- inorganic dielectric
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Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は回折格子，殊に各種光学機器又は光ディスク
装置のピックアップに用いられる透過型回折格子に関す
る。 （従来技術） 微細加工技術の発達によって，各種光学機器に使用さ
れる回折格子の製造方法も基板上に付着した金属又は誘
電体にエッチングを施してグレーティングを形成するの
が一般的になってきた。 しかしながら，上述したような手法による回折格子，
殊に透過型のものは，一般に安価な般用ガラスを基板と
しその表面にSiO2のような誘電体物質によってグレーテ
ィングを形成するものであるが，ガラスとSiO2とのエッ
チング速度がほぼ等しいこともあって例えばリフトオフ
エッチング方式のような複雑な製造工程を必要とするた
め高価であるという欠陥があった。 （本発明の目的） 本発明は上述したような従来の回折格子の欠陥を除去
するためになされたものであって，材料を適切に選択す
ることによって極めて簡単安価に製造することのできる
透過型回折格子を提供することを目的とする。 （発明の概要） 上述した目的を達成するため本発明の回折格子はグレ
ーティングを形成する材料であるSiO2のような誘電体物
質のエッチング速度が水晶等のそれに比べて極めて大き
いことを利用しこのような材料を組み合わせることによ
って簡単なエッチング工程を用いて実現するものであ
る。 （実施例） 以下本発明を図示した実施例に基づき詳細に説明す
る。 実施例の説明に先立って本発明の理解を助けるため従
来の回折格子の製造工程について簡単に説明する。 第２図は従来の透過型回折格子の製造工程を説明する
図であって，安価な般用ガラスを基板１とし（ａ）その
一表面に例えばAg2を全面蒸着し（ｂ）これをエッチン
グして所定の金属グレーティングを形成する。次いで前
記金属グレーティングを形成した面に（ｃ）全面的にSi
O2３を蒸着するとともにその裏面に反射防止用のコーテ
ィング４を施し（ｄ）これをアンモニアと過酸化水素水
を主体とするエッチング液にてエッチングを行ない前記
Agのグレーティング２を除去しSiO2のグレーティングを
形成するもの（ｅ）である。 このように複雑な工程を必要とする理由はグレーティ
ングを構成するSiO2をとかすのに適したフッ酸系のエッ
チング液を用いれば基板も同時に犯されるからである。 従って単純なエッチング工程を利用することができず
高価になること前述の通りである。この問題を解決する
ため本発明の回折格子は第１図に示すような材料および
工程によって製造する。 まず基板として水晶５を用い（ａ）その一表面にSiO2
３を全面蒸着し（ｂ）さらにその裏面に反射防止用のコ
ーティング４を施し（ｃ）これをフッ酸系のエッチング
液にてエッチングを行ないSiO2による所望のグレーティ
ングを形成する。 尚、SiO2のグレーティングを形成するには、従来より
用いられているように、SiO2３の蒸着膜上にホトレジス
ト膜を設け、該ホトレジスト膜を露光現像することによ
りパターンを形成し、この状態でフッ酸系のエッチング
液にてエッチングを行えばよい。水晶基板５はSiO2３に
比べてフッ酸系エッチング液によるエッチング速度がは
るかに（約1/10）遅いのでSiO2によるグレーティング形
成が完了するまでの間に実質的にエッチング液に犯され
ることがなく良好な回折格子を得ることができる。 以上水晶とSiO2との組み合わせによる回折格子につい
てのみ説明したが本発明ははこれに限定されるものでは
なく基板材料のエッチング速度がグレーティング材料の
それよりも大巾に遅い組み合わせであって，基板および
グレーティングの材質が光を透過するものであれば各種
の材質を使用することが可能である。例えば基板として
は水晶の他合成石英又は人造サファイア等が，グレーテ
ィング材料としてはSiO2の他TiO2又はAl2Ｏ3等が適当で
ありこれらを設計条件に応じて適宜組み合わせればよ
い。 （発明の効果） 本発明は以上説明したように構成するものであるから
製造工程が極めて簡単になり従って価格も低くなるので
各種光学機器，殊に光ディスク装置の心臓部たる光ピッ
クアップのコスト低減に著しい効果を発揮する。
装置のピックアップに用いられる透過型回折格子に関す
る。 （従来技術） 微細加工技術の発達によって，各種光学機器に使用さ
れる回折格子の製造方法も基板上に付着した金属又は誘
電体にエッチングを施してグレーティングを形成するの
が一般的になってきた。 しかしながら，上述したような手法による回折格子，
殊に透過型のものは，一般に安価な般用ガラスを基板と
しその表面にSiO2のような誘電体物質によってグレーテ
ィングを形成するものであるが，ガラスとSiO2とのエッ
チング速度がほぼ等しいこともあって例えばリフトオフ
エッチング方式のような複雑な製造工程を必要とするた
め高価であるという欠陥があった。 （本発明の目的） 本発明は上述したような従来の回折格子の欠陥を除去
するためになされたものであって，材料を適切に選択す
ることによって極めて簡単安価に製造することのできる
透過型回折格子を提供することを目的とする。 （発明の概要） 上述した目的を達成するため本発明の回折格子はグレ
ーティングを形成する材料であるSiO2のような誘電体物
質のエッチング速度が水晶等のそれに比べて極めて大き
いことを利用しこのような材料を組み合わせることによ
って簡単なエッチング工程を用いて実現するものであ
る。 （実施例） 以下本発明を図示した実施例に基づき詳細に説明す
る。 実施例の説明に先立って本発明の理解を助けるため従
来の回折格子の製造工程について簡単に説明する。 第２図は従来の透過型回折格子の製造工程を説明する
図であって，安価な般用ガラスを基板１とし（ａ）その
一表面に例えばAg2を全面蒸着し（ｂ）これをエッチン
グして所定の金属グレーティングを形成する。次いで前
記金属グレーティングを形成した面に（ｃ）全面的にSi
O2３を蒸着するとともにその裏面に反射防止用のコーテ
ィング４を施し（ｄ）これをアンモニアと過酸化水素水
を主体とするエッチング液にてエッチングを行ない前記
Agのグレーティング２を除去しSiO2のグレーティングを
形成するもの（ｅ）である。 このように複雑な工程を必要とする理由はグレーティ
ングを構成するSiO2をとかすのに適したフッ酸系のエッ
チング液を用いれば基板も同時に犯されるからである。 従って単純なエッチング工程を利用することができず
高価になること前述の通りである。この問題を解決する
ため本発明の回折格子は第１図に示すような材料および
工程によって製造する。 まず基板として水晶５を用い（ａ）その一表面にSiO2
３を全面蒸着し（ｂ）さらにその裏面に反射防止用のコ
ーティング４を施し（ｃ）これをフッ酸系のエッチング
液にてエッチングを行ないSiO2による所望のグレーティ
ングを形成する。 尚、SiO2のグレーティングを形成するには、従来より
用いられているように、SiO2３の蒸着膜上にホトレジス
ト膜を設け、該ホトレジスト膜を露光現像することによ
りパターンを形成し、この状態でフッ酸系のエッチング
液にてエッチングを行えばよい。水晶基板５はSiO2３に
比べてフッ酸系エッチング液によるエッチング速度がは
るかに（約1/10）遅いのでSiO2によるグレーティング形
成が完了するまでの間に実質的にエッチング液に犯され
ることがなく良好な回折格子を得ることができる。 以上水晶とSiO2との組み合わせによる回折格子につい
てのみ説明したが本発明ははこれに限定されるものでは
なく基板材料のエッチング速度がグレーティング材料の
それよりも大巾に遅い組み合わせであって，基板および
グレーティングの材質が光を透過するものであれば各種
の材質を使用することが可能である。例えば基板として
は水晶の他合成石英又は人造サファイア等が，グレーテ
ィング材料としてはSiO2の他TiO2又はAl2Ｏ3等が適当で
ありこれらを設計条件に応じて適宜組み合わせればよ
い。 （発明の効果） 本発明は以上説明したように構成するものであるから
製造工程が極めて簡単になり従って価格も低くなるので
各種光学機器，殊に光ディスク装置の心臓部たる光ピッ
クアップのコスト低減に著しい効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
第１図（ａ）乃至（ｄ）は本発明の回折格子の製造工程
を説明する図，第２図（ａ）乃至（ｅ）は従来の回折格
子の製造工程を説明する図である。 １及び５……透明基板,3……グレーティング。
を説明する図，第２図（ａ）乃至（ｅ）は従来の回折格
子の製造工程を説明する図である。 １及び５……透明基板,3……グレーティング。
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．特定のエッチング液に対するエッチングスピードが
透明な無機誘電体物質に対するそれよりも約1/10以上遅
い透明基板の表面に前記無機誘電体物質による薄膜を所
定の厚み形成し、所定の格子形状を得るよう前記特定の
フォトエッチング液により前記無機誘電体物質をエッチ
ングすることでグレーティングを形成することを特徴と
する透過型回折格子の製造方法。 ２．前記透明基板が水晶、合成石英或いは人造サファイ
ヤであることを特徴とする特許請求の範囲（１）記載の
透過型回折格子の製造方法。 ３．前記無機誘電体物質がSiO2、TiO2或いはAl2Ｏ3であ
ることを特徴とする特許請求の範囲（２）記載の透過型
回折格子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61187094A JP2742683B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 透過型回折格子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61187094A JP2742683B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 透過型回折格子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6343101A JPS6343101A (ja) | 1988-02-24 |
| JP2742683B2 true JP2742683B2 (ja) | 1998-04-22 |
Family
ID=16200000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61187094A Expired - Lifetime JP2742683B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 透過型回折格子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2742683B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0212105A (ja) * | 1988-06-29 | 1990-01-17 | Nec Corp | 複屈折回折格子型偏光子 |
| JP2703930B2 (ja) * | 1988-06-29 | 1998-01-26 | 日本電気株式会社 | 複屈折回折格子型偏光子 |
| EP0448869A1 (en) * | 1989-12-29 | 1991-10-02 | AT&T Corp. | Optical device including a grating structure |
| KR940018710A (ko) * | 1993-01-28 | 1994-08-18 | 이헌조 | 홀로그램 광학 소자의 제조 방법 |
| JPH11237503A (ja) * | 1997-12-03 | 1999-08-31 | Canon Inc | 回折光学素子及びそれを有する光学系 |
| JP2002169010A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Minolta Co Ltd | 回折光学素子 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5538657B2 (ja) * | 1972-09-27 | 1980-10-06 | ||
| JPS56137634A (en) * | 1980-03-29 | 1981-10-27 | Rikagaku Kenkyusho | Pattern forming |
| JPS59198407A (ja) * | 1983-04-26 | 1984-11-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 回折格子付き光導波膜の製造方法 |
| JPS59210403A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-29 | Dainippon Printing Co Ltd | 回折格子の作製法 |
| JPS61137101A (ja) * | 1984-12-07 | 1986-06-24 | Pioneer Electronic Corp | マイクロフレネルレンズの製造方法 |
-
1986
- 1986-08-08 JP JP61187094A patent/JP2742683B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6343101A (ja) | 1988-02-24 |
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