JPS5929420A - Ｘ線マスクの製造方法 - Google Patents
Ｘ線マスクの製造方法Info
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- JPS5929420A JPS5929420A JP57139384A JP13938482A JPS5929420A JP S5929420 A JPS5929420 A JP S5929420A JP 57139384 A JP57139384 A JP 57139384A JP 13938482 A JP13938482 A JP 13938482A JP S5929420 A JPS5929420 A JP S5929420A
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- Japan
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- film
- silicon oxide
- oxide film
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- Pending
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/22—Masks or mask blanks for imaging by radiation of 100nm or shorter wavelength, e.g. X-ray masks, extreme ultraviolet [EUV] masks; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はＸ線露光用マスクの製造方法に関する。
従来、Ｘ線露光用のマスクの製造方法としては、第１図
に断面図で示した方法で製造されるのが通例であった。
に断面図で示した方法で製造されるのが通例であった。
すなわち、（ａ）シリコン基板１の表面にシリコン基板
を熱酸化して酸化シリコン膜２を形成し、該酸化シリコ
ン膜２の表面に化学蒸着法により窒化シリコン膜３を形
成し、該窒化シリコン膜３の表面に、図形状のＸ線阻止
能を有する金等の膜４を形成する。次で、（ｂ）シリコ
ン基板の裏面をシリコン枠５を残してエツチング除去し
てＸ線マスクとなす。
を熱酸化して酸化シリコン膜２を形成し、該酸化シリコ
ン膜２の表面に化学蒸着法により窒化シリコン膜３を形
成し、該窒化シリコン膜３の表面に、図形状のＸ線阻止
能を有する金等の膜４を形成する。次で、（ｂ）シリコ
ン基板の裏面をシリコン枠５を残してエツチング除去し
てＸ線マスクとなす。
上記従来技術によるＸ線マスクは、温度変化による図形
歪がある事、及び製法が複雑であるという欠点があった
〇 本発明はかかる従来技術の欠点をなくし、湿度変化によ
る図形歪のないＸ線マスクを簡便に製作する方法を提供
する事を目的とする。
歪がある事、及び製法が複雑であるという欠点があった
〇 本発明はかかる従来技術の欠点をなくし、湿度変化によ
る図形歪のないＸ線マスクを簡便に製作する方法を提供
する事を目的とする。
上記目的を達成するための本発明の基本的な構成は、Ｘ
線マスクの製造方法において、ポリイミド膜等の合成樹
脂膜またはガラス膜表面には酸化シリコン膜が形成され
、該酸化シリコン膜表面にはＸ線阻止能を有する図形状
の金等の膜が形成された基板膜を製作し、該基板膜の酸
化シリコン膜表面と別途製作された石英製の枠とを接着
剤により接着してＸ線マスクとなすことを特徴とする特
以下、実施例により本発明の詳細な説明する。
線マスクの製造方法において、ポリイミド膜等の合成樹
脂膜またはガラス膜表面には酸化シリコン膜が形成され
、該酸化シリコン膜表面にはＸ線阻止能を有する図形状
の金等の膜が形成された基板膜を製作し、該基板膜の酸
化シリコン膜表面と別途製作された石英製の枠とを接着
剤により接着してＸ線マスクとなすことを特徴とする特
以下、実施例により本発明の詳細な説明する。
第２図は本発明によるＸ線マスクの製造方法を工程毎の
断面図で示したものである。（σ）ポリイミド膜１１の
一平面に、（ｂ）スパッタ蒸着により酸化シリコン膜１
２を形成し、（ｃ）該酸化シリコン膜１２上に蒸着技術
およびホト・リゾグラフィー技術を用いて図形状の金膜
１５を形成後、（ｄ）酸化シリコン膜１２の表面と石英
製の枠１４とを５１（ＯＨ）７からなる液状接着剤１５
により接着・固化してＸ線マスクを製作する。
断面図で示したものである。（σ）ポリイミド膜１１の
一平面に、（ｂ）スパッタ蒸着により酸化シリコン膜１
２を形成し、（ｃ）該酸化シリコン膜１２上に蒸着技術
およびホト・リゾグラフィー技術を用いて図形状の金膜
１５を形成後、（ｄ）酸化シリコン膜１２の表面と石英
製の枠１４とを５１（ＯＨ）７からなる液状接着剤１５
により接着・固化してＸ線マスクを製作する。
本発明によ・り製作されたＸ線マスクは枠およびメンプ
ラン膜が主として酸化シリコンで形成されていたため、
温度変化による図形歪が発生せず、且つ、製法が簡単で
あるという効果がある。
ラン膜が主として酸化シリコンで形成されていたため、
温度変化による図形歪が発生せず、且つ、製法が簡単で
あるという効果がある。
第１図（α） ｌ （ｂ）は従来技術によるＸ線マスク
の製造方法を示す断面図、第２図（ａ） ＋ （ｂ）
＋ （（’） ＋ （ｄ）は本発明によるＸ線マスクの
製造方法を示す工程毎の断面図を示す。 １・゛シリコン基板 ２・・・・・酸イヒシリコン膜
３・・・窒化シリコン膜 ４・・・・・・全図形状膜５
・・・・・・シリコン枠 １１・・・・・合成樹脂膜またはガラス膜１２・・・・
酸化シリコン膜 １３・・・・・・全図形状膜 １４・・・・・石英枠 １５・・・・・・接着剤 以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士 最上 務ＪＡ′ １．−１ Ｓ
の製造方法を示す断面図、第２図（ａ） ＋ （ｂ）
＋ （（’） ＋ （ｄ）は本発明によるＸ線マスクの
製造方法を示す工程毎の断面図を示す。 １・゛シリコン基板 ２・・・・・酸イヒシリコン膜
３・・・窒化シリコン膜 ４・・・・・・全図形状膜５
・・・・・・シリコン枠 １１・・・・・合成樹脂膜またはガラス膜１２・・・・
酸化シリコン膜 １３・・・・・・全図形状膜 １４・・・・・石英枠 １５・・・・・・接着剤 以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士 最上 務ＪＡ′ １．−１ Ｓ
Claims (1)
- ポリイミド等の合成樹脂膜、またはガラス膜表面には酸
化シリコン膜が形成され、該酸化シリコン膜表面にはＸ
線阻止能を有する図形状の金等の膜が形成された基板膜
を製作し、該基板膜の酸化シリコン膜表面と別途製作さ
れた石英製の枠とを接着剤により接着してＸ線マスクと
なす事を特徴とするＸ線マスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57139384A JPS5929420A (ja) | 1982-08-11 | 1982-08-11 | Ｘ線マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57139384A JPS5929420A (ja) | 1982-08-11 | 1982-08-11 | Ｘ線マスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5929420A true JPS5929420A (ja) | 1984-02-16 |
Family
ID=15244053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57139384A Pending JPS5929420A (ja) | 1982-08-11 | 1982-08-11 | Ｘ線マスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5929420A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6135449A (ja) * | 1984-07-07 | 1986-02-19 | テレフンケン・エレクトロニク・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | レントゲンリトグラフイ用マスク |
| US6042272A (en) * | 1996-01-22 | 2000-03-28 | Nsk Ltd. | Rolling bearing with a sealing device |
-
1982
- 1982-08-11 JP JP57139384A patent/JPS5929420A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6135449A (ja) * | 1984-07-07 | 1986-02-19 | テレフンケン・エレクトロニク・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | レントゲンリトグラフイ用マスク |
| US6042272A (en) * | 1996-01-22 | 2000-03-28 | Nsk Ltd. | Rolling bearing with a sealing device |
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