JPH03132602A - 色分解用回折格子 - Google Patents

色分解用回折格子

Info

Publication number
JPH03132602A
JPH03132602A JP1269208A JP26920889A JPH03132602A JP H03132602 A JPH03132602 A JP H03132602A JP 1269208 A JP1269208 A JP 1269208A JP 26920889 A JP26920889 A JP 26920889A JP H03132602 A JPH03132602 A JP H03132602A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
films
diffraction grating
etching
plural layers
height
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1269208A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuaki Komatsu
克明 小松
Takuo Sato
佐藤 拓生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP1269208A priority Critical patent/JPH03132602A/ja
Priority to EP19900311350 priority patent/EP0424110A3/en
Publication of JPH03132602A publication Critical patent/JPH03132602A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/203Filters having holographic or diffractive elements
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3435Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/10Beam splitting or combining systems
    • G02B27/1006Beam splitting or combining systems for splitting or combining different wavelengths
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/10Beam splitting or combining systems
    • G02B27/1086Beam splitting or combining systems operating by diffraction only
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1847Manufacturing methods
    • G02B5/1857Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2203/00Production processes
    • C03C2203/50After-treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、色分解用回折格子に関する。
〈従来の技術〉 色分解素子として、例えば特公昭61−45210号公
報に示されるような回折格子がある。
この回折格子は、第2図に示すように、ガラス板等の透
明板の厚さをその板面上の一方向に沿って繰り返し階段
状に変化させ、この階段状の変化を、ある選択された波
長の整数倍の光路差が生じるように構成したもので、例
えば繰り返し3段に変化させて、R(赤)、G(緑)、
B(青)の色成分像を形成するものである。
これにより、例えば第3図にカラー画像のライン読取り
装置における使用例を示すごとく、原稿1上の1ライン
のカラー画像をレンズ2.スリット3.レンズ4を介し
て回折格子5に導光すれば、回折格子5により、RGB
に色分解して、3列に配置した各ラインセンサ6に読取
らせることができる。
ところで、従来の回折格子は、一般に、ガラス板をエツ
チングすることにより形成されており、以下にその製造
プロセスを示す(第4図参照)。
■ ガラス板10上に第1のレジストパターン11を形
成する。
■ エツチングを施して、第1のレジストパターン11
により覆われていないガラスFilOの表面を一定の深
さに食刻する。
■ 第1のレジストパターン11を除去する。
■ 第2のレジストパターン12を形成する。
■ エツチングを施して、第2のレジストパターン12
により覆われていない前回エツチングにより食刻した部
分の一部を更に一定の深さに食刻する。
■ 第2のレジストパターン12を除去する。
〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、このような製造方法では、一定のエツチ
ング深さを得るためにエツチング時間を制御するが、エ
ツチング速度を各部で均一にすることが難しく、エツチ
ング深さにバラツキを生じてしまい、回折格子における
階段の高さを素子内あるいは素子間で均一かつ精度よく
作成することが難しいという問題点があった。
本発明は、このよう・な従来の問題点に鑑みてなされた
もので、階段の高さを均一かつ精度よくすることが製造
上容易な構造の色分解用回折格子を提供することを目的
とする。
〈課題を解決するための手段〉 このため、本発明は、基板上に互、いに異なった材料か
らなる複数層の膜を形成し、これらの複数層の膜の一部
を順次エツチングすることにより階段状に形成して、色
分解用回折格子を構成したものである。
〈作用〉 すなわち、複数層の膜を順にエツチングして回折格子を
形成するが、複数層の膜を互いにエツチングの選択比が
高い材料で組合わせることにより、エツチング深さを膜
厚分に容易に規制でき、階段の高さを膜厚により決める
ことができる従って、素子内、素子間で階段の高さが一
定になる。
〈実施例〉 以下に本発明の実施例を第1図に基づいて説明する。
透明板の基板として、ガラス基板を使用し、2層の膜を
S L N4 、  S i Ozの組合わせにした場
合の製造プロセスを以下に示す。
(a)  膜形成 ガラス基板20上に、5irN4膜21,5in2膜2
2を順に積層する。これは、例えばスパッタ法。
真空蒸着法による。
(b)SiO□膜のバターニング Sin、膜22上にレジストパターンを形成し、SiO
□用のエツチング液(例えばフッ酸とフッ化アンモニウ
ムの混合液)を用いたエツチングにより、SjO□膜2
2の一部をその膜厚の深さまで食刻する。この後、レジ
ストを剥離する。
(C)Si、N、膜のバターニング Si、N4膜21及びSiO□膜22上22上ストパタ
ーンを形成し、ドライエツチングにより、Si、N、膜
21の一部をその膜厚の深さまで食刻する。この後、レ
ジストを剥離する。
従って、1回目のエツチングは5iOz膜22の膜厚分
、2回目のエツチングは5izN4膜21の膜厚分につ
いて行えばよく、これらの管理はエツチング方法の選択
により容易であるから、膜厚により階段の高さを決める
ことができ、階段の高さが一定になる。
尚、透明板の基板としては、ガラス基板の他、石英、ア
クリル樹脂等を使用することもできる。
また、複数層の膜としては、前記の例に限らず、エツチ
ング液に対する腐食性が異なるものであれば、各種のも
のを使用できる。
〈発明の効果〉 以上説明したように本発明によれば、色分解用回折格子
における階段の高さを均一かつ精度よくすることが製造
上容易となり、色分解性能が大幅に向上するという効果
が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例として色分解用回折格子の製
造プロセスを示す図、第2図は回折格子の形状を示す図
、第3図は回折格子の使用例を示す図、第4図は従来の
回折格子の製造プロセスを示す図である。 20・・・ガラス基板  21・・・Si3N4膜  
22・・・SiO□膜

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  透明板の厚さをその板面上の一方向に沿って繰り返し
    階段状に変化させてなる色分解用回折格子であって、基
    板上に互いに異なった材料からなる複数層の膜を形成し
    、これらの複数層の膜の一部を順次エッチングすること
    により階段状に形成したことを特徴とする色分解用回折
    格子。
JP1269208A 1989-10-18 1989-10-18 色分解用回折格子 Pending JPH03132602A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1269208A JPH03132602A (ja) 1989-10-18 1989-10-18 色分解用回折格子
EP19900311350 EP0424110A3 (en) 1989-10-18 1990-10-17 Diffraction grating for colour separation and method for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1269208A JPH03132602A (ja) 1989-10-18 1989-10-18 色分解用回折格子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03132602A true JPH03132602A (ja) 1991-06-06

Family

ID=17469179

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1269208A Pending JPH03132602A (ja) 1989-10-18 1989-10-18 色分解用回折格子

Country Status (2)

Country Link
EP (1) EP0424110A3 (ja)
JP (1) JPH03132602A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0749419A (ja) * 1993-01-28 1995-02-21 Gold Star Co Ltd ホログラム光学素子の製造方法
FR2716009A1 (fr) * 1994-02-08 1995-08-11 Bertin & Cie Procédé de réalisation d'un filtre optique à réjection de bandes dans l'infrarouge et filtre optique obtenu par ce procédé.

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4029912A1 (de) * 1990-09-21 1992-03-26 Philips Patentverwaltung Verfahren zur bildung mindestens eines grabens in einer substratschicht
DE4338969C2 (de) * 1993-06-18 1996-09-19 Schott Glaswerke Verfahren zur Herstellung anorganischer diffraktiver Elemente und Verwendung derselben
DE19502727A1 (de) * 1995-01-28 1996-08-01 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Phasengitter
JP3437517B2 (ja) * 1999-02-16 2003-08-18 キヤノン株式会社 二次元位相型光学素子の作製方法
CN116047987B (zh) * 2023-03-31 2023-06-16 福建天甫电子材料有限公司 用于电子级缓冲氧化物蚀刻液生产的智能控制系统

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1141373A1 (ru) * 1983-07-25 1985-02-23 Предприятие П/Я Г-4671 Способ изготовлени рельефных голограмм со ступенчатым профилем полос
US4888260A (en) * 1987-08-10 1989-12-19 Polaroid Corporation Volume phase reflection holograms and methods for fabricating them

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0749419A (ja) * 1993-01-28 1995-02-21 Gold Star Co Ltd ホログラム光学素子の製造方法
FR2716009A1 (fr) * 1994-02-08 1995-08-11 Bertin & Cie Procédé de réalisation d'un filtre optique à réjection de bandes dans l'infrarouge et filtre optique obtenu par ce procédé.

Also Published As

Publication number Publication date
EP0424110A2 (en) 1991-04-24
EP0424110A3 (en) 1991-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4155627A (en) Color diffractive subtractive filter master recording comprising a plurality of superposed two-level relief patterns on the surface of a substrate
JPH04246825A (ja) 基板層に溝を形成する方法
GB2421805A (en) Method of forming diffractive optical elements
JPH03132602A (ja) 色分解用回折格子
JPH07191209A (ja) 微小光学素子の製造方法
JPH0815510A (ja) バイナリーオプティクス及びその製造方法
US5300190A (en) Process of producing diffraction grating
JPH06258510A (ja) 回折格子製作用成形型およびその製造方法
JP2742683B2 (ja) 透過型回折格子の製造方法
JP2000303193A (ja) 微細構造の作成方法及び回折光学素子
US6656664B2 (en) Method of forming minute focusing lens
JP3576885B2 (ja) 素子の製造方法
JPH0226851B2 (ja)
JPS6127505A (ja) プレ−ズ光学素子の製造方法
KR100442294B1 (ko) 이미지 센서
JPH06258511A (ja) 回折格子製作用成形型およびその製造方法
JP3112153B2 (ja) グレーティングの作製方法
JPS60216304A (ja) 回折格子の製造方法
JPS63271206A (ja) 導波路形光回折素子の製造方法
JP3108986B2 (ja) 位相シフトマスクの製造方法
JPH10206665A (ja) 石英系光導波路の製造方法
JPH05164908A (ja) 拡散板の原型製造方法
JPS61189503A (ja) 回折格子の製造方法
JPS59208511A (ja) 色分解フイルタ−の製造方法
JPS6218559A (ja) 露光用マスク