JP2005321623A

JP2005321623A - 光学素子、光学素子の製造方法、及び極端紫外線露光装置

Info

Publication number: JP2005321623A
Application number: JP2004139802A
Authority: JP
Inventors: Shuichi Matsunari; 秀一松成
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2004-05-10
Filing date: 2004-05-10
Publication date: 2005-11-17

Abstract

【課題】厳密な保管環境管理や頻繁な洗浄が不要となり、撥水性や撥油性、防汚染性を発揮することができ、光学特性に対する影響を最小限に抑えることができる光学素子を提供する。
【解決手段】表面に保護膜を形成したい光学素子本体１と、有機分子を含む溶剤２（開放された容器に収納）を、密閉容器３に入れる。そして、密閉容器３を加熱炉４に入れて所定温度に加熱し、有機分子を蒸発させる。このようにすると、有機分子の蒸気が密閉容器３内の空間を満たし、光学素子本体１の表面において、表面の活性水素基と有機分子に含まれる反応基が化学反応して、光学素子表面に保護膜用有機分子の単分子膜が形成される。有機分子としては、フッ化炭素基を分子の少なくとも一端に有し、活性水素基と反応する官能基を分子の残りの少なくとも一つの端に有する有機分子を使用する。
【選択図】図１

Description

本発明は、表面に保護膜が形成された光学素子、その製造方法、及びこの光学素子を使用した極端紫外線露光装置に関するものである。

近年、半導体集積回路や液晶素子の微細化に伴い、光の回折限界によって制限される光学系の解像力を向上させるために、従来の紫外線に代えてこれより短い波長（数ｎｍ〜数十ｎｍ）の極端紫外線光（ＥＵＶと称することがある）を使用した投影リソグラフィ技術が開発されている（例えば、D. Tichenor, et al.、「ＳＰＩＥ」、１９９５年、第２４３７巻、ｐ．２９２参照）。このＥＵＶリソグラフィ技術は、従来の波長193.4ｎｍ程度の光線を用いた光リソグラフィでは実現不可能な、７０ｎｍ以下の解像力を得られる技術として期待されている。

ＥＵＶ光の波長領域での物質の複素屈折率ｎは、ｎ＝１−δ−ｉｋ（δ、ｋ：実数、ｉは複素記号）で表わされる。この屈折率の虚部ｋはＥＵＶ光の吸収を表す。δ、ｋは１に比べて小さいため、この領域での屈折率は１に非常に近い。したがって従来のレンズのような透過屈折型の光学素子を使用できない。屈折率が１よりも僅かに小さいことによる全反射を利用した斜入射ミラーや、界面での微弱な反射光を位相を合わせて多数重畳させて全体として高い反射率が得られる多層膜反射鏡等の光学素子が使用される。

13.4nm付近の波長域では、モリブデン（Mo）層とシリコン（Si）層を交互に積層したMo／Si多層膜を用いると垂直入射で67.5％の反射率を得ることができ、波長11.3nm付近の波長域では、Mo層とベリリウム（Be）層を交互に積層したMo／Be多層膜を用いると垂直入射で70.2％の反射率を得ることができる（例えば、C. Montcalm、「Proceedings of SPIE」、１９９８年、第３３３１巻、ｐ．４２参照）。

これら光学素子を長期保管した場合、保管環境中に含まれる水や有機物・無機物が前記光学素子表面に付着して、酸化などの化学変化を起こしたり汚れを発生させる。化学変化が生じた場合には恒久的に、汚れた場合も保管の度に光学素子の分光特性に変化が生じてしまう。そのため光学素子の品質保持のためには、厳密な保管環境管理や頻繁な洗浄を行うことが必要となる。これら厳密な保管環境管理や頻繁な洗浄が、コスト高や生産効率の低下をもたらす原因である。

このような問題に対処するために、従来、フッ化炭素や炭化水素を含む樹脂膜を保護膜として光学素子の表面に成膜し、フッ化炭素や炭化水素に起因する表面自由エネルギー低下を利用して、撥水性や撥油性、そして防汚染性を光学素子に生じさせる方法が知られている。この方法によれば、光学素子表面への水や有機物・無機物の吸着が少なくなるので、光学素子表面の化学反応を抑制する効果が生じる。

D. Tichenor, et al.、「ＳＰＩＥ」、１９９５年、第２４３７巻、ｐ．２９２ C. Montcalm、「Proceedings of SPIE」、１９９８年、第３３３１巻、ｐ．４２

しかし、上記の樹脂膜はマイクロメートルから数十ナノメートルオーダーの厚さを持っており、光学特性に影響を与える。すなわち、樹脂膜もまた屈折率や吸収を持つため、厚い樹脂膜は、保護したい光学素子の反射率や透過率というような光学特性を大きく変化させてしまう。そのため、樹脂膜を光学素子の保護膜として利用する場合には、光学素子を実際に光学系に組み込んで使用する際に、保護膜の樹脂膜を剥がすという方法と、樹脂膜を光学薄膜の一部として光学素子最表層に組み込む方法が用いられている。

樹脂膜を光学素子の保護膜としてつけ、光学素子を実際に使用する際に樹脂膜を剥がす方法では、光学素子を傷つけることなく樹脂膜を剥がす方法が問題になる。特に、多層膜同士、又は多層膜とその下の基材との密着力の弱い光学素子では、光学素子を傷つけることなく樹脂膜を剥がすことは困難である。また、長期保管において光学素子の劣化を定期的に検査する場合、保護膜である樹脂膜が邪魔となり、光学素子の特性が調べられないという問題がある。よって、検査の度に保護膜を剥離・付着するという作業を行わなければならず、面倒な工程が付加されることとなる。

一方、樹脂膜を光学薄膜の一部として光学素子最表層に組み込むことは、樹脂膜の吸収が無視できなくなる短波長で用いる光学素子においては、実現性に問題がある。

さらに、上記の厚い樹脂膜は、塗布・湿式引き上げ・スピンコート・真空蒸着・スパッタ法などで作製されていたが、これらは大がかりな装置を必要として、作製工程が複雑になるという問題がある。更に、形状の複雑な光学素子には樹脂膜をつけることが難しいという問題もある。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、新規な保護膜を備えることにより、厳密な保管環境管理や頻繁な洗浄が不要となり、撥水性や撥油性、防汚染性を発揮することができ、光学特性に対する影響を最小限に抑えることができる光学素子、及びその製造方法、さらにはこの光学素子を使用した極端紫外線露光装置を提供することを課題とする。

前記課題を解決するための第１の手段は、光学素子本体の表面を保護膜で覆われた光学素子であって、前記保護膜は、フッ化炭素基を分子の少なくとも一端に有し、活性水素基と反応する官能基を分子の残りの少なくとも一つの端に有する有機分子を、前記光学素子本体の表面全体に供給することにより前記光学素子本体上の活性水素基と前記官能基とを化学反応させて、前記光学素子本体の表面に固着させたものであることを特徴とする光学素子（請求項１）である。

光学素子本体として典型的なものは、前述のようにガラスなどの光学材料基板上に屈折率の異なるSi、Mo、Ｃ、Sr、Ｙ、Ru、Rhなどの金属、Ｂ_４Ｃなどの炭化物、その他化合物が交互に積層されたもので、分光特性を任意に変えたミラーなどの極端紫外線露光装置用の光学素子である。又、活性水素基として典型的なものは、−ＯＨ（水酸基）や−ＮＨ−（イミノ基）である。

本手段においては、フッ化炭素基を分子の少なくとも一端に有し、活性水素基と反応する官能基を分子の残りの少なくとも一つの端に有する有機分子を光学素子の表面全体に供給することにより光学素子上の活性水素基と前記官能基とを化学反応させ、前記光学素子の表面を有機分子のフッ化炭素基で覆った保護膜を作製する。これにより、フッ化炭素基に起因して光学素子の表面自由エネルギーが低下して、撥水性や撥油性、そして防汚染性を光学素子に生じさせることができる。また、吸着反応に大きく関与する活性な活性水素基を不活性なフッ化炭素基で置換することができ、汚れ・化学反応の原因となる有機・無機分子の吸着を抑えることができる。

本手段における保護膜により、光学素子を長期保管する際にも厳密な保管環境管理や頻繁な洗浄が不要となり、たとえ、汚れたとしても、光学素子の表面自由エネルギーが低下しているため、汚れ物質である有機・無機分子と光学素子表面との結合力が小さいので、有機溶剤をしみ込ました拭き布で拭くだけで簡単に汚れを取ることができる。

本手段においては、保護膜の膜厚が薄くても保護膜は光学素子表面と化学結合しているため、力学的には剥がれにくく、光学素子の保護膜として十分な耐性を有している。本発明の保護膜が光学素子の特性に与える影響は小さいので、長期保管において、保護膜を剥がすことなく光学素子の劣化を定期的に検査することができる。

又、本手段の保護膜は前述のような耐性を有するため、その耐性の範囲内で、保護膜を剥離せず光学素子を利用することも可能である。光学素子を長期使用している際に環境中に含まれる水や有機物・無機物が光学薄膜表面に付着する場合に、保護膜を剥離せず光学素子を利用しても、これらの付着を抑えることができる。

前記課題を解決するための第２の手段は、前記第１の手段であって、前記保護膜の膜厚が10nm以下であることを特徴とするもの（請求項２）である。

前記第１の手段においては、保護膜の膜厚が薄くても保護膜は光学素子表面と化学結合しているため、力学的には剥がれにくく、光学素子の保護膜として十分な耐性を有している。よって、保護膜の厚さを、従来の方法では不可能であった10nm以下とすることができ、これにより、光学素子の特性に与える保護膜の影響を小さくすることができる。

前記課題を解決するための第３の手段は、前記第１の手段又は第２の手段であって前記保護膜が単分子有機分子膜であることを特徴とするもの（請求項３）である。

前記第１の手段、第２の手段においては、保護膜の膜厚が薄くても保護膜は光学素子表面と化学結合しているため、力学的には剥がれにくく、光学素子の保護膜として十分な耐性を有している。よって、保護膜を単分子有機分子膜とすることができ、これにより、光学素子の特性に与える保護膜の影響を小さくすることができる。

前記課題を解決するための第４の手段は、前記第１の手段から第３の手段のいずれかであって、前記保護膜の前記光学素子本体表面に対する被覆率が１以下であることを特徴とするもの（請求項４）である。

前記第１の手段から第３の手段においては、保護膜用有機分子の被覆率が１より小さく、平均膜厚が単分子以下でも、光学素子表面の表面自由エネルギーが下がって、吸着反応に大きく関与する活性な活性水素基を不活性なフッ化炭素基で置換することができていれば、水や有機・無機分子の吸着を抑えることができる。

前記課題を解決するための第５の手段は、前記第１の手段から第４の手段のいずれかであって、前記保護膜が、紫外領域の光を照射することによって除去可能なものであることを特徴とするもの（請求項５）である。

前記第１の手段から第４の手段においては、保護膜と光学素子とは、光学素子上の活性水素基と有機分子の反応基とが化学反応してできた化学結合により結合されている。この化学結合が、紫外領域の光を照射することによって切断可能なものであれば、保護膜を容易に除去することができる。

前記課題を解決するための第６の手段は、前記第１の手段から第５の手段の光学素子を製造する方法であって、前記有機分子を前記光学素子本体の表面全体に供給する方法が、前記有機分子の蒸気が満たされた空間に前記光学素子本体を配置する方法であることを特徴とする光学素子の製造方法（請求項６）である。

本手段によれば、保護膜用有機分子の蒸気が満たされた空間に光学素子を配置し、必要に応じて加熱するだけで、保護膜を成膜できるため、製造工程も簡単で、塗布・湿式引き上げ・スピンコート・真空蒸着・スパッタ法と比べ、大がかりな装置を必要としない。又、気相反応を利用しているため形状の複雑な光学素子にも保護膜をつけることも容易である。

前記課題を解決するための第７の手段は、前記第１の手段から第６の手段のいずれかの光学素子を、光学系中に有することを特徴とする極端紫外線露光装置（請求項７）である。

本手段においては、第１の手段から第６の手段のいずれかの光学素子を、光学系中に有するので、それぞれの手段の説明において説明した作用効果を得ることができる。

本発明によれば、新規な保護膜を備えることにより、厳密な保管環境管理や頻繁な洗浄が不要となり、撥水性や撥油性、防汚染性を発揮することができ、光学特性に対する影響を最小限に抑えることができる光学素子、及びその製造方法、さらにはこの光学素子を使用した極端紫外線露光装置を提供することができる。

以下、本発明の実施の形態の例を説明する。図１は、本発明の実施の形態である光学素子を製造する方法の例を説明するための図である。表面に保護膜を形成したい光学素子本体１と、前記第１の手段で説明したような有機分子を含む溶剤２（開放された容器に収納）を、密閉容器３に入れる。そして、密閉容器３を加熱炉４に入れて所定温度（例えば５０〜１５０℃）に加熱し、有機分子を蒸発させる。

このようにすると、有機分子の蒸気が密閉容器３内の空間を満たし、光学素子本体１の表面において、表面の活性水素基と有機分子に含まれる官能基が化学反応して、光学素子表面に保護膜用有機分子の単分子膜が形成される。密閉容器に光学素子を入れておく時間は、反応が完了する時間であれば良く、有機分子としてメトキシシリル基やハロゲン化シリル基を用いる場合には２時間程度である。ただ、単分子保護膜の上に、更に保護膜用有機分子の膜が形成される速度は、光学素子表面に保護膜用有機分子の単分子膜が形成される速度に比べて格段に遅いため密閉容器３に光学素子本体１を入れておく時間を厳密に制御しなくてもよい。

本実施の形態において、保護膜を形成する有機分子、つまり保護膜用有機分子は、分子の少なくとも一端にＣＦ_３（ＣＦ_２）_ｎ（ＣＨ_２）_ｍ−（ｎ，ｍは０以上の整数、０のときは、その置換基が無いことを意味する）のようなフッ化炭素基を有し、分子の残りの少なくとも一つの端に活性水素基と反応する基、例えば−Ｓｉ−ＯＣＨ_３（メトキシシリル基）、−Ｓｉ−Ｃｌ（クロロシリル基）等を有するものである。

例えば、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_ｎ（ＣＨ_２）_ｍＳｉＸ_３−ａ（ＯＣＨ_３）_ａ（ｎ，ｍは０以上の整数、ＸはＨ、Ｃｌ、アルキル基、フッ化炭素基、ａは１、２又は３）で、例として以下のような有機分子を利用することができる。
ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＨ_２（ＯＣＨ_３）
ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２
ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＯＣＨ_３）
ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣｌ_３
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５ＣＨ_２ＣＨ_２（ＯＣＨ_３）
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＯＣＨ_３）
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣｌ_３
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２（ＯＣＨ_３）
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＯＣＨ_３）
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣｌ_３
このような有機分子を、蒸気として、蒸気が密閉容器３内の空間を満たし、光学素子本体１の表面において、表面の活性水素基と有機分子に含まれる官能基が化学反応して、光学素子表面に保護膜用有機分子の単分子膜が形成されるようにする。

その際、前処理として、紫外線オゾン洗浄や他の洗浄法により光学素子本体１の表面を洗浄し、活性水素基を活性化しておくと、有機分子と光学素子本体１との密着力が増すので好ましい。

有機分子として好適なものは、メトキシシリル基を有するフッ化炭素シラン分子であるが、活性水素基と反応する基であれば、特に限定されない。保護膜用有機分子を溶かす溶媒は、３Ｍ社製フロリナート（商品名）のように活性水素基や保護膜用有機分子と反応しない不活性非極性溶媒が適当である。

密閉容器３の加熱温度は、有機分子としてメトキシシリル基やクロロシリル基を用いる場合には、５０〜１５０℃の温度とすれば、常圧で活性水素基と反応させることができる。しかし、これらの温度と圧力は、用いる有機分子に応じて適当に決定すればよい。すなわち、これらの有機分子が、光学素子本体１の表面の活性水素基とさえ反応すればよく、有機分子の官能基が活性水素基と反応する温度と圧力に設定されればよい。ただし、200℃以上になるとフッ化炭素が分解し始めるので注意が必要である。

図２に、有機分子としてＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３を用いた場合の保護膜の形成の様子を示す。光学素子本体１の表面には図２（ａ）に示すように水酸基が存在するが、この水酸基がＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３と反応することにより、図２（ｂ）に示すように、光学素子本体１の表面に保護膜５が、単分子膜として化学結合により固定される。

このような工程で作製された保護膜においては、図２（ｂ）に示すように、保護膜用有機分子の一方の端にあるメトキシシリル基が光学素子本体１の表面に固定されるため、分子の他方の端になるフッ化炭素基が、光学素子の表面側に位置することになる。金属やその自然酸化物の表面自由エネルギーが200から800×10^−３Ｎ／ｍであるのに対し、フッ化炭素基が表面である固体の表面自由エネルギーが20から５×10^−３Ｎ／ｍであり、フッ化炭素基が光学素子の表面側に位置することにより、フッ化炭素基に起因した光学素子の表面自由エネルギーの低下が起き、撥水性や撥油性、そして防汚染性を光学素子に生じさせることができる。また、吸着反応に大きく関与する活性な活性水素基を不活性なフッ化炭素基で置換することができ、汚れの原因となる有機・無機分子の吸着を抑えることができる。光学素子表面への水や有機物・無機物の吸着が少なくなるので、光学特性の劣化を抑制する効果が生じる。

本実施の形態により形成される保護膜により、光学素子を長期保管する際にも厳密な保管環境管理や頻繁な洗浄が不要となり、たとえ、汚れたとしても、光学素子の表面自由エネルギーが低下しており汚れ物質である有機・無機分子と光学素子表面との結合力が小さいため、有機溶剤をしみ込ました拭き布で拭くだけで簡単に汚れを取ることができる。

上記の工程で作製された保護膜は単分子厚であるが、かならずしも膜厚が単分子厚である必要はない。

光学素子の表面が酸化物である場合、その表面は水酸基で覆われているため問題がないが、極端紫外露光装置用光学素子の光学薄膜において用いられるSiなどの金属でも、それらの表面酸化によって一部存在している水酸基などが保護膜用有機分子が反応する活性水素基となる。この場合、これら膜表面の活性水素基は少ないので、保護膜の被覆率が１より小さくなることがある。しかし、保護膜用有機分子の被覆率が１より小さく、平均膜厚が単分子以下でも、光学素子表面の表面自由エネルギーが下がって、吸着反応に大きく関与する活性な活性水素基を不活性なフッ化炭素基で置換することができていれば、水や有機・無機分子の吸着を抑えることができる。当然、膜厚が単分子厚以上であっても、保護膜の撥水性や撥油性、そして防汚染性などの性能が落ちるわけでない。

しかし、保護膜もまた屈折率や吸収をもつために、光学的膜厚が薄いほど光学素子の光学特性に与える影響は小さくなる。そのため、保護膜の膜厚は防汚染性といった性能を損なわない範囲で薄いほうが良く、保護膜用有機分子の分子鎖を短くするなどにより幾何膜厚を小さくしたり、単分子以下である方が望ましい。屈折率や吸収の小さい保護膜用有機分子を選ぶことも好ましい。

一方、保護膜を取り除いて光学素子を使用したい場合には、化学結合を切るような適当な強さの紫外光や極端紫外光の照射、例えばオゾン存在下でのＵＶランプによる紫外線連続照射や数J/cm^２のエキシマレーザー照射などの簡単な方法で保護膜を容易に取り除くことも可能である。

以下、本発明の実施の形態の１例であるＥＵＶ露光装置について、図３を参照して説明する。ＥＵＶ露光装置は、主にＥＵＶ光源２１および照明光学系２２とマスク２４のステージ２５、投影光学系２３、ウエハ２６のステージ２７で構成される。マスク２４には描画するパターンの等倍あるいは拡大パターンが形成されている。投影光学系２３は複数の反射鏡２３ａ〜２３ｄ等で構成され、マスク２４上のパターンをウエハ２６上に結像するようになっている。反射鏡２３ａ〜２３ｄの表面には反射率を高めるための多層光学薄膜が形成されている。

投影光学系２３は輪帯状の視野を有し、マスク２４の一部をなす輪帯状の領域のパターンを、ウエハ２６上に転写する。マスク２４も反射型のものが用いられる。露光の際は、ＥＵＶ光源２１よりのＥＵＶ光２８ａを照明光学系２２によって照明用ＥＵＶ光２８ｂとし、マスク２４上に照明用ＥＵＶ光２８ｂを照射し、その反射ＥＵＶ光２８ｃを、投影光学系２３を通してウエハ２６上に入射させる。マスク２４とウエハ２６を一定速度で同期走査させることで、所望の領域（例えば、半導体チップ１個分の領域）を露光するようになっている。

本実施の形態においては、反射鏡２３ａ〜２３ｄとして、本発明の多層膜ミラーを使用しているので、各ミラーにおいて、厳密な保管環境管理や頻繁な洗浄が不要となり、撥水性や撥油性、防汚染性を発揮するでき、光学特性に対する影響を最小限に抑えることができる。

なお、本発明の多層膜ミラーの保護膜は、ＥＵＶ光が照射されると除去されてしまい、ＥＵＶ露光特性には何ら影響を及ぼさない。

本発明の実施の形態である光学素子を製造する方法の例を説明するための図である。有機分子としてＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３を用いた場合の保護膜の形成の様子を示す図である。本発明の実施の形態の１例であるＥＵＶ露光装置の概要を示す図である。

符号の説明

１…光学素子本体、２…有機分子を含む溶剤、３…密閉容器、４…加熱炉、５…保護膜、２１…ＥＵＶ光源、２２…照明光学系、２３…投影光学系、２３ａ〜２３ｄ…反射鏡、２４…マスク、２５…マスクステージ、２６…ウエハ、２７…ウエハステージ、２８ａ…ＥＵＶ光、２８ｂ…照明用ＥＵＶ光、２８ｃ…反射ＥＵＶ光

Claims

光学素子本体の表面を保護膜で覆われた光学素子であって、前記保護膜は、フッ化炭素基を分子の少なくとも一端に有し、活性水素基と反応する官能基を分子の残りの少なくとも一つの端に有する有機分子を、前記光学素子本体の表面全体に供給することにより前記光学素子本体上の活性水素基と前記官能基とを化学反応させて、前記光学素子本体の表面に固着させたものであることを特徴とする光学素子。
請求項１に記載の光学素子であって、前記保護膜の膜厚が10nm以下であることを特徴とする光学素子。
請求項１又は請求項２に記載の光学素子であって、前記保護膜が単分子有機分子膜であることを特徴とする光学素子。
請求項１から請求項３のうちいずれか１項に記載の光学素子であって、前記保護膜の前記光学素子本体表面に対する被覆率が１以下であることを特徴とする光学素子。
請求項１から請求項４のうちいずれか１項に記載の光学素子であって、前記保護膜が、紫外領域の光を照射することによって除去可能なものであることを特徴とする光学素子。
請求項１から請求項５のうちいずれか１項に記載の光学素子を製造する方法であって、前記有機分子を前記光学素子本体の表面全体に供給する方法が、前記有機分子の蒸気が満たされた空間に前記光学素子本体を配置する方法であることを特徴とする光学素子の製造方法。
請求項１から請求項５のうちいずれか１項に記載の光学素子を、光学系中に有することを特徴とする極端紫外線露光装置。